【課題】本発明は真空チャンバ内部の圧力状態に依存せず、特に１辺の長さが１ｍを超える大形基板に対して精密なパターニングに向けた高精度基板アライメントが可能な成膜装置または成膜システムを提供することである。
【解決手段】本発明は、基板とマスクとのアライメントを行い成膜材料を基板に真空成膜する真空チャンバを有する成膜装置またはシステムにおいて、前記真空チャンバの内部に設けた剛体の第１基準部材、真空チャンバの外部に設けた剛体の第２基準部材及び一端を前記第１基準部材の固定し、前記真空チャンバの壁に設けた貫通孔を通して他端を前記第２基準部材に固定された剛体の支柱を複数具備するかご構造体と、前記かご構造体を前記真空アライメントチャンバの所定位置に維持するフローティング機構と、前記支柱を覆い前記真空チャンバの気密性を確保し、アライメントマークを撮像する撮像手段を前記剛体のいずれかに取付けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】表示品質を向上させることができる成膜用マスク、電気光学装置の製造方法、有機ＥＬ装置の製造方法を提供する。
【解決手段】複数のサブ画素と平面的に重なる第１領域の全体が開口する第１開口孔７２ａが設けられた第１マスク７２と、第１マスク７２に積層され、第１領域において部分的な領域である第２領域が開口する第２開口孔７３ａが設けられた第２マスク７３と、を有する。 （もっと読む）

【課題】真空蒸着を行った後のマスク部材をクリーニングするに当って、負荷を最小限に抑制したクリーニング時におけるマスク部材及びクリーニング装置を提供する。
【解決手段】マスク部材１をドライ洗浄ステージ１１で鉛直状態に保持して、レーザ発振器からスキャニング光学系を介してレーザ光のパルスをマスク板の表面にスポット的に照射し、マスク板表面の蒸着物質を、マスク板と蒸着物質との間の熱膨張率の差で破砕させ、その砕片及び薄片を長尺ノズルによる負圧吸引力の作用で除去し、次いでウエット洗浄ステージ１４において、溶剤洗浄部１２で超音波洗浄を行い、シャワー洗浄部１３で溶剤を用いてマスクフレームを含めたマスク部材の全体をクリーニングする。 （もっと読む）

【課題】単繊維の糸を使用した微細なピッチを有する平行線型マスクにおいて、ストライプの幅、すなわち、単繊維糸の平行ピッチのバラツキが極めて少なく平行ピッチが高精度に保持された平行線型マスクを提供する。
【解決手段】開口部２を有する平板状基体１と、平板状基体の非開口部に形成された樹脂層３と、樹脂層に固定された単繊維５と、を備え、樹脂層は、所定のピッチで設けられ、単繊維がはまり込む溝部４を有し、単繊維は、前記溝部に接着されたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ダークスポット等の不具合の発生や輝度、寿命低下を抑え信頼性がより高い有機ＥＬ装置およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】有機ＥＬ装置１００は、基体２０と、基体２０上に配列された画素２と、基体２０上に、画素２毎に配置された陽極２４と、陽極２４上に配置された少なくとも発光層を含む有機機能層３０と、有機機能層３０上に配置された陰極３２と、陰極３２の表面に接して設けられ、少なくとも互いに隣り合う画素２同士の間の領域に配置された補助陰極３４と、を備えている。有機ＥＬ装置１００の製造方法は、蒸着マスク５０を用いた蒸着法により補助陰極３４を形成する工程を有し、補助陰極３４を形成する工程では、蒸着マスク５０は、補助陰極３４を形成する前の基体２０の蒸着マスク５０に対向する面のうち、互いに隣り合う画素２同士の間の領域の一部である部分３２ｂに接触する。 （もっと読む）

