【課題】スペーサが具備された有機電界発光表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも一つの薄膜トランジスターが形成された基板と、前記薄膜トランジスターと電気的に接続された第１電極、前記第１電極上に形成されて、前記第１電極を部分的に露出させる開口部を含む画素定義膜、前記第１電極上に形成される有機薄膜層、前記有機薄膜層上に形成される第２電極を含む有機電界発光素子と、前記有機電界発光素子を密封する封止手段と、前記画素定義膜と少なくとも部分的に対応される封止手段の一側に形成されるスペーサを含み、前記スペーサは吸湿物質からなる。 （もっと読む）

【課題】封止薄膜一側に吸湿剤を形成し、有機電界発光素子を保護することができる有機電界発光表示装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも一つの有機電界発光素子が形成された画素領域と前記画素領域以外の非画素領域を含む基板と、前記基板を封止する封止薄膜を含むが、前記封止薄膜は少なくとも一つの有機膜および無機膜が積層されてなり、前記基板の非画素領域に対応される有機膜および無機膜の少なくとも一層に吸湿剤と、を含む。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子の各画素に同一マスクを用いて複数の非共通層を蒸着した場合の位置ずれによる蒸着欠陥を低減する。
【解決手段】有機ＥＬ素子のキャリア輸送層と発光層を同一のマスク２０を用いて連続的に成膜する。キャリア輸送層の蒸着によって発生するマスク２０と基板１０の熱膨張に伴う変位の差分に応じて、発光層の蒸着工程においては、両側のポイントソース３１ａ、３１ｃの放射角θ２をキャリア輸送層の蒸着時より広げて蒸着する。キャリア輸送層の外縁を囲むように発光層の外縁部を回り込ませることで発光層に欠陥が発生するのを防ぐ。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬディスプレイを製造するためにガラス基板とメタルマスクを位置合わせするためのマスクアライメント装置において、ガラス基板側とメタルマスクとの相対位置を高精度に検出できるようにする。
【解決手段】マスク側アライメントマーク１７と基板側アライメントマーク１６とに対して同軸反射照明装置２２と、透過照明装置３１とを設ける。反射照明を点灯し、透過照明を消灯して撮像された画像から、基板側アライメントマーク１６の位置及びマスク側アライメントマーク１７の位置を検出して位置合わせを行った後に、透過照明を点灯し、反射照明を消灯して撮像された画像から、基板側アライメントマーク１６の位置及びマスク側アライメントマーク１７の位置を検出して、位置合わせを行う。これにより、高精度の位置合わせが行える。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬディスプレイを製造するためにガラス基板とメタルマスクを位置合わせするためのマスクアライメント装置において、ガラス基板とマスクとの相対位置を高精度に検出できるようにする。
【解決手段】同軸落射照明装置２２と斜照明装置２３との２つの照明を設ける。斜照明装置２３は、シャッタ３２を用いて、点灯、消灯制御可能とする。斜照明が消灯するタイミングで、基板側アライメントマーク１６のパターンを撮像し、斜照明が点灯するタイミングで、マスク側アライメントマーク１７のパターンを撮像する。これにより、より大きいコントラストの画像で撮像することができ、ガラス基板１１とメタルマスク１２との相対位置を高精度で検出できる。 （もっと読む）

【課題】洗浄乾燥後にマスクにシミ等の痕跡が残らず、しかもマスクの変形・歪みが生じ難く、錆が生じ難いメタルマスクの浄化方法を提供する。
【解決手段】メタルマスクに付着した付着物質を溶解可能な溶剤でメタルマスクを洗浄する付着物質溶解除去工程と、付着物質が除去されたメタルマスクを純水で洗浄する純水洗浄工程と、純水洗浄工程の後に行われる真空乾燥工程とを備える。メタルマスクに付着した付着物質が有機物質であり、付着物質溶解除去工程で使用される有機溶媒が水と混合し難い場合、付着物質溶解除去工程と純水洗浄工程との間に、メタルマスクを水と混合し易い有機溶媒に浸漬するリンス工程を備えている。メタルマスクはインバーで形成されている。 （もっと読む）

【課題】マスク交換後の作業時間を短縮させる。
【解決手段】マスクホルダ上のマスクを撮影し、撮影画像と、候補パターン群に登録されたパターン形状を比較し、登録されたパターン形状毎に一致確率を算出し、一致確率が基準値以上のパターン形状のうち、最大の一致確率のパターン形状を基準パターン形状とし、マスクと基板の位置合わせに用いる。基準値以上の一致確率のパターン形状が無かった場合、撮影画像からアラインメントマークのパターン形状を抽出し、候補パターン群に追加登録する。マスクを交換しても、候補パターン群に一致するパターンが無かった場合だけ、撮影画像からアラインメントマークのパターン形状を抽出すればよいから、マスク交換のための作業時間が短縮する。 （もっと読む）

