OLED基板（40）の上に有機材料を堆積させる方法であって、気化した有機材料を受け取るマニホールド（10）を用意し、そのマニホールドが、開口部を有するアパーチャ板を備えているようにし、そのアパーチャ板の開口部は、気化した有機材料で構成されていて軸外成分（60）を持つビーム（50）が基板（40）に向かうように選択するステップと；OLED基板（40）とマニホールド（10）の間に両者から離れて位置するマスク（80）を用意し、そのマスク（80）が複数の開口部を持っていて、そのそれぞれがアパーチャ板開口部に対応しており、マスクの開口部は、ビーム（50）の軸外成分（60）の少なくとも一部を阻止するように選択するステップを含む方法。
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【課題】有機ＥＬディスプレイパネル製造装置において、使用済みのマスクからのパーティクル発生や、洗浄済みのマスクに対するパーティクルの付着を防止する。
【解決手段】有機膜成膜室５内においてアレイ基板１２に有機膜を成膜するためのマスク１１は、搬送ロボット１４によってマスク収納室１と有機膜成膜室５との間を搬送される。使用済みのマスク１１は、マスク収納室１内においてマスクカセット１５に収納され、マスクカセット１５の蓋１６を蓋着脱機構１７によって閉じた後にマスク収納室１から取り出されて、洗浄後に再びマスクカセット１５に入れてマスク収納室１へ搬送される。マスクカセット１５を用いることで、使用済みのマスク１１から発生するパーティクルの外部流出を防ぐ。また、洗浄済みのマスク１１へのパーティクル付着を防止する。 （もっと読む）

【課題】複数のチップを同一面内に位置する状態で支持基板上に固定することができる蒸着マスクの製造方法、この製造方法により得られた蒸着マスク、およびこの蒸着マスクを用いたマスク蒸着法を提供すること。
【解決手段】蒸着マスク１０を製造するにあたって、複数のチップ２０を支持基板３０に固定する際、支持基板３０の各チップ搭載領域３５の高さ位置を測定し、この高さ位置の測定結果に基づいて、複数のチップ２０を各々、チップ搭載領域３５から所定の高さ位置に配置し、支持基板３０に接着剤４０により固定する。このため、支持基板３０が反っている場合でも、複数のチップ２０を同一面内に位置する状態に支持基板３０に固定することができる。 （もっと読む）

【課題】基板上に均一な薄膜を形成することが可能なマスク、蒸着装置、有機電界発光表示装置を提供すること。
【解決手段】基板上に形成される複数の副画素領域のうちいずれか１つの領域にそれぞれ対応した第１開口部３１１が複数個形成された第１領域３１と、複数の第１開口部が形成された第１領域の両側に少なくとも１つずつ配置され、複数の副画素領域のうちいずれか１つの領域にそれぞれ対応した第２開口部３１２が複数個形成された第２領域３２と、を備え、基板に対して全面にわたって位置することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】OLEDに対する構造化された放射、殊に固定OLEDを実現することおよび、構造化された放射を行うOLEDの製造方法を提示すること
【解決手段】有機発光ダイオード（OLED）であって、・基板と、・基板上の有機発光層とを含み、有機発光層は透明電極と別の電極との間に配置されており、・透明電極と別の電極のうちの少なくとも１つは２つの層を有しており、２つの層は、電荷キャリヤ注入層である構造化された第１の層と、内部に当該第１の層が埋め込まれている導電性の第２の層を含む、および／または・有機発光層は、構造化された電荷キャリヤ阻止層を含んでいる、有機発光ダイオード。 （もっと読む）

【課題】複数のチップを支持基板に固定したマスクを用いた場合でも、チップと被処理基板との密着性を高めることのできるマスク蒸着法、およびマスク蒸着装置を提供すること。
【解決手段】マスク蒸着法およびマスク蒸着装置では、被処理基板２００の下面側に、開口部２２を備えた複数のチップを支持基板３０に接合したマスク１０を配置して蒸着を行う。その際、被処理基板２００の裏面２２０のうち、チップ２０と重なる領域２２１に錘１８を配置する。従って、マスク１０の中央部分が自重により凹んだ状態に撓み、チップ２０に撓みや傾きが発生した場合でも、錘１８は、被処理基板２００の裏面２２０のうち、チップ２０と重なる領域２２１を下方に押圧するので、被処理基板２００において少なくともチップ２０と重なる部分は、チップ２０の傾きや撓みに正確に倣って変形する。 （もっと読む）

