【課題】長期間親水性が維持されるシリカコーティング多孔質金属およびその製造方法を提供する。
【解決手段】多孔質金属の骨格表面がＣ：２．５〜１５質量％を含有し、残部がシリカからなる成分組成を有するシリカコーティング層により被覆されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】プレート部材の温度上昇に起因する性能の劣化を抑制できる液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】液滴吐出装置は、機能液の液滴を吐出する吐出口が形成された吐出面を有するプレート部材と、吐出口から液滴が吐出されていないときに、プレート部材を冷却するために、プレート部材の少なくとも一部と接触するように気流を生成する気流生成装置とを備えている。 （もっと読む）

【課題】加熱された吐出ヘッドを簡易かつ確実に冷却して、正確な液滴吐出を行うことができる液滴吐出装置及び液滴吐出方法を提案する。
【解決手段】液滴吐出ヘッド３４から基板に対して液滴Ｌを吐出する液滴吐出装置において、液滴吐出ヘッド３４により液滴吐出を行う領域外に液滴吐出ヘッド３４を冷却液Ｖに浸漬するヘッド冷却部８１を備える。ヘッド冷却部８１は、液滴吐出ヘッド３４のノズル１８から吐出用液体Ｌを吸引する吸引キャップ部を兼ねる。 （もっと読む）

【課題】 高温下における防汚染性に優れ、簡単かつ低コストでコーティング層を形成することのできる方法を提供する。
【解決手段】 基材１の表面にコーティング層２を形成する方法において、ポリシラザンとアクリル系樹脂とを含有するコーティング液を、前記ポリシラザンと前記アクリル系樹脂との混合割合を変えて複数種類準備し、前記アクリル系樹脂の混合割合が高い前記コーティング液から順に、前記複数種類のコーティング液を取り替えつつ、前記基材の表面に複数回塗り重ねて、前記コーティング層を形成した。 （もっと読む）

【課題】基材から剥離しにくい強固な光触媒塗布膜の提供。
【解決手段】光触媒の塗布液に有機ポリマービーズを添加し、この塗布液を基材に塗布した後に、これを焼成することにより前記基材に光触媒塗布膜を形成する。焼成過程における光触媒塗布膜の熱収縮が緩和され、光触媒塗布膜に亀裂構造が生じなくなる。前記焼成の温度は前記有機ポリマービーズの昇華温度以上の温度に設定するとよい。有機ポリマービーズの添加量は光触媒の重量に対して２０〜９０％にするとよい。前記有機ポリマービーズとしてはアクリルビーズが挙げられる。前記有機ポリマービーズとしては平均粒子経が１〜５μｍのアクリルビーズが挙げられる。 （もっと読む）

【課題】 ノズルから吐出された液滴に変質等が生じないように吐出空間の雰囲気を置換することが可能な半導体デバイス製造装置および半導体デバイス製造方法を提供する。
【解決手段】 封止部材２１を上昇させて支持部材１３の当接面１７ａに封止部材２１の縁部２１ａを当接させ、精密吐出ノズル５を隔離した状態で、排気装置４１を作動させてチャンバ１内を所定の圧力まで減圧排気する。次に、ガス導入部２６を介してパージガス供給源３１からパージガスをチャンバ１内に導入し、チャンバ１内雰囲気をパージガスで置換するとともに、チャンバ１内の圧力を大気圧に戻した後、封止部材２１を下降させて精密吐出ノズル５の隔離を解除する。次に、キャリッジ７をＸ方向に往復移動させながら、基板Ｓ表面へ向けて液体デバイス材料の液滴を吐出する。 （もっと読む）

【課題】親水性層と基材との密着性に優れ、親水性層の耐久性に優れる表面親水性部材及びそれに用いることができる親水性部材用基板を提供することにある。
【解決手段】本発明の親水性部材用基板は、基材上にＭ−ＯＨ（式中、ＭはＳｉ、Ｔｉ、ＺｒまたはＡｌを表す。）で表される部分構造を含有する下塗層を有し、該下塗層表面のＭ−ＯＨ／Ｍの値が１〜０．４であるものであり、本発明の親水性部材用基板は、その下塗層上にさらに親水性層を有することを特徴とする。該下塗層は、Ｓｉ、Ｔｉ，Ｚｒ、Ａｌから選択される金属アルコキシドを含有する組成物を、加水分解、重縮合させたものであることが好ましく、該加水分解、重縮合が３０〜２００℃でなされたものであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】電気石と酸化ケイ素とからなる複合体を得、これを用いて比較的厚い且つ均質な酸化ケイ素皮膜を物体上に作ることができる複合体の製造方法の提供。
【解決手段】本発明の電気石と酸化ケイ素とからなる複合体の製造方法は、テトラエトキシシランを塩基性触媒の存在下に加水分解すると共に、ゾル−ゲル反応により高分子初期縮合物を得、該初期縮合物に電気石の微粉末を混合し、造粒し、乾燥した後、２５０℃から６５０℃までの温度で焼結することを特徴とする。複合体中の電気石と酸化ケイ素の重量比が４：９６ないし７６：２４である。高分子初期縮合物の平均分子量が２００〜３００である。複合体の表面積がBET法表面積測定で２９ｍ^２／g〜４６０ｍ^２／gである。複合体は、水媒体中で機械的刺激により微水溶性の酸化ケイ素が、物体上に強固な被膜を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】溶融点に関係なく全ての金属に純粋ＳｉＣをコーティングすることができ、熱膨張係数の差異による剥離などの発生を防止することができると共に、ＳｉＣコーティング時間を短縮すること。
【解決手段】本発明は、表面にセラミックがコーティングされた金属及びその製造方法に関し、ａ）ＳｉＣ前駆体を溶媒に溶解させてコーティング溶液を用意する段階と、ｂ）前記ａ）段階で用意したコーティング溶液を金属材料の表面に高温を使用しないコーティング法でコーティングする段階と、ｃ）前記コーティング溶液がコーティングされた金属材料を酸素が遮断された雰囲気で乾燥させて、金属材料の表面にＳｉＣ前駆体コーティング層を形成する段階と、ｄ）前記ＳｉＣ前駆体コーティング層を前処理して、ポリマーを一部除去する段階と、ｅ）熱処理を通じて前記ＳｉＣ前駆体コーティング層をＳｉＣコーティング層に転換させる段階とを含む。 （もっと読む）