【課題】将来的な基板サイズの大型化や更なる生産効率向上のための高速化等にも適切に対応し得る有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に有機層が成膜されてなる有機電界発光素子の製造方法であって、前記有機層の形成材料を射出する成膜源２２ａ〜２２ｄを用意し、前記成膜源２２ａ〜２２ｄと前記基板を挟んで対向する位置に当該基板と非接触で配される磁力発生手段２４ａ〜２４ｃに磁力を発生させ、前記磁力発生手段２４ａ〜２４ｃが発生する磁力によって磁性材料からなるマスク板を前記基板に密着させ、密着した状態の前記基板および前記マスク板を前記成膜源２２ａ〜２２ｄの対向位置にて移動させて当該基板上への前記有機層のパターニング成膜を行う。 （もっと読む）

【課題】副画素の配列がデルタ配列やスクランブル配列などの画像表示パネルと同様の表示性能を有する、カラー画像表示パネル及びその製造方法、並びにカラー画像表示装置を提供する。
【解決手段】基板上に形成された第１の電極上に、真空堆積法で有機発光層が堆積され、さらに第２の電極が形成されてなる、少なくとも赤、緑、青の発光色を有する有機ＥＬ素子が一定の順に並んで構成される画素が複数配列された有機エレクトロルミネッセンス型二次元カラー画像表示パネルにおいて、各々の有機ＥＬ素子は平面形状において一組の平行な二辺を有しており、互いに他色の発光色を有する有機ＥＬ素子が、前記平行な二辺で隣接しており、同一の発光色を有する有機ＥＬ素子は、前記平行な二辺の平行線方向に隣接して、垂直線に対して傾斜して平行に並ぶストライプ状に配列されていることを特徴とする。 （もっと読む）

基体１０１、第１の導電層１０２、発光層１０３及び第２の導電層１０４を有する発光デバイス１００が提供される。発光デバイス１００は、第１の導電層１０２と電気的に接触する少なくとも１つの金属シャント１０５を更に有する。少なくとも１つの金属シャント１０５は、少なくとも誘電酸化層１０６により第２の導電層１０４から絶縁される。本発明は、デバイスの有効画素エリアを削減することなく、１又はそれ以上の金属シャントとカソード層との間の電気的絶縁材料の使用を可能にする。
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【課題】蒸着材料の利用効率をたかめ、有機化合物を含む層を有する発光装置の製造コストを低減するとともに、発光装置の製造に要する製造時間を短縮させることを課題とする。
【解決手段】成膜室内を減圧下とし、導電表面基板への通電によって、導電表面基板を急速に加熱し、導電表面基板上の材料層を短時間に蒸発させ、被成膜基板に蒸着し、被成膜基板上に材料層を成膜する。なお、急速に加熱する導電表面基板の加熱面積は、被成膜基板と同等のサイズとし、１回の加熱で１枚の被成膜基板への成膜を終了させる。 （もっと読む）

【課題】複数の機能領域を有する有機化合物膜を作製する成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜室内に複数の蒸発源を備え、それぞれの有機化合物からなる機能領域を連続的に形成し、さらに機能領域間の界面には混合領域を形成することができる。さらに、成膜室の内壁の表面は電解研磨されている。成膜部内を連続的に移動できる基板搬送手段を有し、基板搬送手段は、成膜部の上方に設けられ、成膜部と同一空間を有しており、成膜室内にある基板を平面方向に搬送する手段を有している。成膜部は、基板搬送手段による基板の搬送空間を含んで設けられ、基板搬送手段に基板が保持された状態で蒸着が行われる。 （もっと読む）

【課題】常温時の被蒸着基板に対する蒸着マスクの整合精度を蒸着窯内における昇温時にも良好に担保でき、従って発光層を高精度に再現性良く形成できる蒸着マスク及びその製造方法を得るにある。
【解決手段】蒸着通孔５からなる蒸着パターンを備えるマスク層２に低熱線膨張係数の材質から成る支持層３を蒸着通孔５と重ならないように積層しているため、マスク自体の強度アップはもちろんのこと、熱の影響による形状変化の抑制、つまり、蒸着作業時における高温環境下での蒸着マスク１と被蒸着基板２０との位置ずれを顕著に低減できる。 （もっと読む）

