【課題】ネガ型レジスト組成物用としての利用が可能な新規化合物、該化合物を合成する際の新規中間体化合物、ネガ型レジスト組成物および該ネガ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ａ−１）で表される化合物［式（Ａ−１）中、Ｚはラクトン環が加水分解されて開環したヒドロキシカルボン酸を有する基であり；Ｒ^１１〜Ｒ^１７はそれぞれ独立に炭素数１〜１０のアルキル基、アルケニル基または芳香族炭化水素基であって、その構造中にヘテロ原子を含んでもよく；ｇ、ｊはそれぞれ独立に１以上の整数であり、ｋ、ｑは０または１以上の整数であり；ｈは１以上の整数であり、ｌ、ｍはそれぞれ独立に０または１以上の整数であり；ｉは１以上の整数であり、ｎ、ｏはそれぞれ独立に０または１以上の整数であり；Ｘはアルキレン基、脂肪族環式基または芳香族環式基である。］。
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【課題】ネガ型レジスト組成物用としての利用が可能な新規化合物、該化合物を合成する際の新規中間体化合物、ネガ型レジスト組成物および該ネガ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ａ−１）で表される化合物［式中、Ｚはラクトン環を有する基、ラクトン環が加水分解されて開環したヒドロキシカルボン酸を有する基、または水素原子であり；Ｒ^１１〜Ｒ^１７はそれぞれ独立に炭素数１〜１０のアルキル基、アルケニル基または芳香族炭化水素基であって、その構造中にヘテロ原子を含んでもよく；ｇ、ｊはそれぞれ独立に１以上の整数であり、ｋ、ｑは０または１以上の整数であり；ｈは１以上の整数であり、ｌ、ｍはそれぞれ独立に０または１以上の整数であり；ｉは１以上の整数であり、ｎ、ｏはそれぞれ独立に０または１以上の整数であり；Ｘは脂肪族環式基または芳香族環式基である。］。
［化１］
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【課題】レジスト組成物、特にネガ型レジスト組成物用としての利用が可能な新規化合物を合成する際の新規中間体化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｊ−１）で表される化合物［式（Ｊ−１）中、Ｙはラクトン環を有する基であり；Ｒ^１３〜Ｒ^１６はそれぞれ独立に炭素数１〜１０のアルキル基、アルケニル基または芳香族炭化水素基であって、その構造中にヘテロ原子を含んでもよく；ｈは１以上の整数であり、ｌ、ｍはそれぞれ独立に０または１以上の整数であり、かつｈ＋ｌ＋ｍが４以下であり；ｉは１以上の整数であり、ｎ、ｏはそれぞれ独立に０または１以上の整数であり、かつｉ＋ｎ＋ｏが４以下であり；Ｘはアルキレン基、脂肪族環式基または芳香族環式基である。］。
［化１］
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【課題】天然物に由来し、安全性の高い抗炎症剤及びこれを含有する化粧品並びに医薬部外品を提供すること。
【解決手段】式（１）
【化１】


（式中、Rは、=CH-(CH₂）₁₂-CH₃又は=CH-(CH₂)₄-CH=CH-(CH₂)₈-CH₃又は=CH-(CH₂)₁₆-CH₃を示す）で表されるブタノライド誘導体を有効成分として含有する抗炎症剤。該抗炎症剤において、炎症は皮膚炎症でもよく、また、皮膚炎症はアトピー性皮膚炎又は火傷性皮膚炎でもよい。該抗炎症剤を含有する化粧品又は医薬部外品。 （もっと読む）

ゲムシタビンの合成に有用な、式（Ｉ）の新規なナフタレン−２−カルボキシレート誘導体及びその製造方法を提供する。
【化００１】


（上記式において、Ｒ１とＲ２はそれぞれ独立して水素、メチル、クロロ、フルオロ、ブロモ、ヨード、メトキシ、エトキシ又はニトロである。）
新規な誘導体は２−デオキシ−２，２−ジフルオロ−ペントフラノース−１−ウロースのヒドロキシ保護基としてナフタレン−２−カルボキシレートを有する。
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塩酸ゲムシタビンの調製およびその精製のためのプロセス。このプロセスは、ｉ）ヨウ素および低級アルコール溶媒を用い、式ＩＩＩの化合物を、式ＩＶの化合物へと変換後、共沸蒸留する工程；ｉｉ）第三級ブチルジフェニルシリルクロリドをヒドロキシ保護試薬として用いて式ＩＶの化合物のヒドロキシ基を保護し、式Ｖの化合物を得る工程；ｉｉｉ）適切な還元試薬を用いて式Ｖの化合物を還元し、式ＶＩの化合物を得る工程；ｉｖ）適切な塩基の存在下において、アルキルまたはアリールスルホニルクロリドを用いて式ＶＩの化合物を保護し、式ＶＩＩの化合物を得る工程；ｖ）適切な塩基の存在下において、式ＶＩＩの化合物を式ＶＩＩＩのＮ−アセチルシトシン化合物と縮合させ、式ＩＸの化合物を得る工程；およびｖｉ）適切な試薬を用いて式ＩＸの化合物を脱保護してゲムシタビンを得る工程を包含する。
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2'-分岐型ヌクレオシド化合物の製造における主要中間体を製造するための方法を提供する。該方法は、保護前駆体3,4-O-イソプロピリデン-2-C-置換-D-アラビノノ-1,5-ラクトンを無水条件下でフッ素化剤と接触させ、該前駆体を保護2-デオキシ-2-ハロ-2-C-二置換リボノ-1,5-ラクトン及び場合により2-デオキシ-2-ハロ-2-C-二置換リボノ-1,4-ラクトンに変換することを含む。 （もっと読む）

