【課題】治療照射中にイオンビームの出射をＯＮ／ＯＦＦ制御する場合において、治療の安全性を向上する。
【解決手段】シンクロトロン４を有する荷電粒子ビーム発生装置１と、この荷電粒子ビーム発生装置１から出射されたイオンビームのブラッグピーク幅を形成するＲＭＷと、このＲＭＷの回転角度に基づいて荷電粒子ビーム発生装置１からの荷電粒子ビームの出射及び出射停止を制御するゲート信号生成装置３７と、このゲート信号生成装置３７による荷電粒子ビームの出射及び出射停止の制御が所望のタイミングで行われているかどうかを判定する照射制御・判定部６６とを備える。 （もっと読む）

【課題】陽子・炭素イオン等の荷電粒子ビーム出射装置の出射に関し、治療時間を短縮する方法を提案する。
【解決手段】リッジフィルタ若しくはレンジモジュレーションホイール（ＲＭＷ）を対応する形状に成形し、ＲＭＷのビームＯＮ／ＯＦＦ制御若しくはＲＭＷのビーム電流制御を行い、インテンシティモジュレーション制御を行い、又はスキャニング方式の照射を行うことにより、患者５内に線量同一若しくは線量が異なる複数の拡大ブラッグピークを形成させる。また、部分的に線量の異なる拡大ブラッグピークを形成させる。 （もっと読む）

生体内の腫瘍の少なくとも一部を外科的に切除することにより作られた切除腔における内壁を治療する留置治療装置（１）は、この装置（１）、装置の部品、及び装置（１）の付属品の材料を、生体内で生物学的に分解可能としたことを特徴とする。さらに、生体内の腫瘍を治療するための外科的処置方法は、（ａ）前記腫瘍の少なくとも一部を外科的に切除しそれにより生体の残存組織中に切除腔を作るステップと、（ｂ）前記切除腔の中に生分解性の治療装置を留置して、生分解性の装置が前記切除腔を埋めるようにするステップと、および（ｃ）前記留置した治療装置を用いて前記切除腔周囲の組織を治療するステップとを有する。
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【課題】作製に多くの手順と時間を要するコンペンセータに代わる製造が容易な放射線照射装置用コンペンセータと、その配列パターンを確認照合する手段を備えたコンペンセータ配列照合方法を提供する。
【解決手段】比重が１１以上の重い材料のみで成形した直方体形状のコンペンセータ棒と、質量の軽い材料のみで成形した直方体形状のコンペンセータ棒と。比重が１１以上の重い材料と比重が１未満の軽い材料を接合した直方体形状のコンペンセータ棒の合計３種類のコンペンセータ棒をマトリックス状に配列してケースに充填し、その配列パタンを照合確認できるようにした。 （もっと読む）

【課題】 各治療に共通に利用でき、製作までの時間と材料の浪費を抑制することができる荷電粒子照射野形成装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 加速器で加速された荷電粒子ビーム１を照射対象に照射するものであり、荷電粒子ビーム１によって形成されるブラッグピークの線量カーブのピーク形状を拡大する拡大ブラッグピーク形成器を備えた荷電粒子照射野形成装置において、拡大ブラッグピーク形成器は、平板の一方向にスリット状の穴５が周期的に形成され、荷電粒子ビーム１の照射方向に、スリット状の穴５の向きが同一方向となるようにして積層された同一形状の層板２と、スリット状の穴５の周期的な繰り返しの方向に層板それぞれを独立に移動させるとともに移動量を調節する図示していない移動機構とを備えたものである。 （もっと読む）

【課題】 粒子線のスキャニング照射を呼吸や心臓拍動によって腫瘍部が動くような場合に適用する際、腫瘍部に対して計画通りの線量（一様線量など）で照射できるようにした放射線照射方法を提供する。
【解決手段】 スキャニング照射において粒子線１は、３次元的に局所集中した線量分布をもつビームスポットとなって患者の腫瘍部２を塗りつぶすように照射される。各ビームスポット位置にあらかじめ計画された照射量を与えることで腫瘍部２に計画線量を与えることが出来る。各ビームスポット位置は水平と垂直の２台の走査電磁石４，５、エネルギ（レンジシフタ６等）により、照射量はオンラインモニタ７により制御される。他のビームスポット位置よりも例えば２倍〜１００倍程度の非常に大きな照射量を計画されたビームスポット位置には、粒子線１を複数回に分けて照射することにより、腫瘍部の動きによる計画線量と照射線量の差を小さくする。 （もっと読む）