【課題】成膜用マスクの所望の品質特性を検出可能であって、効率的にマスク検査が可能
なマスク検査装置、これを備えた有機ＥＬ装置の製造装置、これを用いたマスク検査方法
および有機ＥＬ装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】本適用例のマスク検査装置１５０は、帯状に光を射出する光源１５３と、帯
状の光により成膜用マスクとしての蒸着マスク５０の表面を所定の方向に走査するように
、光源１５３と蒸着マスク５０とを相対移動させる走査機構としての搬送機構１１５と、
走査に伴って蒸着マスク５０の表面から反射した光を受光する受光部１５６と、受光部１
５６の受光信号を画像に合成する画像処理部と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】信頼性の高い有機ＥＬ装置の蒸着装置及び方法を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ装置の蒸着装置５は、第１電極２３Ｒ等と、発光機能層と、第２電極とを基板２０上に備える有機ＥＬ装置１の蒸着装置５である。有機ＥＬ装置の蒸着装置５は、基板２０を収容し、内部が真空状態であるチャンバ４０と、チャンバ４０内で発光機能層を基板２０上に成膜するために蒸着材料を加熱蒸発する蒸着源４２と、蒸着源４２より基板２０に近い位置における不活性ガスの濃度が、基板２０より蒸着源４２に近い位置における不活性ガスの濃度と比較して濃くなるようにチャンバ４０内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段４５とを備える。 （もっと読む）

【課題】ダークスポット等の不具合の発生や輝度、寿命低下を抑え信頼性がより高い有機ＥＬ装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】有機ＥＬ装置の製造方法は、基体２０と、基体２０上に配列された画素２と、基体２０上に画素２に対応して配置された陽極２４と、陽極２４上に配置された少なくとも発光層を含む有機機能層３０と、有機機能層３０上に配置された陰極３２と、陰極３２を覆うように配置された第１の保護層３４と、を備えた有機ＥＬ装置１の製造方法であって、陰極３２が形成された基体２０の表面に、イオンプレーティング法を用いて第１の保護層３４を形成する工程を有し、第１の保護層３４を形成する工程では、基体２０の表面に正の電荷を印加して第１の保護層３４を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】電子デバイス製造装置の占有スペースの増大や基板を流動させる際のロスタイム
を発生させることなく、蒸着マスクをクリーニングすることのできる電子デバイス製造装
置および電子デバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】電子デバイス製造装置１０では、有機膜蒸着室６６Ｒ、６６Ｇ、６６Ｂでの
マスク蒸着に用いた蒸着マスクについては、蒸着マスク返却路７５を介して、最下流側の
有機膜蒸着室６６Ｂから最上流側の有機膜蒸着室６６Ｒに戻す。蒸着マスク返却路７５に
はプラズマ処理装置が設けられており、蒸着マスク返却路７５において蒸着マスク４０に
プラズマを照射することにより、蒸着マスク４０に付着した有機物を除去する。 （もっと読む）

本発明に記載されているのは、材料堆積装置（５０）において基板（１０）を保持する装置（１）である。この基板（１０）は、材料（Ｍ）が堆積される堆積面（１０ａ）を有しており、装置（１）は、複数の堆積開口部（Ｄ₁）を含むシャドウマスク（２０）と、複数の包囲開口部（Ｓ₁）を含むサポート構造体（３）と、上記のサポート構造体（３０）を保持するサポート構造体保持手段（６）および／または基板（１０）を保持する基板保持手段（５）とを有しており、サポート構造体（３０）は、基板の堆積面（１０ａ）と同じ側にあり、シャドウマスク（２０）は、基板（１０）とサポート構造体（３０）との間に配置されて、シャドウマスク（２０）の少なくとも１つの堆積開口部（Ｄ₁）がサポート構造体（３０）の相応する包囲開口部（Ｓ₁）内に配置されている。さらに本発明には、基板（１０）を保持する装置（１）を有する材料堆積装置（５０）が記載されている。また本発明には、材料堆積装置（５０）において基板（１０）、シャドウマスク（２０）およびサポート構造体（３０）を配置する方法が記載されている。
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【課題】ガラスを支持基板として個別マスクを複数配置することで、成膜用マスクを大面積化することが可能となるが、蒸着工程後に成膜用マスクと被成膜基板とを離す際に、個別マスクと被成膜基板との間で剥離帯電が起きるため、個別マスクと被成膜基板との間で放電が発生し、被成膜基板中に備えられているＴＦＴや、有機ＥＬ装置の発光部が破壊され、被成膜基板の特性が劣化するという課題がある。
【解決手段】成膜用マスク１００は、個別マスク１０１、支持基板１０２、フレーム１０３、導電性領域１０４、導電性接着剤部１０５を備えている。剥離帯電による静電気により個別マスク１０１に蓄積された電荷は、導電性接着剤部１０５、導電性領域１０４、フレーム１０３を介して接地され、被成膜基板の破損が防止される。 （もっと読む）

