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Fターム[4D002BA05]の内容

廃ガス処理 (43,622) | 単位操作 (6,955) | 酸化、燃焼 (582)

Fターム[4D002BA05]に分類される特許

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【課題】固体吸着剤の融着を防止する。
【解決手段】ガス処理システム10は、ガス通路12と、酸性ガス成分を中和反応により吸着可能な固体吸着剤Aが充填された第1反応室22のガス通路12に面する側とガス通路12に面しない側にそれぞれ第1内側開口24と第1外側開口28が設けられた第1化学吸着装置20と、固体吸着剤Aが充填された第2反応室42のガス通路12に面する側とガス通路12に面しない側にそれぞれ第2内側開口44と第2外側開口48が設けられた第2化学吸着装置40とを備えている。スライドバルブ110は、ガス供給管71から供給される未処理ガスが第1化学吸着装置20、ガス通路12及び第2化学吸着装置40をこの順に通過する順方向状態か、第2化学吸着装置40、ガス通路12及び第1化学吸着装置20をこの順に通過する逆方向状態かを切り替えるものである。 (もっと読む)


【課題】簡素な構造にて昇華物除去部材の汚染状態を正確に検知することができる排気ガス処理装置を提供する。
【解決手段】第1の筐体11の内部に、熱処理炉Xから排出される高温の排気ガスを透過させて、当該排気ガス中の昇華物を捕集するフィルタ層2aを設けた。前記昇華物を付着させるゲージ5を、前記第1の筐体11の内部に引き抜き可能に導入した。 (もっと読む)


【課題】 有機性廃棄物が投棄、堆積された処分場において、堆積廃棄物から発生する硫化水素やメタンガスを有効に除去する。
【解決手段】 有機性廃棄物が埋め立てられた廃棄物処分場1の埋立エリア2内の堆積廃棄物3中に所定深さの柱状空間を形成し、柱状空間内の所定深さまでをコンクリート再生砕石11で充填する。コンクリート再生砕石11層の上部空間に活性炭袋14を充填して地中コラムを造成10し、地中コラム10に注水して、コンクリート再生砕石11近傍から浸出した用水で、硫化水素の発生を抑止する。また、残留硫化水素ガスは活性炭袋14をを通過させることで、その生成酸化物を活性炭12に吸着担持させる。 (もっと読む)


【課題】処理水等をスムーズにドレインタンクへ流れ込むようにすることで、ドレインタンク流入口での水流の停滞による異常水位検出センサの誤動作を防止するのに好適な除害装置を提供する
【解決手段】除害装置M1は、外部から隔離された除害処理室1と、除害処理室に処理水を散布する処理水散布手段2と、除害処理室の下方に設けたドレインタンク3と、除害処理室の底部からその室内に排ガスや微粒子ダストを導入する配管4と、配管から下向きに分岐してドレインタンク内の上部空間に連通するドレイン管5と、ドレイン管の内側に挿入された連通管6とからなり、連通管6の下端部には、ドレインタンクの上部空間に開口した下端側開口部60を設け、連通管6の上端部には、ドレイン管と配管との境界線Lより高い位置に開口した上端側開口部61を設ける。 (もっと読む)


【課題】気体中に含まれる難分解性化合物を効率よく除去することが可能な処理技術を提供する。
【解決手段】難分解性化合物を含むPFCガス81が導入される下部処理槽22と、上記下部処理槽22内にナノバブル含有水を吐出するナノバブル含有水吐出部54と、上記下部処理槽22内において発生した第1の分解物混合ガスが導入される上部処理槽21と、上記上部処理槽21内に配置されるカルシウム含有物とを備えている、難分解性化合物を含む気体を処理するための処理装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】セメント原料の焼成に伴う燃料燃焼により発生する二酸化炭素、及びセメント原料の脱炭酸反応により発生する二酸化炭素を流動層セメント焼成設備の外方へ排出する虞がなく、さらには、この二酸化炭素を排ガスから分離・回収することができるセメントクリンカの製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】本発明のセメントクリンカの製造方法は、サスペンションプレヒータ1にて予熱・仮焼された粉状のセメント原料Rを流動層セメント焼成設備2に供給し、流動層焼成炉12にて燃料及び酸素ガスの燃焼熱によりセメント原料R’を焼成しセメントクリンカとするとともに、この流動層焼成炉12内に生じた高濃度の二酸化炭素を含む排ガスを流動層セメント焼成設備2にて循環させる。 (もっと読む)


【課題】低濃度PCBを含有する廃棄物を助燃剤および処理対象物として、ロータリーキルン内で焼却または焼成処理し、その際に排出する低濃度PCBを含有する排ガスを加熱処理することによって、低濃度PCBを分解する方法を提供することを課題とするのもである。
【解決手段】ロータリーキルン1内を、主バーナから供給される燃料4と低濃度PCBを含有する液体3の助燃剤とによって300〜1000℃の温度に保持しつつ、当該ロータリーキルン1内に、通常の廃棄物6および低濃度PCBを含有する固体2の処理対象物とを投入して焼却または焼成処理した後に、ロータリーキルン1から排出された排ガスを850℃以上の温度に保持された二次燃焼室5に導入して2秒以上滞留させることにより、上記排ガス中に含まれる低濃度PCBを分解することを特徴とする低濃度PCBの無害化処理方法。 (もっと読む)