水性フェノキシ樹脂、架橋剤及びシリコーン化合物を含む非粘着性のコーティング組成物。本発明のコーティング組成物は、フルオロカーボン樹脂を実質的に含まない。アルミニウムのような物品が本発明の組成物でコーティングされうる。該組成物は、多層であってもよいが、最初の層以外の層だけがシリコーン化合物を含む。本発明は、１または複数のコーティングを施与する方法を包含する。 （もっと読む）

【課題】フッ素系化合物を用いた撥水膜（防汚層）を備えながら十分な耐久性を有する光学物品の製造方法およびこの製造方法により製造された光学物品を提供すること。
【解決手段】基板上に、有機系反射防止層と、防汚層とを有する光学物品の製造方法であって、有機ケイ素化合物と中空シリカ系微粒子との質量比を、有機ケイ素化合物／中空シリカ系微粒子＝７０／３０〜４０／６０とする有機系反射防止層形成用組成物を前記基板上に塗布する塗布工程と、前記塗布工程後に、前記基板を８０〜１００℃で焼成する焼成工程と、前記焼成工程後に、前記有機系反射防止層の上に防汚層形成用組成物を塗布する防汚層形成工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】カーボンナノチューブ（ＣＮＴ）等の極細炭素そのもののエミッション特性を改善することができ、エミッタとしての寿命を延ばすことができ、さらには、エミッタのエミッション特性に優れた電界電子放出素子を得ることができる極細炭素含有塗料と極細炭素膜の製造方法及び極細炭素膜並びに電界電子放出素子を提供する。
【解決手段】本発明の極細炭素含有塗料は、ＣＮＴ、炭素繊維、針状炭素粒子等の極細炭素と、アルカリ金属、アルカリ土金属、遷移元素、希土類元素及び貴金属の元素群から選択される１種または２種以上の金属または金属化合物とを複合化した複合物と、有機溶媒と、有機高分子とを含有した塗料である。 （もっと読む）

【課題】 比誘電率が３．０以下と小さく、しかもヤング弾性率が３．０ GPa以上の被膜強度を有する低誘電率非晶質シリカ系被膜を基板上に安定的に形成する方法に関する。
【解決手段】 （ａ）テトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイド（TAAOH）の存在下で加水分解して得られる有機ケイ素化合物の加水分解物を含む液状組成物を基板上に塗布する工程、（ｂ）前記基板を装置内に収納し、該基板上に形成された被膜を２５〜３４０℃の温度条件下で乾燥する工程、（ｃ）前記装置内に水蒸気を導入し、前記被膜を１０５〜４５０℃の温度条件下で加熱して加熱処理する工程、および（ｄ）前記装置内に窒素ガスを導入して、前記被膜を３５０〜４５０℃の温度条件下で焼成する工程を含む各工程で少なくとも処理することを特徴とする低誘電率非晶質シリカ系被膜の形成方法。 （もっと読む）

本発明のアルミニウム箔は、アルミニウム箔１１の無光沢面の表面にプライマーコーティング液を塗布し、２０℃〜１１０℃の温度で乾燥させた後、０℃〜２０℃に冷却して形成されたプライマーコーティング層１３と、プライマーコーティング層１３の上部に中塗コーティング液を塗布して形成された中塗コーティング層１５と、中塗コーティング層１５の上部に上塗コーティング液を塗布し、６０℃〜４３０℃の温度で３分〜５分間焼成して形成された上塗コーティング層１７とから構成される。 （もっと読む）