【課題】装置を低コストに抑え、かつ、レンジシフタ駆動音の低減を図ることが可能な粒子線照射装置を得る。
【解決手段】荷電粒子ビーム２を偏向させて、被照射体６の内部の照射領域７での平面方向の位置を制御する偏向電磁石１ａ，１ｂが設けられている。また、偏向された荷電粒子ビーム２を通過させることにより、被照射体６の内部の照射領域７での深さ方向の位置を制御する階段状に構成された階段状レンジシフタ３が設けられている。駆動装置により階段状レンジシフタ３をＡ方向に移動させることにより、レンジシフタの厚さの調整を行われ、当該厚さに基づいて、被照射体６の内部の照射領域７での深さ方向の位置が決定される。また、荷電粒子ビーム２の照射位置が正しく制御されているかを確認するための位置モニタ４および線量モニタ５が設けられている。 （もっと読む）

本明細書では、スペーシング部材を含む近接照射治療装置を開示する。スペーシング部材は、機器を、感受性組織と接触する放射線量を制限し、それによって感受性組織を過熱もしくはホットスポットから保護し、および／または医療従事者または患者に近づく可能性のある他の人々に影響する可能性のある、患者体部の外側の放射線被曝から保護するのに有効である。特に、スペーシング器具は、手術切除部位に近接する感受性組織の外面に近接照射治療装置が近接することを制御するのに有効である。

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【課題】
荷電粒子ビームの損失を低減した荷電粒子ビーム装置とその運転方法を提供する。
【解決手段】
照射される荷電粒子ビームのエネルギー等の患者情報に基づき予め、演算装置１３１で各層の深さに応じて照射に適したビームエネルギーＥｉを求める。制御装置１３２は、周回する荷電粒子ビームをビームエネルギーＥｉまで加速するために、偏向電磁石１４６，４極電磁石１４５に電流を供給するように、高周波加速空胴１４７に電力を供給するように、加速器用電源装置１６５を制御する。本発明によれば、荷電粒子ビームの損失を少なくして、均一な照射野を形成することができる。 （もっと読む）

物理特性の制御、放射線吸収、および材料表面でのナノスコピックなガラス層のインサイチュ形成のために金属化されたおよび金属化されていないナノスコピックなケイ素含有試薬を用いる方法。ポリマー、金属、複合材料、セラミックス、ガラスおよび生物材料との設計可能な適合性のために、ナノスコピックなケイ素含有試薬は直接混合プロセスによりナノメートルレベルで材料に容易かつ選択的に組み込むことができる。改善される特性は、ガスおよび液体バリア、ステイン耐性、環境劣化に対する耐性、放射線吸収、接着、印刷性、時間依存の機械的および熱的特性たとえば加熱歪、クリーピング、圧縮変形、収縮、弾力性、硬さおよび磨耗耐性、電気的および熱的伝導性、および耐火性を含む。これらの材料は、飲料および食品パッケージング、宇宙生存材料、マイクロエレクトロニックパッケージング、および放射線吸収性塗料およびコーティングを含む多くの用途に有用に用いられる。 （もっと読む）

癌を処置し、そして／または腫瘍増殖を減少もしくは阻害する必要のある被験体において、癌を処置し、そして／または腫瘍増殖を減少もしくは阻害する方法であって、この方法は、血管内皮増殖因子（ＶＥＧＦ）インヒビターまたはトラップ（例えば、配列番号１または配列番号３のＶＥＧＦトラップ）を含有する薬学的組成物を、放射線治療（電離放射線および／または治療用放射線医薬品を含む）と組み合わせて投与する工程を包含する。本発明の分野は、放射線治療と組み合わせて、血管内皮増殖因子（ＶＥＧＦ）に結合可能かつＶＥＧＦを阻害可能であるＶＥＧＦトラップを用いて、哺乳動物において癌を処置する方法に関する。 （もっと読む）