【課題】 揮発性汚染物質を包含する飽和帯および不飽和帯を含む汚染地下領域に対し、揚水曝気処理による浄化方法において、低コストで浄化処理期間を短縮し、かつ周辺環境に対し安全である浄化方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 揮発性汚染物質を包含する汚染土壌領域に対し、揚水井から地下水を揚水する揚水工程と、揚水工程で揚水された地下水を曝気槽においてオゾンガスで曝気しながら紫外線を照射させることにより揮発性汚染物質を分解する分解工程を備える汚染土壌及び地下水の浄化方法において、分解工程で処理された地下水を注入井から土壌に戻す注入工程を有し、曝気槽内の気相部を注入井内の地下水に供給することにより、注入井内の地下水にオゾンを混合して地下水中のオゾン濃度を上げ、注入井内の地下水中で揮発性汚染物質を分解することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】特に塗装、印刷、アルミ鋳造もしくは接着工程等からの揮発性有機化合物を含有する排ガスを効率的に脱臭処理し得る方法を提供する。
【解決手段】炭素原子に酸性基、中性基および塩基性基が結合してなる超高分子化合物の水溶液もしくは水分散体を、スクラバーにより、微細ゲルもしくはゾルとして排ガスに噴霧し、ついで該排ガスを脱臭フィルター層を通過させることを特徴とする排ガスの脱臭処理方法。脱臭フィルター層としては光触媒層、活性炭層および/または無機繊維層が好適に使用される。 (もっと読む)


【課題】流体中に含まれる難分解性化合物を効率よく除去することが可能な処理技術を提供する。
【解決手段】難分解性化合物を含むPFCガス31が導入される処理槽19と、処理槽19内にナノバブル含有水を吐出するナノバブル含有水吐出部54と、処理槽19内のナノバブル含有水中にPFCガス31を含むマイクロナノバブルを発生させるマイクロナノバブル発生部79とを備える、難分解性化合物を含む流体を処理するための処理装置20を提供する。 (もっと読む)


【課題】セメントキルンから排出される燃焼排ガスから水銀を効率よく除去する。
【解決手段】セメントキルンの排ガスに含まれるダストを集塵する集塵装置2と、集塵ダストを、セメント焼成設備に付設された塩素バイパスの排ガスG4を用いて加熱し、揮発した水銀を回収する水銀回収装置19とを備えるセメントキルン排ガスの処理装置1等。水銀の揮発にあたり新たな熱源を必要としない。300℃以上700℃以下の含塵ガスを固気分離する固気分離装置を通過したガスで集塵ダストを加熱することができ、集塵ダストを加熱した後の塩素バイパスの排ガスに、塩素ガス又は塩化水素を注入する注入装置13を備えてもよい。塩素ガス又は塩化水素を注入することによって、塩素バイパスの排ガス中の塩化水素とも併せて、ダスト中の金属水銀の塩化水銀への転化を促進させることができる。 (もっと読む)


【課題】 揮発性汚染物質を包含する飽和帯および不飽和帯を含む汚染地下領域に対し、揚水曝気処理による浄化方法において、低コストで浄化処理期間を短縮し、かつ周辺環境に対し安全である浄化方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 揮発性汚染物質を包含する汚染土壌領域に対し、揚水井から地下水を揚水する揚水工程と、揚水工程で揚水された地下水を曝気槽においてオゾンガスで曝気しながら紫外線を照射させることにより揮発性汚染物質を分解する分解工程を備える汚染土壌及び地下水の浄化方法において、分解工程で処理された地下水を注入井から土壌に戻す注入工程を有すると共に注入井の空間部を吸引する吸引工程を有し、吸引工程によって注入井内の地下水からオゾン及び揮発性汚染物質を注入井の空間部に移動させ、不飽和帯から揮発性汚染物質を注入井の空間部に移動させて、注入井の空間部で揮発性汚染物質を分解することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】揮発性有機化合物を含む処理ガスの量の変動に対応することができる揮発性有機化合物処理用コージェネレーションシステムを提供する。
【解決手段】揮発性有機化合物処理用コージェネレーションシステムSは、前記揮発性有機化合物を含む処理ガスを受け入れるチャンバー3と、このチャンバー3内に設けられ、チャンバー3内の圧力を検知する圧力センサー32と、チャンバー3から導かれた前記処理ガス中の前記揮発性有機化合物を吸着剤で吸着し、該吸着剤に吸着した前記揮発性有機化合物を離脱させて前記揮発性有機化合物を濃縮する濃縮装置7と、圧力センサー32により検出されるチャンバー3内の圧力が所定圧に保つよう、第1の送風手段10、11、12の送風量を制御する送風制御手段13とを備えているものである。 (もっと読む)


