【課題】搬送チャンバを小型化できる、生産性の高い、あるいは、稼働率の高い有機ＥＬデバイス製造装置または成膜装置あるいはシャドウマスク交換装置または同交換方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、真空チャンバであって、基板とシャドウマスクとのアライメントを行い、真空チャンバ内で蒸発源内の蒸着材料を基板に蒸着する真空蒸着チャンバと大気雰囲気部とに隣接し、前記２つの隣接部を介して前記真空蒸着チャンバに前記シャドウマスクを搬入出する手段を有するシャドウマスク交換室を設けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】回転成膜が可能で膜厚分布の向上が可能で、マスク本体の複数の開口部を任意の順序で開口させて種々の条件の蒸着が可能な技術を提供する。
【解決手段】本発明の真空処理装置１は、真空槽２内において複数の開口部８を有するマスク７を介して基板５０上に蒸着を行う。マスク７には、所定の基準配列方向に沿って複数の開口部８の列が設けられたマスク本体９を有し、マスク本体９には、複数の開口部８の列と対応し基準配列方向に延びる複数のマスクシャッター１０Ａ〜１０Ｄが一体的に設けられている。真空槽２内に把持部２５、２６を挿入してマスク７の所定のマスクシャッター１０を保持して基準配列方向に移動させ所定の開口部８を開口させる。蒸着時には把持部２５、２６を真空槽２外に取り出して基板５０をマスク７と共に一体的に回転させる。 （もっと読む）

【課題】蒸着工程時基板の重量によりマスク組立体のパターンが変形されることを防止して、蒸着精密度を向上させることができるマスク組立体及びこれを利用した平板表示装置用蒸着装置を提供する。
【解決手段】開口部１２０及び開口部を囲んだフレーム１１０を含むフレームマスク１００と；一つまたは複数のパターンが形成されるパターン部及び引張されてフレームと接合（溶接、半田付け、ロウ付け等）される接合部を含むパターンマスク２００；及び開口部を横切って、パターンマスクと接合（溶接、半田付け、ロウ付け等）される支持台３００を含むマスク組立体に関する。チャンバーと；チャンバーの下側に位置する蒸着源；及び蒸着源上に位置し、基板を支持するためのマスク組立体を含むことを特徴とする平板表示装置用蒸着装置に関する。 （もっと読む）

【課題】 従来の方法より安価なアクティブマトリクスＯＬＥＤディスプレイの製造方法を提供する。
【解決手段】 アクティブマトリクスＯＬＥＤディスプレイの製造方法において、画素の駆動のために、減少した数のフォトリソグラフィによる構造化段階により、少なくとも２つの薄膜トランジスタ及び記憶コンデンサを設ける。 （もっと読む）

【課題】薄膜化された基板を用いる場合でも、マスクのパターンが正確に基板上に形成できる、マスクユニット、およびマスクユニットを有する蒸着装置を提供する。
【解決手段】側面、開口部を有する上面、および底面を有し、上面に基板４を載置する基板置き台８と、基板置き台の中に配置され、上面に載置された基板４を開口部を介して支える基板押さえ板７と、第１マスク層１と第２マスク層２の積層構造を有し、開口パターン１０が設けられた蒸着マスク３であって、基板に接する第２マスク層の材料の熱膨張係数が、第１マスク層の材料の熱膨張係数より大きい蒸着マスクと、基板置き台の上面に、基板と蒸着マスクを載置した状態で固定する固定具９とを含み、蒸着マスクの開口パターンを通して、基板上にパターンを形成するためのマスクユニット１００であって、蒸着マスクは蒸着中に加熱されて変形し、基板と密着する。 （もっと読む）