【課題】 透過率の低いブラックマトリクスを好適に形成することができる無機粉体含有樹脂組成物、当該無機粉体含有樹脂組成物からなる無機粉体含有樹脂層を有する転写フィルム、および、反射率および透過率が低く、遮光性に優れたブラックマトリクスを形成するフラットパネルディスプレイの製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）無機粉体として、（Ａ−１）顔料、および（Ａ−２）ガラス粉体、（Ｂ）結着樹脂、（Ｃ）光重合性モノマー、並びに（Ｄ）光重合開始剤を含有し、（Ａ）無機粉体中に（Ａ−２）ガラス粉体が占める割合が７０〜９５質量％である。 （もっと読む）

本発明は、ホウ素、アルミニウムおよび／またはチタニウム、およびケイ素結合分岐状アルコキシ基を含有するシリコーン樹脂；同シリコーン樹脂を含有するシリコーン組成物；シリコーン組成物を基板に塗布して膜を形成し、膜のシリコーン樹脂を熱分解することからなる被覆基板の製造方法に関する。前記シリコーン樹脂は、（ＥＯ_ｓ／２）_ｔ（ＨＳｉＯ_３／２）_ｖ（（Ｒ^１Ｏ）_３ＳｉＯ_１／２）_ｗ（（Ｒ^１Ｏ）_２ＳｉＯ_２／２）_ｘ（Ｒ^１ＯＳｉＯ_３／２）_ｙ（ＳｉＯ_４／２）_ｚ（各Ｅは独立してホウ素、アルミニウム、およびチタニウムから選択される原子であり；Ｒ^１はＣ_１からＣ_１０の分岐状アルキルであり；Ｅがホウ素またはアルミニウムであるときは、ｓ＝３で、Ｅがチタニウムであるときは、ｓ＝４であり；ｔは０．０１から０．８であり；ｖは０から０．９９であり；ｗは０から０．９９であり；ｘは０から０．９９であり；ｙは０から０．９９であり；ｚは０から０．８であり；ｗ＋ｘ＋ｙ＝０．０１から０．９９；かつ、ｔ＋ｖ＋ｗ＋ｘ＋ｙ＋ｚ＝１）で表される。 （もっと読む）

【課題】十分な熱線遮蔽性能、及び建築用途、車両用途として十分に使用できる耐摩耗性、耐候性を有する熱線遮蔽膜形成基材をより低コストで生産するために、処理剤の基材への塗着効率が改善された該基材の製法を提供することを課題とする。
【解決手段】トリアルコキシシラン又はトリアルコキシシランとテトラアルコキシシランを出発原料として形成されたゾル溶液、及び錫ドープ酸化インジウム超微粒子が分散された溶液とを混合して処理剤とする工程、及び処理剤を基材に塗布する塗布工程を有し、前記ゾル溶液は、沸点が１００乃至２００℃の有機溶媒を分散媒とするゾル溶液とし、前記塗布工程を、処理剤を保持した部材を基材に接触させる手段とすること、又は処理剤の噴霧による手段とすること。 （もっと読む）

【課題】過酷な負荷条件下での摺動に対しても剥離が起こらず、コーティング下地処理中に使用するショット材がコーティング層付近のアルミ合金等の母材に残留することがなくて残留ショット材がコーティング層等を傷付けるおそれのない、密着性が優れた良質なフッ素系樹脂コーティング方法を提供する。
【解決手段】コーティング対象物の表面にプラズマを照射して表面を微細に粗面化、活性化する。そして、このプラズマ照射後のコーティング対象物の表面にフッ素系樹脂塗装を施し、その塗装面を焼成する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、均一な粒子径を有し、分散安定性に優れ、印刷物や導電性パターン形成にも利用可能で、かつ導電性ペーストとして利用した際に、低温で焼結させることができ良好な物性が得られる金属微粒子分散体の製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】液状媒体中に脂肪酸の金属塩化合物を分散させたのち、下記式（１）で示されるカルボジヒドラジドまたは下記式（２）で示される多塩基酸ポリヒドラジドを用いて、前記金属塩化合物を還元することを特徴とする金属微粒子分散体の製造方法。
【化１】


（式中Ｒは、ｎ価の多塩基酸残基を表す。） （もっと読む）

【課題】本発明は、基材上にコランダム結晶からなるコランダム層が形成されたコランダム積層体を容易に製造できる方法を提供することを主目的とするものである。
【解決手段】本発明は、スプレー装置により、金属酸化物膜成膜性を有するアルミニウム含有化合物が溶解された酸化アルミニウム膜形成用溶液を霧化し、霧化された上記酸化アルミニウム膜形成用溶液を、酸化アルミニウム膜形成温度以上の温度まで加熱した基材に接触させることにより、上記基材上に酸化アルミニウム膜を形成する酸化アルミニウム膜形成工程と、上記酸化アルミニウム膜形成工程により、上記基材上に形成された酸化アルミニウム膜をコランダム結晶化温度以上に加熱することにより、上記酸化アルミニウム膜をコランダム結晶からなるコランダム層とする結晶化工程と、を有することを特徴とする、コランダム積層体の製造方法を提供することにより上記課題を解決するものである。 （もっと読む）