【課題】 弾性表面波素子片の製造に好適な、液滴吐出方式を用いた絶縁膜形成方法を提供する。
【解決手段】 上記課題を解決するための液滴吐出方式を用いた絶縁膜形成方法は、圧電基板に成膜された均等膜厚のパターン電極を覆う絶縁膜を形成する方法であって、液滴吐出方式により圧電基板に形成された金属配線の絶縁膜形成部及び圧電基板に、吐出量を制御した絶縁膜形成材料の液滴を選択的に塗布し、前記金属配線に絶縁膜形成部と非形成部を設けたことを特徴とする。そして、前記絶縁膜形成材料は、無機材料物質を用いて構成することとする。 （もっと読む）

【課題】その後の加工プロセスとの整合性を有し、絶縁層の表面をより簡便にかつ効率良く疎水化することができ、かつ、絶縁層のより深い領域を疎水化することができる表面疎水化方法、ならびに半導体装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁層２０を加熱により活性化する工程と、（Ａ）反応性シラン化合物および（Ｂ）有機溶媒を含む表面疎水化用組成物を前記絶縁層の表面に接触させる工程とにより、前記絶縁層の表面に疎水性膜を形成する疎水化処理方法および前記疎水性膜を含む半導体装置。 （もっと読む）

【課題】 耐久性が高く、しかも明瞭な識別コードを、簡易な設備で基板に形成することができる識別コード描画方法、基板、表示モジュール及び電子機器を提供する。
【解決手段】 電子機器を構成する基板１０は、その裏面のコード描画領域を洗浄装置によって洗浄される。洗浄されたコード描画領域には、撥水化装置により撥水液が吐出される。さらに、撥液化されたコード描画領域に対して、液滴吐出ヘッド５５のノズル５７から、２次元コードを描画するための液滴吐出データに基づいて、金属又は金属酸化物の金属微粒子Ｐを分散させた金属インクのインク滴Ｉａが吐出される。また、基板１０に付着したインク滴Ｉａは、加熱装置により加熱処理される。 （もっと読む）

【課題】 長期間の塗布を行っても塗布幅方向で均一な塗布膜厚を有し、塗布故障が少ない塗布製品が得られ、塗布液と接する箇所の清掃が容易なフッ素系樹脂により被覆加工された１ｍ以上の広幅のダイコータを用いた塗布装置及びダイコータの作製方法の提供。
【解決手段】 塗布液を塗布幅方向に広げるポケット部と、該塗布液を該ポケット部へ供給する塗布液供給口と、前記塗布液を前記ポケット部から支持体に吐出するスリット部とを有し、少なくとも２本のバーを組み付けたダイコータを用いた塗布装置において、前記塗布液に接する該ダイコータの面を構成する該バーの少なくとも一部がフッ素系樹脂で被覆加工されており、前記バーを片方の端面を上にして、吊り下げて、焼成炉で該フッ素系樹脂を焼成処理した後、仕上げ研削加工したことを特徴とする塗布装置。 （もっと読む）

【課題】 ＡＤ法を用いて、高温プロセスを経ることなく結晶性の良い膜を作製できるセラミックス膜の製造方法等を提供する。
【解決手段】 この製造方法は、エアロゾルを利用したセラミックス膜の製造方法であって、非結晶性の成分を含有するセラミックス原料粉をガスに分散させることによってエアロゾルを生成する工程（ａ）と、工程（ａ）において生成されたエアロゾルを基板が配置されたチャンバ内に供給して、上記セラミックス原料粉を基板に堆積させることにより膜を形成する工程（ｂ）とを含む。 （もっと読む）

【課題】 長期間の塗布を行っても塗布幅方向で均一な塗布膜厚を有し、塗布故障が少ない塗布製品が得られ、清掃が容易で、フッ素系樹脂により被覆加工された塗布幅が１ｍ以上の広幅のダイコータを用いた塗布装置及びダイコータの作製方法の提供。
【解決手段】 塗布液を塗布幅方向に広げるポケット部と、該塗布液を該ポケット部へ供給する塗布液供給口と、前記塗布液を前記ポケット部から支持体に吐出するスリット部とを有し、少なくとも２本のバーを組み付けたダイコータを用いた塗布装置において、前記塗布液に接する該ダイコータの面を構成する該バーの少なくとも一部がフッ素系樹脂で被覆加工されており、前記バーを、前式１）で示される熱膨張係数の関係を有する台の面上に載置して焼成炉で該フッ素系樹脂を焼成処理した後、仕上げ研削加工したことを特徴とする塗布装置。 （もっと読む）