【課題】シャドー現象を抑制して有機ＥＬ表示装置の画素領域を高精細に形成することが可能な蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着装置は、蒸着用の有機物を飛出する蒸着源と、被蒸着基板を搬送する搬送手段と、該搬送手段によって搬送される被蒸着基板を覆うと共にその被蒸着基板と共に搬送されるように設けられ且つ蒸着用の開口部が形成された蒸着マスクと、を備え、該蒸着源からの有機物を、該搬送手段によって搬送される被蒸着基板に、該蒸着マスクの開口部を介して蒸着させるように構成されている。上記蒸着マスクは、開口部における上記搬送手段による搬送方向に直交する方向の蒸着源位置に対する内側内壁が、蒸着源側から被蒸着基板側に向かうマスク厚さ方向において、内側から外側に向かう方向に傾斜した傾斜面に形成されている。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ表示装置の製造工程で用いられる、従来より薄いマスク装置のシャドーマスクを提供する。
【解決手段】基板６が真空処理装置１０内に搬入され、マスク装置１と基板６との位置合わせが行われる。マスク装置１は、枠体８と、枠体８上に配置される金属からなるテープ状のシャドーマスク２と、シャドーマスク２の一端を固定する固定装置３と、シャドーマスク２の他端部を水平方向から鉛直方向に変換する変換部材４と、他端に取り付けられた重り５とを有しており、重り５によってシャドーマスク２に張力が印加される。シャドーマスク２は、張力により弛まないので基板６との間に反応プラズマが入らない。従来より薄いシャドーマスク２によって、マスク装置１の周辺部分にある基板６表面も、より均一に成膜する事が出来る。 （もっと読む）

【課題】高真空装備内で大面積基板のチャッキング及びデチャッキングを安定的に制御できる静電チャックを提供する。
【解決手段】本発明の静電チャックは、中心部を貫通する少なくとも１つの開口部を備える絶縁プレートと、前記絶縁プレートに実装される一対の電極と、前記一対の電極に電圧を印加する第１コントローラと、前記絶縁プレートに隣接するように配置され、前記絶縁プレートの一面上に位置する帯電物体の静電荷が除去されるように前記少なくとも１つの開口部にイオンを放出する除電部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、蒸着回数を増やすことなく、マスクの強度も低下させずに、マスク蒸着法によって発光層を形成することを目的とする。
【解決手段】ピクセルグループＰＸＧが繰り返して横方向に並ぶ。第１ピクセルＰＸ_１で第１サブピクセルＳＰ_１に位置した第１色は、第２ピクセルＰＸ_２で第２サブピクセルＳＰ_２に位置し、第３ピクセルＰＸ_３で第３サブピクセルＳＰ_３に位置する。第１ピクセルＰＸ_１で第２サブピクセルＳＰ_２に位置した第２色は、第２ピクセルＰＸ_２で第３サブピクセルＳＰ_３に位置し、第３ピクセルＰＸ_３で第１サブピクセルＳＰ_１に位置する。第１ピクセルＰＸ_１で第３サブピクセルＳＰ_３に位置した第３色は、第２ピクセルＰＸ_２で第１サブピクセルＳＰ_１に位置し、第３ピクセルＰＸ_３で第２サブピクセルＳＰ_２に位置することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】装置自体の製造コストが安価で且つ高精度な位置決めを維持し得る真空蒸着用アライメント装置を提供する。
【解決手段】真空容器３内に保持されたマスクの上方に、真空容器の取付用フランジ１ａに形成された貫通穴１ｂを挿通された吊持部材12を介して保持された基板ホルダ11と、真空容器の外部に設けられると共に吊持部材に連結された連結用板体13と、この連結用板体を移動させて基板ホルダに保持された蒸着室２内の基板のマスクに対する位置を調整し得る位置調整手段14と、吊持部材に外嵌されると共に取付用フランジの貫通穴の外周と連結用板体との間に設けられて真空側と大気側とを遮断する伸縮式筒状遮断部材15と、連結用板体と取付用フランジとの間に設けられて、筒状遮断部材の内側が真空状態であることにより発生する連結用板体への押圧力と同等の付勢力を、当該押圧力と逆方向に発生させる空気圧シリンダ61とを具備したもの。 （もっと読む）