【課題】 医薬、農薬、感光性樹脂や光学樹脂等の精密化学品の原料として有用なα−（メタ）アクリロイロキシ−γ−ブチロラクトンを、簡便に高純度かつ収率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】
α−ブロモ−γ−ブチロラクトンと（メタ）アクリル酸とをアルカリ金属及び／又はアルカリ土類金属の無機酸塩の存在下、極性溶媒中で反応させてα−（メタ）アクリロイロキシーγ一ブチロラクトンを製造する方法において、アルカリ金属及び／又はアルカリ土類金属の無機酸塩を、下記式（１）を満足する量使用し、かつ極性溶媒としてアミド系溶媒を用いて反応することを特徴とするα−（メタ）アクリロイロキシ−γ−ブチロラクトンの製造方法。
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式（Ｉ）
【化１】


のベンゾイル誘導体および除草剤としてのその使用が開示されている。
前記一般式（Ｉ）中、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³は異なる基を表す、Ｘは酸素および硫黄を含む群からの橋かけ原子を表し、そしてＨｅｔは酸素原子および炭素原子を含有する飽和複素環式基を表す。
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本発明は、（ｉ）２'-デオキシ-２'-フルオロ-２'-メチル-Ｄ-リボノラクトン誘導体、（ｉｉ）強い抗ＨＣＶ活性を有するヌクレオシド類及びその類似体への中間体ラクトン類の転化、及び（ｉｉｉ）予め生成された好ましくは天然に生じるヌクレオシドから２'-デオキシ-２'-フルオロ-２'-Ｃ-メチル-β-Ｄ-リボフラノシルヌクレオシド類を含む抗ＨＣＶヌクレオシド類を製造する方法を提供する。 （もっと読む）

式（ＩＩＩ）の３Ｒ−カルボキシレートエナンチオマー誘導体が本発明の方法により容易に選択的に製造でき、高度に純粋なＤ−エリスロー２，２−ジフルオロ−２−デオキシ−１−オキソリボース誘導体が中間体として式（ＩＩＩ）の化合物から効率的に製造できる。 （もっと読む）

水を除去するためにガススパージングを用いて、アルダル酸、アルドン酸、およびその相当する塩が、相当するラクトンまたはジラクトンに環化される。 （もっと読む）

本発明は、活性成分がＰｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ａｇ、Ａｕからなる金属の群から選択される貴金属およびＳｎ、Ｇｅ、Ｍｏ、Ｗ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｃｒ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、ＹｂおよびＬｕからなる元素の群から選択される少なくとも１種類の別の元素を含む触媒の存在下に、対応するように置換された光学活性なモノカルボン酸類もしくはジカルボン酸類もしくはそれらの酸誘導体を水素化することによる、３〜２５個の炭素原子を有する光学活性ヒドロキシ−、アルコキシ−、アミノ−、アルキル−、アリール−もしくは塩素−置換アルコール類もしくはヒドロキシカルボン酸類またはそれらの酸誘導体もしくは環化生成物の製造方法に関するものである。 （もっと読む）

本発明は、活性成分がルテニウムまたはレニウムからなり、少なくとも１種類の原子番号２２〜８３を有する別の元素を含む触媒の存在下に、対応するように置換された光学活性モノもしくはジカルボン酸またはそれの酸誘導体を水素化することによる、３〜２５個の炭素原子を有する光学活性ヒドロキシ−、アルコキシ−、アミノ−、アルキル−、アリール−または塩素−置換アルコールもしくはヒドロキシカルボン酸またはそれの酸誘導体もしくは環化生成物の製造方法であって、
ただし、
ａ．前記の少なくとも１種類の原子番号２２〜８３を有する別の元素がルテニウム以外であり；
ｂ．対応する光学活性２−アミノカルボン酸、２−クロロカルボン酸、２−ヒドロキシカルボン酸および２−アルコキシカルボン酸またはそれらの酸誘導体を接触水素化することで光学活性２−アミノ−、２−クロロ−、２−ヒドロキシ−および２−アルコキシ−１−アルカノールを製造する場合に、前記の少なくとも１種類の原子番号２２〜８３を有する別の元素がパラジウムおよび白金以外である方法に関するものである。 （もっと読む）

本発明は、カテプシンＳの選択的阻害のための化合物、組成物および方法を提供する。好ましい局面において、カテプシンＳが、少なくとも１種の他のカテプシンイソ酵素の存在下で選択的に阻害される。本発明はまたカテプシンＳを選択的に阻害することによる、対象の疾患状態を処置する方法も提供する。

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