【課題】 各種のパターンを高精細かつ高精度にしかも簡単な工程で形成することができるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 表面に親液性の部分１ａと撥液性の部分１ｂとを有する基板１上に流動性を有する材料３を塗布した後、この材料３が塗布された基板１と表面が親液性の部材４とを、この部材４と材料３とが互いに接触するように相対的に移動させる。親液性の部分１ａの表面自由エネルギーは５０ｍＪ／ｍ² 以上、撥液性の部分１ｂの表面自由エネルギーは３０ｍＪ／ｍ² 以下、表面が親液性の部材４の表面自由エネルギーは５０ｍＪ／ｍ² 以上とする。基板１と部材４との間隙は０．１μｍ以上１０ｍｍ以下とする。流動性を有する材料３は、液体、混合溶液、分散液等である。移動速度は０．０１ｍｍ／ｓ以上１０００ｍｍ／ｓ以下とする。 （もっと読む）

【課題】 各種のパターンを高精細かつ高精度にしかも低コストで形成することができるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 親液性の基板１ａ上に撥液性のパターン１ｂを形成してスタンプ１を作製する。このスタンプ１の基板１ａ上に流動性を有する材料３を充填した後、このスタンプ１と他の基板５とを密着させる。この状態で材料３を加熱して蒸気化することにより、スタンプ１、基板５およびパターン１ｂにより囲まれた微小な密閉空間内に蒸気６を発生させる。この蒸気６を基板５の表面に付着させることによりパターン７を形成する。流動性を有する材料３は、液体、混合溶液、分散液等である。 （もっと読む）

【課題】紙詰まりなどのトラブルにおいても定着ベルトに傷や破壊が生じにくく、耐熱性基材、弾性層、及びフッ素樹脂層の各層間の密着力が高く、耐久性に優れた定着ベルトとその製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】耐熱性基材からなる管状物の外面に密封耐熱性の高いシリコーンゴムを成形し、少なくとも形状を保持できるまで加硫し、その外面に未焼成フッ素樹脂液をコーティングし、その後フッ素樹脂の融点以上の温度で焼成し、シリコーンゴムの加硫と、フッ素樹脂の焼成を同時に行い複合一体化した複合管状物をえる。 （もっと読む）

【課題】構造誘導体物質として環状シロキサン系モノマーを使用する、誘電率が低く且つ諸般物性に優れた低誘電性メソポーラス薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】環状シロキサン系モノマー、有機溶媒、酸または塩基、および水を混合してコーティング液を準備する第１段階と、前段階で得たコーティング液を基板上に塗布した後、熱硬化させてメソポーラス薄膜を得る第２段階とを含む、低誘電性メソポーラス薄膜の製造方法。 （もっと読む）

本発明は、絶縁膜形成用コーティング組成物、その組成物を使用する低誘電絶縁膜の製造方法、その組成物から製造される半導体素子用低誘電絶縁膜およびその絶縁膜からなる半導体素子に関する。とくに、低誘電率を有し、かつ優れた機械的強度（弾性率）を有する絶縁膜を製造することができる絶縁膜形成用コーティング組成物、その組成物を用いる低誘電率絶縁膜の製造方法、その組成物から製造される半導体素子用低誘電絶縁膜およびその絶縁膜からなる半導体素子に関する。本発明のコーティング組成物は、低分子量の有機シロキサン樹脂および水からなり、そして、絶縁膜の低誘電率および機械的強度を顕著に向上させることができる。
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【課題】 トナー離型製を損なうことなく、長期稼動中において相関剥離等の問題が生じない耐久性の高い定着ベルト、定着ローラ及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 定着ベルト１０は、基層１１の上部に、相溶層１２と弾性層１３とが順次積層される形で形成される。基層１１はポリイミドにより構成され、弾性層１３はシリコーンゴムにより構成される。相溶層１２は、基層１１を形成するポリイミドと弾性層１３を形成するシリコーンゴムとが溶解し、互いの分子が絡み合った組成物により構成される。基層１１及び弾性層１３と接合する相溶層１２により、基層１１と弾性層１３とは間接的に接合される。 （もっと読む）