【課題】半導体製造装置からの排ガスを燃焼式除害装置、集塵装置、ガス洗浄装置に順次送り込んで処理する際に、ガス洗浄装置においてその内部に固形物が付着、堆積することを防止し、ガス洗浄装置の閉塞などの不都合が生じないようする。
【解決手段】半導体製造装置1からの排ガスを燃焼式除害装置3に導入し、ついで集塵装置4に送り、さらにガス洗浄装置に送り込んで処理する際、前記ガス洗浄装置を2段構成とし、第1段ガス洗浄装置6Aで水を洗浄液としてガス洗浄し、ついで、第2段ガス洗浄装置6Bでアルカリ水溶液を洗浄液としてガス洗浄する。 (もっと読む)


特徴は、ポートを通じるガスの流れを制御するよう動作可能な、流動液体を含むバルブを含む。特定の特徴は、ガスを反応させるよう動作可能なチャンバを含み、一部の特徴において、ガスは、流動液体から成る外皮内に実質的に閉じ込められる。特定の実施態様は、ポートを通じるガス流を制御する流動液体から成るバルブでチャンバ内へのガスの進入を制御する。相当な量の固形反応生成物を生むガスを反応させるよう動作可能な反応チャンバを含むシステムを含む、様々なガスアベートメントシステムが記載される。ガス流を制御するための方法が開示される。システム及び方法は、湿式スクラビングし、反応させ、選択的にガス流を更に湿式スクラビングするという順次的なステップを含む。
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【課題】工場などから排出される液体及び気体に含まれる難分解性化合物を、容易かつ効率よく除去することが可能な処理技術を提供する。
【解決手段】本発明に係る処理装置は、液体を処理する液体処理部20と、第1の気体、及び上記液体を処理することによって発生した第2の気体を処理する気体処理手段とを備えており、液体処理部20は、活性炭26を内部に有し、上記液体が導入される液体分解装置19と、液体分解装置19内にナノバブル含有水を吐出するナノバブル含有水吐出部54とを備えており、上記気体処理手段は、第1の気体及び第2の気体を混合するPFCガス混合装置32と、PFCガス混合装置32によって混合された混合気体を分解処理するPFCガス分解装置33とを備えているので、工場などから排出される液体及び気体に含まれる難分解性化合物を、容易かつ効率よく除去することができる。 (もっと読む)


【課題】高温処理設備から排出される排気の熱エネルギを効率的に活用できる塗装設備を提供すること。
【解決手段】塗装ゾーン111から排出される排気を浄化する吸着装置200と、高温気体を発生させる燃焼装置300と、を備え、吸着装置200から導出される導出空気を塗装ゾーン111へと再び導く排気リサイクルシステム130は、内部729に高温気体が流通される高温気体ダクト720と、この高温気体ダクト720を隙間728をあけて包囲し隙間728に浄化空気が流通されるリサイクルダクト730と、からなる二重管構造体710を備える。 (もっと読む)


【課題】所定ゾーンから排出された排気中の揮発性有機化合物を効率的に燃焼除去するとともに、揮発性有機化合物除去後の浄化空気をリサイクルすることが可能な排気リサイクルシステムを提供すること。
【解決手段】揮発性有機化合物を含む排気を排出する所定ゾーンと、前記所定ゾーンから排出された排気中の揮発性有機化合物を吸着する吸着装置200と、前記吸着装置200に吸着された揮発性有機化合物を、前記吸着装置200から離脱させて燃焼装置の燃焼燃料とするとともに、前記吸着装置200を通過して浄化された浄化空気を前記所定ゾーンへ再び導く浄化空気リサイクル装置と、を備えることを特徴とする排気リサイクルシステムを提供する。 (もっと読む)


【課題】吸着濃縮装置に供給される排気中に含まれる揮発性有機化合物の濃度を安定化できる技術を提供すること。
【解決手段】揮発性有機化合物が発生する所定ゾーン111から排出された排気が通過するフィルタ装置本体510を有し、フィルタ装置本体510は、所定ゾーン111から排出された排気中に含まれる揮発性化合物のうちの一部を吸着して保持すると共に、該排気中に含まれる揮発性化合物の濃度が低い場合には、吸着されて保持された揮発性化合物の一部を放出する機能を有する活性炭カートリッジ530を備える。 (もっと読む)


【課題】オゾン水、オゾンミスト等による洗浄・脱臭を適宜複数個所で行うことで、効率的な脱臭効果が得られる処理施設の洗浄脱臭システムを提供する。
【解決手段】ルーフファン13が設けられた建屋10内に廃棄物処理装置が設けられた廃棄物処理施設において、オゾン水を噴きつけて廃棄物から流出する汚れ等を洗浄するオゾン水洗浄装置21及び床面オゾン水洗浄装置22を備えるとともに、廃棄物処理施設において局所的に脱臭する脱臭装置20及び建屋10の内部空間にオゾンミストを噴射する第1オゾンミスト噴射器24、ルーフファン13の旋回流方向に沿ってオゾンミストを噴射する第2オゾンミスト噴射器25を備え、多段階的に複数箇所を洗浄脱臭する。 (もっと読む)


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