【課題】シャドウマスクの反りの影響を低減し、高精度に蒸着できる有機ＥＬデバイス製造装置及び成膜装置並びにそれらの製造方法及び成膜方法を提供することである。あるいは、駆動部等を大気側に配置あるいは配線を敷設することで真空内の粉塵やガスの発生を低減し、生産性の高い有機ＥＬデバイス製造装置及び成膜装置を提供することである。
【解決手段】本発明は、真空チャンバ内で基板とシャドウマスクとのアライメントを行ない、蒸発源内の蒸着材料を基板に蒸着する際に、前記基板を保持し、立てた姿勢に保持する基板ホルダーと、前記シャドウマスクを前記立てた姿勢の前記基板に対面するように保持するシャドウマスク保持手段とを有し、シャドウマスクの反りによる蒸着時の影響を低減することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高密度な有機薄膜をマスク成膜で成膜する
【解決手段】本発明に用いるマスク７０は、貫通孔７２の内壁面が傾斜し、貫通孔７２は基板７側程狭く、放出装置５０側程広くなっている。従って、マスク本体７１の厚さが５０μｍ以上２００μｍ以下と厚い場合であっても、貫通孔７２の底面７４縁部分に斜めに入射する蒸気も基板７に到達可能であり、膜厚均一な有機薄膜８が形成される。マスク本体７１が厚いため、マスク７０は変形し難く、洗浄等によって再利用が可能であり、成膜精度も落ちない。 （もっと読む）

【課題】陰極の面抵抗が抑制されたトップエミッション型のＥＬ装置を製造コストを増加させることなく得る。
【解決手段】第１の電極２５と、第１の電極２５に対向する第２の電極２７と、第１の電極２５と第２の電極２７との間に挟持されたＥＬ材料層を含む発光機能層２６と、を備え、ＥＬ材料層の発光を第２の電極２７を介して射出するＥＬ素子２９と、隣り合うＥＬ素子２９間を隔てる隔離領域１０２と、複数のＥＬ素子２９と隔離領域１０２を含む表示領域１００と、隔離領域１０２に形成された第２の電極２７と電気的に接続された補助配線と、を備えるＥＬ装置であって、補助配線は第１の方向に延在する第１の補助配線２１と、第２の方向に延在する第２の補助配線２２と、を含んでおり、第１の補助配線２１と第２の補助配線２２との少なくとも一方は、表示領域内１００において一方の延在する方向に少なくとも一箇所の間隙を有しているＥＬ装置。 （もっと読む）

【課題】膜厚を高い精度で制御できるとともに、蒸着パターンが異なる蒸着を連続して行
なう場合でも蒸着用マスクの枚数が少なく済むインライン式蒸着装置、マスク蒸着方法、
および有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】インライン式蒸着装置１００において、被処理基板２０の搬送経路に沿って
、蒸着源１２０および蒸着用マスク１３１、１３２を備えた第１蒸着エリア１１０と、蒸
着源２２０および蒸着用マスク２３１、２３２を備えた第２蒸着エリア２１０と設けてお
き、被処理基板２０を第１蒸着エリア１１０および第２蒸着エリア２１０において蒸着用
マスク１３１、１３２、２３１、２３２と重なる位置で一時停止させながら被処理基板２
０を搬送経路に沿って搬送する。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ用マスクに付着した蒸着物を除去するクリーニングを行うときに、基板に対して完全に非接触状態で蒸着物を除去しつつ、基板から飛散した遊離生成物を有機ＥＬ用マスクに再付着させないようにすることを目的とする。
【解決手段】有機ＥＬ用マスク２に付着した蒸着物質ＶＭを除去する有機ＥＬ用マスククリーニング装置であって、有機ＥＬ用マスク２を立てた状態で保持するマスク保持手段３と、有機ＥＬ用マスク２の表面に直交する方向からレーザ光を照射して蒸着物質ＶＭを破砕して生じる遊離生成物を有機ＥＬ用マスク２から飛散させるレーザ洗浄手段４と、を備えている。有機ＥＬ用マスク２は立てられた状態に保持され、遊離生成物は有機ＥＬ用マスク２から離間した方向に向けて飛散して自由落下するため、遊離生成物が有機ＥＬ用マスク２に再付着しなくなる。 （もっと読む）