【課題】複数の機能層を高いアライメント精度で形成することができるとともに、それらの機能層にダメージを与えずに形成することができる機能素子の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に機能層が成膜された機能素子を製造する方法であって、前記基板として透明基板１０を用い、該透明基板の前記機能層を成膜する面の裏側にマスク１６を成膜する工程と、前記マスクを介して露光を行うフォトリソグラフィにより、前記機能層成膜面上に機能層２０ａを成膜する工程と、前記マスクの一部を除去して該マスクのパターンを少なくとも１回変更する工程と、前記パターンを変更したマスク２２を介して露光を行うフォトリソグラフィにより、前記機能層成膜面上に別の機能層を成膜する工程と、を含むことを特徴とする機能素子２８の製造方法。 （もっと読む）

【課題】蒸着マスクに付着した異物を高精度で検知することが可能な蒸着マスクの検査方法及び蒸着マスクの検査装置を提供することを目的とする。
【解決手段】表示素子を構成するパターン化された薄膜を蒸着法により形成するのに必要な蒸着マスクの検査装置であって、蒸着マスク２１２が配置される支持台３１０と、支持台３１０の所定位置に配置された蒸着マスク２１２を照明する赤外線光源３２０と、赤外線光源３２０により照明された蒸着マスク２１２からの反射光に基づき蒸着マスク表面の異物の有無を検知する検知部３３０と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】開口部間に梁部を配置した場合でも、マスク部材の開口パターンどおりに成膜を行うことのできるマスク部材、およびこのマスク部材を用いた有機ＥＬ装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】マスク蒸着に用いるマスク１０、開口部１２ａが形成されたマスク部材１２と、マスク部材１２の下面側で開口部１２ａの間に配置された梁部１５とを備えている。開口部１２ａは、成膜材料供給源側で開口面積が広く、被処理基板側で開口面積が狭くなっている。梁部１５を長手方向で直交する方向に切断したときの断面は、マスク部材１２側に底辺を向け、成膜材料供給源側に頂部を向けた略逆三角形状になっている。このような構成の梁部１５は、棒状あるいはパイプ状のものにより構成することができる。 （もっと読む）

【課題】隔壁３の形状を工夫することによって、隔壁３の底部の液溜りによる発光ムラを防止し、均一な発光が可能な有機ＥＬ表示素子と、その製造方法を提供すること。
【解決手段】基板上に設けられたストライプ状の第一の電極と、これら第一の電極の間に設けられた隔壁と、隔壁で区画された領域に設けられた有機発光媒体層と、第一の電極に対向する第二の電極とを具備する有機エレクトロルミネッセンス表示素子であって、前記隔壁が下部に矩形のすそを有してこのすその上に液溜りを留まらせる。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子を用いるスパッタ法或いはプラズマＣＶＤ法、更には蒸着法等を用いた成膜の際にも膜厚斑のない構成膜を規定された成膜領域に成膜することが可能な成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜マスクに強磁性部材が設けられている。本体部に、前記強磁性部材と対応する磁束発生部材が設けられており、同磁束発生部材は一対の磁極を有し、磁束発生部材の一方の磁極から発生させた磁束は、前記磁束発生部材と強磁性部材との間に挟み込んだ基板を貫通させて強磁性部材に流し、再び前記基板を貫通させて磁束発生部材に吸収させる。強磁性部材を通る磁束は、強磁性部材の飽和磁束密度と、前記磁束の水平断面積との積よりも小さくなるように設計されている。 （もっと読む）

【課題】各グリル部を構成する全てのグリルの変形を補償して、グリル間の変形量の差を最小化できる構造のマスクを提供する。
【解決手段】本発明のマスク100は、少なくとも一つのグリルからなる多数のグリル部112,113を含み、最外縁にあるグリル部の第１グリル部に形成されたグリルの一部または全部が傾斜している。また、上端コーナー部に形成されたグリル部112のグリル112A−1〜112A-4は、その下部がマスクの内側方向に向かって傾斜した構造を有し、下端コーナー部に形成されたグリル部113のグリル113A−1〜113A-4は、その下部がマスクの外側方向に向かって傾斜した構造を有する。傾斜方向は、引張力（矢印方向）の作用方向と反対の内側方向である。 （もっと読む）

【課題】磁力によって基板とマスクを密着させる際に生じる基板とマスクの位置ずれを抑制する。
【解決手段】有機発光表示装置を構成する有機化合物層（有機ＥＬ素子膜）を、マスク３を介して基板２に蒸着する工程において、基板２とマスク３を位置合わせした後に、複数の押圧部材５によって基板２をマスク３に押圧して仮固定する。仮固定によって基板２とマスク３の位置ずれを抑制しながら、磁石６によって基板２を、マスク３に密着させる。アライメント後の基板２の複数箇所を、それぞれ複数の押圧部材５によって仮固定することで、高精度なパターニングを可能とし、アノードに対する有機ＥＬ素子膜のずれを防ぐ。 （もっと読む）