【課題】 配線又は電子回路などについて、効率よく大量に製造できるパターン形成方法、パターン形成システムおよび電子機器を提供する。
【解決手段】 テープ形状基板１１であって該テープ形状基板１１の両端部位がそれぞれ第１リール１０１と第２リール１０２に巻き取られてなるリールツーリール基板に、液状体を液滴として吐出して塗布する液滴吐出方式を少なくとも用いて、パターンを形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 シリコーンゴム層とふっ素樹脂膜が優れた接着力をもち、かつ膜厚が薄く表面平滑性の優れたふっ素樹脂膜を形成することができるふっ素樹脂被覆方法の提供。
【解決手段】 第一の工程として基材上に付加反応型液状シリコーンゴムの未硬化層を形成、第二の工程として熱可塑性樹脂粒子を前記シリコーンゴム表面に塗布し、第三の工程として前記の熱可塑性樹脂粒子を塗布したシリコーンゴムを加熱硬化し、第四の工程として前記の加熱硬化させたシリコーンゴム表面にふっ素樹脂粒子の分散液を塗布・乾燥し、第五の工程として前記ふっ素樹脂粒子を焼成・製膜することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 熱硬化性樹脂または熱可塑性樹脂を基材に用いた高精細且つ高周波用途に適した配線基板用フィルム基材を提供すること。
【解決手段】 ポリイミドまたは液晶ポリマー（ＬＣＰ）からなる樹脂フィルム１１と、樹脂フィルム１１上に塗布された有機ＳＯＧ溶液の塗布膜を硬化させたシロキサンポリマーを含むポリマー膜１２と、ポリマー膜１２を下地層としてＮｉ−Ｂ無電解メッキ液に浸漬してメッキ処理により形成された金属膜１３と、を有する配線基板用フィルム基材１０。
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【課題】膜硬度及び光触媒活性に優れた光触媒塗料及び該塗料を用いた光触媒膜の製造方法を提供する。膜の吸着作用が高い光触媒塗料及び該塗料を用いた光触媒膜の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の光触媒塗料は、酸化チタン粉末、バインダ及び有機溶剤をそれぞれ含む光触媒塗料の改良であり、その特徴ある構成は、添加剤としてメタクリル酸エステルモノマーを更に含むところにある。 （もっと読む）

【課題】 長期間の塗布を行っても塗布幅方向で均一な塗布膜厚を有し、塗布故障が少ない塗布製品が得られ、塗布液と接する箇所の清掃が容易で、フッ素系樹脂により被覆加工された塗布幅が１ｍ以上の広幅のダイコータを用いた塗布装置及びダイコータの作製方法の提供。
【解決手段】 塗布液を塗布幅方向に広げるポケット部と、該塗布液を該ポケット部へ供給する塗布液供給口と、前記塗布液を前記ポケット部から支持体に吐出するスリット部とを有し、少なくとも２本のバーを組み付けたダイコータを用いた塗布装置において、塗布液に接する該ダイコータの面を構成する該バーの少なくとも一部がフッ素系樹脂で被覆加工されており、バーを、式１）で示される真直度の関係を有する台の面上に載置して焼成炉で焼成処理した後、仕上げ研削加工した塗布装置。 （もっと読む）

【課題】 比誘電率が３．０以下と小さく、しかもリーク電流量の少ない非晶質シリカ系被膜を形成するための塗布液およびその調整方法に関する。
【解決手段】 （ａ）テトラアルキルオルソシリケート(TAOS)およびアルコキシシラン(AS)をテトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイド（TAAOH）および水の存在下で加水分解して得られるケイ素化合物、またはテトラアルキルオルソシリケート(TAOS)をテトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイド（TAAOH）および水の存在下で加水分解または部分加水分解した後、アルコキシシラン(AS)またはその加水分解物もしくは部分加水分解物と混合し、さらに必要に応じてこれらの一部または全部を加水分解して得られるケイ素化合物、（ｂ）有機溶媒、および（ｃ）水を含む液状組成物であり、しかも該液状組成物中に含まれる水の量が３０〜６０重量％の範囲にあることを特徴とする低誘電率非晶質シリカ系被膜形成用塗布液。 （もっと読む）

【課題】 鉄鋼塗装製品の塗装塗料を、従来の方法に比べ格段に短時間に、かつ、作業環境を悪化させず、低コストで除去できる方法を提供する。
【解決手段】 溶融した亜鉛、アルミニウムまたは錫の槽内に、乾燥した塗装金属製品を浸漬して前記溶融金属の熱で前記塗装金属製品の塗装塗料を燃やし、その性分中の揮発性材料はガス発散させ、重金属は沈澱させ、軽金属は浮游させることにより前記塗装塗料を前記塗装金属製品より除去し、前記処理後の金属製品を溶融金属槽より取り出して水洗し、次いで塩酸槽に浸漬して取り残し塗料や溶融金属で固着した金属を除去し、更に水洗し、アルカリ溶液で中和し、水洗する。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも一部が自己浄化式のコーティングで被覆されている金属製の基板（２）を備えた加熱器具（１）に関する。本発明のコーティングは、プラチノイドの酸化物から選択された少なくとも１つのタイプの酸化触媒を含む、外気と接触する外層（４）と、１ｂ群の遷移元素の酸化物から選択された少なくとも１つのタイプの酸化触媒を含む、金属製の基板と外層との間に配置されている少なくとも１つの内層（３）とから構成される。本発明の加熱器具は、たとえば加熱素子（７）を備えた加熱ベース（６）から構成されているアイロンの底面、または調理器具の形態で具体化することができる。前記金属製の基板は、エナメルの中間層（５）で覆うことができる。加熱器具の金属製の基板を前記コーティングで被覆するための方法も開示する。
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