【課題】簡素な構成で温度分布の均一化を図ることができ、材料の余分な充填を低減することができる真空蒸着装置及び温度調整方法を提供する。
【解決手段】外部より搬入される被蒸着体Ｂを収容可能な真空チャンバ１と、該真空チャンバ１内に設けられて蒸着材料Ｍを収容する坩堝１２と、該坩堝１２を加熱して蒸着材料Ｍを気化させる加熱源３とを備え、該加熱源３は、坩堝１２への加熱量を坩堝１２の位置に応じて異ならせていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】有機層が基板上の所定領域からずれたエリアに形成されるのを抑制し、輝度が高く画素欠陥の少ない有機ＥＬ表示装置を製造する。
【解決手段】有機ＥＬ表示装置１００の製造方法は、基板１１０上に、該基板１１０上に配設された複数のマスクスペーサ１２３を介してマスク２００を設け、該基板１１０下方からの蒸着により該基板１１０表面の所定部分に有機層１２４を形成する有機層蒸着工程を備えている。複数のマスクスペーサ１２３は、基板１１０上の表示領域に設けられていると共に、マスク２００を基板１１０上に設けた際に該マスク２００によってスペーサ頂部が包絡されるようにスペーサ頂部包絡手段を構成している。 （もっと読む）

【課題】精度よくアライメントできるアライメント装置及びアライメント方法並びにそれらを用いて高精度に蒸着できる有機ＥＬデバイス製造装置及び成膜装置を提供することである。
または、アライメントに必要な駆動部等を大気側に配置することで真空内の粉塵や発熱を低減した生産性の高い、あるいは、保守性を高めて稼働率の高い有機ＥＬデバイス製造装置及び成膜装置を提供することである。
【解決手段】シャドウマスクはアライメント用の貫通孔を有し、アライメント部は、前記貫通孔の一端側から光を入射する光源と前記他端を撮像する撮像手段とを有するアライメント光学系と、前記撮像手段の出力に基づいてアライメントを行なう制御部とを有することを特徴とする。さらに、上記特徴に加え、前記貫通孔は前記シャドウマスクの前後に貫通した孔であり、前記アライメント光学系は前記少なくとも前記基板への処理時に前記貫通孔への処理材の付着を遮蔽する遮蔽手段を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板やマスクの撓みを低減し、高精度に蒸着できる有機ＥＬデバイス製造装置並びに成膜装置並びに液晶表示基板製造装置を提供することである。あるいは、駆動部等を大気側に配置することで真空内の粉塵やガスの発生を低減し生産性の高い、あるいは保守性を高め稼働率の高い有機ＥＬデバイス製造装置及び成膜装置を提供することである。
【解決手段】本発明は、基板を立てた姿勢に保持する基板保持手段と、シャドウマスクを垂下した姿勢に保持するシャドウマスク垂下手段と、前記基板とシャドウマスクに設けられたアライメントマークを撮像するアライメント光学手段と、前記垂下姿勢の状態で前記シャドウマスクを駆動するアライメント駆動手段と、前記アライメント光学手段の結果に基づいて前記アライメント駆動手段を制御する制御手段とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】洗浄液や異物の残留を抑えることが可能な蒸着用マスクを提供する。
【解決手段】枠体４０に、マスク本体５０と対向する面に、開口４１に沿って段差部４２を設け、この段差部４２により、枠体４０およびマスク本体５０の間に隙間Ｇを形成する。隙間Ｇには、段差部４２と同じ高さの間隙保持部４３を点在させる。蒸着用マスク１を洗浄する際、洗浄液は隙間Ｇを流れ、隙間Ｇまたは貫通孔４５から排出される。よって、洗浄液がリンス液に置換されずにマスク本体５０と枠体４０との間に残ってしまい、表面張力でマスク本体５０と枠体４０とが密着してしまうことによる精度悪化が抑えられる。また、残った洗浄液や異物などからのガス発生により、蒸着のための真空室内にフッ素系の材料などが混入し、有機発光素子の寿命に影響を及ぼすおそれも小さくなる。 （もっと読む）