【課題】有機発光素子の製造装置において、長時間の蒸着においても膜厚の均一性を失うことなく高い材料利用効率を実現する。
【解決手段】電極を有する基板１上に有機化合物層を備えた有機発光素子を製造する蒸着装置において、蒸着源２０と基板１の間に配置した膜厚補正板２３を蒸着源２０とともに基板１に対してＸ方向に相対的に移動させる。膜厚補正板２３の開口２３ａが、Ｘ方向と直交するＹ方向に沿って開口幅が変化する太鼓形状を有することで、開口端部における蒸着材料の斜入射成分の蒸着時間を増大させて膜厚を均一化する。また、膜厚補正板２３の開口２３ａの周縁に傾斜面２３ｂを備えることにより、蒸発物が開口２３ａの周縁に付着することによる開口寸法の変化を抑制する。これにより安定して所定の膜厚分布を得ることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】基板上に第１の電極、画素領域を画定する絶縁膜、発光を行う有機膜、第２の電極、封止膜を順次形成してなる有機ＥＬ素子の製造方法において、絶縁膜および有機膜においてそれぞれマスクとの接触による異物の付着やキズの発生を防止する。
【解決手段】有機膜４０の形成工程では、有機膜形成用マスク１００が絶縁膜３０と接触せず離れた状態にて、有機膜形成用マスク１００を基板１０上に配置して、有機膜４０の成膜を行い、第２の電極５０の形成工程では、第２の電極形成用マスク２００が絶縁膜３０および有機膜４０と接触せず離れた状態にて、第２の電極形成用マスク２００を基板１０上に配置して、第２の電極５０の成膜を行う。 （もっと読む）

【課題】スプラッシュによる成膜不良を低減可能な薄膜形成装置、薄膜形成方法、電気光学装置の製造方法、電子機器を提供すること。
【解決手段】薄膜形成装置１００は、チャンバー１０１内に設けられた蒸発源としてのハース１０４に収納された膜材料ＭにプラズマビームＰＢを照射して加熱することにより蒸発させて、基板Ｗに薄膜を形成する薄膜形成装置であって、プラズマビームＰＢを発生させるプラズマビーム発生器１１０と、基板Ｗをハース１０４に対して対向するように支持する基板装着部１２１と、基板装着部１２１とハース１０４との間に設けられた複数の開口部を有する導電性の捕獲板１３０と、捕獲板１３０に正または負の電位を与える電位発生部Ｖ４と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】押圧の荷重負荷領域と重なる領域とそれ以外の領域の双方で、被処理基板と蒸着
マスクの良好な密着性を確保し、被処理基板への成膜精度を高めることができる蒸着装置
、蒸着方法、電気光学装置及び電子機器を提供する。
【解決手段】成膜パターンの開口５１１を有すると共に磁性を有し、被処理基板１０の被
成膜面側に重ねて配置される蒸着マスク５と、被処理基板１０の被成膜面と反対側から、
被処理基板１０を蒸着マスク５に向けて押圧する押圧部と、被処理基板１０の被成膜面と
反対側から、少なくとも前記押圧による荷重負荷領域ＧＲと重なる領域以外の領域で、蒸
着マスク５を被処理基板１０に向けて磁気吸引する磁気吸引部とを備える蒸着装置。 （もっと読む）

【課題】蒸着用マスクを繰り返し使っていくうちに堆積層が付着した場合でも、所望の薄膜パターンを形成することができるマスク蒸着法を提供すること。
【解決手段】被処理基板２００に対する蒸着パターンに対応するマスク開口部２２が形成された蒸着用マスク４０を被処理基板２００に重ねた状態で蒸着用マスク４０および被処理基板２００を面内方向で回転させるとともに、回転中心軸線上から側方にずらした位置に配置された蒸着源１２から被処理基板２００に蒸着材料流を供給する。前回までの蒸着工程と今回の蒸着工程とで同一の蒸着用マスク４０を用いるにあたって、前回までの蒸着工程により蒸着用マスク４０に付着した堆積層の厚さの測定結果、あるいは当該堆積層の厚さの算出結果に基づいて、今回行う蒸着条件を決定する。 （もっと読む）

【課題】画素電極に対するプラズマ照射によって、有機機能層の構成が相違するいずれの有機ＥＬ素子においても発光特性を向上でき、さらに、プラズマ照射時、エッチング残滓などが素子基板上に再び堆積することを確実に防止することのできる有機ＥＬ装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】素子基板２に複数の画素電極４を形成した後、赤色（Ｒ）に対応する画素電極４に対してマスク開口部３２が重なるようにマスク部材３０を配置し、この状態でプラズマ処理を行なう。次に、マスク部材３０の位置をずらし、他の色に対応する画素電極４に対してマスク開口部３２が重なるようにマスク部材３０を配置し、この状態でプラズマ処理を順次、行なう。 （もっと読む）

【課題】被処理基板とのアライメントマークと、支持基板とチップとを接合する際のアライメントマークとを高い位置精度で形成することのできる成膜用マスク部材、およびこの成膜用マスク部材の製造方法を提供すること。
【解決手段】マスク開口部２２が形成されたチップ２０を支持基板３０に対して固定することにより形成される成膜用マスク部材１０において、チップ２０の上面２０ｘには、支持基板との位置合わせ用の第１アライメントマーク２４と、被処理基板との位置合わせ用の第２アライメントマーク２５とが形成されている。第１アライメントマーク２４は貫通穴である。 （もっと読む）