【課題】異物および取り扱いによる被成膜基板の蒸着膜あるいは表面の損傷を発生させることのない信頼性を向上する蒸着マスクを提供する。
【解決手段】蒸着マスク２は、被成膜基板４上に蒸着するパターンに対応する開口部１２が形成された蒸着マスクであって、開口部１２は、被成膜基板４に対向する側とは反対側のマスク面の開口面積Ｓ１に比べて被成膜基板４に対向する側のマスク面の開口面積Ｓ２が大きくなるように形成されている。 （もっと読む）

【課題】 従来の蒸着用マスクに比較して蒸着パターンの精細化をより推進することができる蒸着用マスクを提供すること。
【解決手段】 本発明の蒸着用マスクは、金属箔からなる第１の層と、この金属箔とエッチング特性が異なる成分の金属箔からなる膜厚０．０１μｍ〜１μｍの第２の層との積層構造を有し、第２の層に蒸着用のマスクパターンとなる所定寸法の開口部が形成され、第２の層に形成された開口部に対応する第１の層の部分が、第２の層に形成された開口部よりも表面に向かって幅広に穿孔されて貫通孔が設けられている、第１の層の表面が蒸着源に面するようにして用いる、蒸着材料を所定のパターンで被蒸着基板の表面に蒸着させるための蒸着用マスクである。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ用マスクに付着した蒸着物を除去するクリーニングを行うときに、基板に対して完全に非接触状態で蒸着物を除去しつつ、高い洗浄度を得ることを目的とする。
【解決手段】有機ＥＬ用マスク１に付着した蒸着物質６１を除去する有機ＥＬ用マスククリーニング装置であって、有機ＥＬ用マスク１を立てた状態で保持するマスク昇降ユニット４２と、有機ＥＬ用マスク１の一部または全部の領域に対して水平方向からレーザ光を走査させるレーザ洗浄部１１と、有機ＥＬ用マスク１の開口部３に裏面１Ｒ側から走査面１Ｓ側に向けた空気流ＡＦを形成する送気ノズル５３と、レーザ光の走査位置よりも下方に配置され、レーザ走査部１１の洗浄により有機ＥＬ用マスク１から飛散した遊離物質６２の吸引を行うための吸引スリット６２Ｓを斜め上方に向けた吸引ノズル６３と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ用マスクに付着した蒸着物を除去するクリーニングを行うときに、基板に対して完全に非接触状態で蒸着物を除去しつつ、高い洗浄度を得ることを目的とする。
【解決手段】有機ＥＬ用マスク１に付着した蒸着物質を除去する有機ＥＬ用マスククリーニング装置であって、有機ＥＬ用マスク１の一部または全部の領域に対してレーザ光Ｌを走査させるレーザユニット１３と、レーザ光Ｌの走査部位に向けて斜め方向から吸引を行う吸引ノズル４１と、レーザ光Ｌの走査部位を挟んで吸引ノズル４１の反対側からレーザ光Ｌの走査部位に向けて斜め方向から送風を行う送風ノズル４２と、を備えている。また、吸引ノズル４１と送風ノズル４２とをレーザ光Ｌの走査部位に追従して移動させるノズル移動部１５を備えている。 （もっと読む）

