【課題】優れた摺動性を有する被膜を有する被覆成形品及びそのような被覆成形品を製造する方法を提供すること。
【解決手段】本発明の被覆成形品１は、基材２上に、ポリシラザンを含有する硬化性組成物を転化させてなるシリカ層が形成された被覆成形品であって、前記シリカ層は、前記被覆成形品の最外層に位置し、潤滑性付与剤５を含有する潤滑層４と、潤滑層４の下層に位置し、潤滑性付与剤を含有しない硬質層３と、からなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】比較的低温の焼成で金属銀に近い比抵抗を有する導電性塗膜が得られるとともに、この導電性塗膜の基材への密着性を向上する。
【解決手段】平均粒径１０〜１００ｎｍの銀ナノ粒子のコア部は銀粒子からなり、銀ナノ粒子の膜部はコア部の表面の全部又は一部に形成され酸化銀又は水酸化銀からなる。また銀ナノ粒子は分散媒に分散して組成物が形成される。この分散媒はアルコール類又はアルコール類含有水溶液である。 （もっと読む）

本発明は特に、物品（３）の金属表面（５）を被覆するためのエナメル被覆物（７）に関する。さらなる被覆物層（８）を適切に結合するために必要とされる機械的結合相互作用のために適した表面粗さを得るために、エナメル被覆物（７）は、触媒エナメルと、通常のエナメルおよび熱分解エナメルの少なくとも１つとの混合物を含む。
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【課題】アルミナキャスタブルの配置による水素遮蔽性の低下を抑制することができる焼成被膜を形成するための乾燥被膜及びその形成方法並びに焼成被膜を得る。
【解決手段】白金材料からなる容器１０の外表面上に形成され、その周囲にアルミナキャスタブル１４を配置した後、焼成して焼成被膜を形成するための乾燥被膜１１を形成する方法であって、ガラス粉末及びセラミック粉末を含むスラリーを調製する工程と、スラリーを白金材料容器１０の外表面に塗布し無機材料膜１２を形成する工程と、無機材料膜１２の表面上に撥水剤１３を塗布する工程とを備えることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】遮熱性及び耐久性に優れた遮熱膜２００を提供する。
【解決手段】中空粒状体３１を内部に分散させたバインダ３２からなる遮熱膜２００であって、中空粒状体３１の殻３１ｂは、バインダ３２の弾性率よりも低い弾性率を有する材料で構成されている。 （もっと読む）

【課題】遮熱性及び耐久性に優れた遮熱膜２００を提供する。
【解決手段】中空粒状体を内部に分散させたバインダからなる遮熱膜であって、中空粒状体はバインダと基材との界面まで分布させる。 （もっと読む）

【課題】耐摩耗性が顕著に優れた架橋フッ素樹脂層を離型層として有する非回転加圧部材を提供すること。
【解決手段】
電子写真方式の画像形成装置の定着ユニットに配置される非回転加圧部材であって、該非回転加圧部材は、基材上に架橋フッ素樹脂層が形成された架橋フッ素樹脂複合材料であり、かつ、該架橋フッ素樹脂層は、架橋フッ素樹脂層上に、ナイロン不織布に研磨砥粒を均一に塗布し接着させた３次元構造を持つ研磨材と２ｋｇｆの重りをこの順で載せて、該研磨材と重りの両者からなる回転体を２００ｒｐｍで回転させたとき、１０万回の積算回転数での摩耗減量が１０μｍ以下の架橋フッ素樹脂層である非回転加圧部材；及びその製造方法。 （もっと読む）

【課題】 基材の表面を部分的に被覆することにより、特に元の基材に対して光沢度を高くしたい場合に好適な、任意の値に基材の光沢度を調節することを可能とする。
【解決手段】 本発明では、表面を少なくとも部分的に被覆することにより基材の光沢度を調節する方法であって、（ａ）表面を有する基材を準備する工程、（ｂ）前記基材表面上に前記金属酸化物粒子を所定領域有する膜状に分散付着させ被覆率を調整する工程、（ｃ）前記付着させた金属酸化物粒子を焼成する工程からなるようにする。 （もっと読む）