【課題】Ｘ・Ｙ移動機構の機械的精度等に関らず、ワークに対し、機能液滴を精度良く吐出することができる液滴吐出装置のドット位置補正方法に用いるアライメントマスクを提供する。
【解決手段】ワークＷに描画を行なう液滴吐出ヘッド６の着弾位置を補正するために、ワークＷに代えて用いられ、表面に、液滴吐出ヘッド６の液滴吐出による設計上の複数の着弾ドットの位置がマーキングされたアライメントマスク５０であって、複数の着弾ドットの位置を指標する複数の基準マーク５８を列設した検査エリアＱの複数を、格子状を為すように配置したものである。 （もっと読む）

【課題】マスクと被成膜物とを重ねた状態で、開口部におけるエッジ部分の被成膜物側周囲に、空隙部が設けられているため、所定パターンを形成する際に被成膜物に開口部のエッジ部分が接触することがなく、発光層上に陰極を蒸着しても、陽極と陰極とが導通して短絡してしまうことを確実に防止することのできるマスクおよびマスクを使用した表示素子ならびにマスクを使用した表示素子の製造方法を提供すること。
【解決手段】被成膜物上に所定パターンを形成するために用いられ、その上下面を貫通するとともに前記所定パターンに対応した開口部が設けられたマスクであって、前記マスクと前記被成膜物とを重ねた状態で、前記開口部におけるエッジ部分の被成膜物側周囲に、空隙部が設けられている。 （もっと読む）

【課題】大型の高精度の蒸着用マスクを得ることができるようにすることを目的とする。
【解決手段】開口を有する枠体と、無粗化圧延銅箔により構成され、この開口に対応する位置に、蒸着材料通過用に配列された複数の通過孔から成るパターン領域を有し、このパターン領域の周縁部においてこの枠体に対して張設固定されると共にこのパターン領域を高精度に加工したマスク本体とを備えるものである。 （もっと読む）

【課題】有機EL素子などの製造工程で形成される各層における相互汚染を回避でき、しかも、フットプリントも小さく、生産性の高い成膜システムを提供する。
【解決手段】基板に成膜する成膜装置１３であって、処理容器３０の内部に、第１の層を成膜させる第１成膜機構３５と、第２の層を成膜させる第２成膜機構３６を備える。処理容器３０内を減圧させる排気口３１を設け、第１成膜機構３５を、第２成膜機構３６よりも排気口３１の近くに配置した。第１成膜機構３５は、例えば基板に第１の層を蒸着によって成膜させ、第２成膜機構３６は、例えば基板に第２の層をスパッタリングによって成膜させる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、マスクステーの歪みを抑制することにより、薄膜層のパターン精度を向上させることが可能なＣＶＤ用マスク及びそれを用いたディスプレイの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】マスクフレーム２と、前記マスクフレーム２の上面に形成された凹部４と、前記凹部４に対して脱着可能な状態で挿入される凸部５を有し、前記マスクフレーム２の上面側に配置するとともに、前記マスクフレーム２の対向する両辺に対して掛け渡されるように配置されるマスクステー３と、を備えたことを特徴とするＣＶＤ用マスク。 （もっと読む）

【課題】薄膜蒸着用の回転蒸着源及びこれを用いる薄膜蒸着装置を提供する。
【解決手段】上面は開放され、内部には蒸着物質を入れる坩堝、及び該坩堝を加熱する加熱部を備える蒸着源において、外部から供給される所定の動力を用いて蒸着源を回転させる所定の回転手段を備える回転蒸着源。蒸着しようとする基板、該基板の蒸着が不要な部分を遮蔽し、基板の必要な部分のみを蒸着させる基板に結合されるマスク、基板とマスクとを支持している基板チャッキング装置及び所定の回転手段を用いて回転される蒸着源を備え、該蒸着源は、上面は開放され、内部には蒸着物質を入れる坩堝及び該坩堝を加熱する加熱部を備える回転蒸着源を用いる薄膜蒸着装置。 （もっと読む）

【課題】基板に対して成膜を行う際に、膜厚の測定精度を向上させる。
【解決手段】基板上に薄膜を形成するために該基板を保持する基板ホルダー１０において、基板の被成膜面と同一側に水晶発振式膜厚センサー１３を設ける。基板ホルダー１０は、マスクフレーム１１と、このマスクフレーム１１に溶接固定されたシャドーマスク１２とを備えている。基板ホルダー１０は、水晶発振式膜厚センサー１３から電気信号を取り出す接触接点１５を備えている。基板ホルダー１０は、少なくとも一辺が３００ｍｍ以上の基板を保持する際に好適に用いられる。 （もっと読む）