【課題】基板マスク固定手段含めアライメント周りの機構を簡単化、あるいは簡素化することで保守性を向上できる、または、マスクの変形を回避し、高精度に蒸着できる成膜装置及び成膜方法、あるいは、駆動部等を大気側に配置あるいは配線を敷設することで真空内の粉塵やガスの発生を低減し、生産性の高い成膜装置を提供する。
【解決手段】基板６を基板ホルダー９１に載置し、前記基板とシャドウマスク８１とをアライメントし、前記基板とシャドウマスクとを、前記基板ホルダーとは独立して設けられた磁石によって吸着固定させて、真空チャンバ内で蒸着材料を基板に蒸着する際に、前記吸着固定を基板とシャドウマスクを立てた状態で行なう、あるいは、前記磁石は電磁石であり、前記電磁石を保持する基板マスク吸着体と、前記マスク吸着体を収納する収納ケースを有する。 （もっと読む）

【課題】磁石との間に挟持された被成膜基板に対して優れた密着性を実現できる成膜用マスクおよびこれを備えた有機ＥＬ装置の製造装置を提供すること。
【解決手段】本適用例の有機ＥＬ装置の製造装置としての蒸着装置１００は、少なくとも１つのチャンバー１１１と、チャンバー１１１内に設けられ、膜形成材料を蒸発させる蒸着源１１０と、蒸着源１１０に対向するように被成膜基板Ｗを保持する基板保持部１１３とを備え、被成膜基板Ｗは、基板保持部１１３において、磁石１１７と、被成膜基板Ｗの膜形成領域Ｅに対応する開口部５０ａを有すると共に磁石１１７の磁束密度に対して飽和磁化に到達する保磁力を有する成膜用マスク５０との間に挟持される。 （もっと読む）

【課題】シャドーマスクとガラス基板を重ね合わせて位置合わせを行ったのち、搬送機構による搬送中の衝撃等により発生する位置ズレを防止することのできる真空蒸着装置の重石板および真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】マスク保持部材１０１に固定されたシャドーマスクとしてのテンションマスク５２０の上面にガラス基板１０４を重ね合わせて位置合わせする。そして、ガラス基板１０４に重石板１０９を載荷し、その重力により、押圧して一体化した合体搬送体５００を形成する。重石板１０９の中空部には、合体搬送体５００にかかる衝撃を緩衝するための液体金属が充填率２５％以上８５％未満で充填されるか、その他の緩衝機構が配置されている。 （もっと読む）

【課題】蒸着材料を通過させるための通過孔を精度良く形成することが可能な蒸着用マスクおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】蒸着用マスク１の製造方法では、金属薄膜１０の両面に、反射防止膜３０Ａ，３０Ｂを介してフォトレジスト膜１２ａ，１２ｂを形成したのち露光することにより、フォトレジスト膜１２ａ，１２ｂに通過孔１０Ａ−１のパターンを形成する。露光時に、フォトレジスト膜１２ａ，１２ｂを透過した照射光が金属薄膜１０の表面もしくは裏面に到達する前に、反射防止膜３０Ａ，３０Ｂにおいて吸収され、ハレーションの発生が抑制される。 （もっと読む）

【課題】蒸着装置用マスク密着手段及びそれを用いた蒸着装置を提供する。
【解決手段】本発明は、磁性体を含むマスク密着手段を用いて基板とマスク組立体とを密着させて蒸着精度を向上させる場合、前記マスク密着手段の磁力によってマスク組立体のスリットが変形することを防止できる蒸着装置用マスク密着手段及びそれを用いた蒸着装置に関する。 （もっと読む）