【課題】放射線の照射による架橋法によって、耐摩耗性が顕著に向上し、基材との密着性にも優れた架橋フッ素樹脂層を有する架橋フッ素樹脂複合材料の製造方法を提供すること。
【解決手段】基材上にフッ素樹脂層を形成する工程１；フッ素樹脂層を焼成する工程２；未架橋フッ素樹脂層の温度を、フッ素樹脂の融点より６０℃低い温度から該融点より１℃低い温度までの範囲内の温度に調整する工程３；及び温度調整した未架橋フッ素樹脂層に、酸素濃度１，０００ｐｐｍ以下の雰囲気下、照射線量が５０〜２５０ｋＧｙの範囲内の放射線を照射して、未架橋フッ素樹脂を架橋する工程４；を含む架橋フッ素樹脂複合材料の製造方法。 （もっと読む）

【課題】組成物を塗布する基材の材質及び形状を制限することなく、また基材の形状や組成物の性状に応じた乾燥条件を調整することなく、真空プロセスやスピンコーティング法と同等以上の低比抵抗、反射率、表面粗さ及び密着性を有する電極を、効率良く連続的に基材表面に形成する。
【解決手段】先ず７５重量％以上の銀ナノ粒子を含有する金属ナノ粒子を分散媒に分散させて３０ｍＰａ・ｓ以下の粘度の組成物を調製する。次に組成物をスプレー塗工法により基材表面に塗布して薄膜を形成する。上記スプレー塗工法による組成物の基材表面への塗布時に、体積比で組成物の流量１に対し液滴破砕用ガスを大気雰囲気中で５０００倍以上かつ１０００００倍以下の流量で通気して組成物の液滴を微細化しながら基材表面に塗布して薄膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】金属ケイ酸塩膜とガラス基材の複合体、金属ケイ酸塩膜と被成膜体の複合体及びそれらの製造方法を提供する。
【解決手段】金属化合物粉末を用い、エアロゾルデポジション法によりガラス基材上に金属化合物膜を形成し、その金属化合物膜とガラス基材の複合体を熱処理することで、金属化合物相を金属ケイ酸塩相にすることで金属ケイ酸塩膜とガラス基材の複合体を製造する。また、金属ケイ酸塩粉末を用い、エアロゾルデポジション法により被成膜体上に金属ケイ酸塩膜を形成し、その金属ケイ酸塩膜と被成膜体の複合体を熱処理することで、緻密な金属ケイ酸塩膜と被成膜体の複合体を製造する。 （もっと読む）

【課題】金属微粒子と溶剤とから構成される金属微粒子分散液を用いて塗膜を形成する際、顔料として使用する場合、乾燥後に表面に割れがなく金属光沢があり、耐久性に優れた塗膜が得られ、また、導電膜形成用材料として使用する場合、乾燥後に低温焼成することにより、焼成膜の体積抵抗率が低下され、低抵抗の塗膜が得られる塗膜形成方法と、それを用いた意匠用、又は電子部品の回路形成用として好適な塗膜を提供する。
【解決手段】下記の（イ）及び（ロ）の要件を満足する金属微粒子分散液に、ヒドロキシカルボン酸を添加して、（ハ）の要件を満足する塗布液を調製し、これを塗布した後、室温〜１２０℃の温度で乾燥処理に付すことを特徴とする。
（イ）前記金属微粒子は、その平均粒径が１０〜１００ｎｍである。
（ロ）前記溶剤は、極性溶剤である。
（ハ）前記塗布液は、その溶剤中のヒドロキシカルボン酸の含有量が５〜４０質量％である。 （もっと読む）

【課題】金属インクと基板との間の接着力を向上させることができ、かつインクの広がりを低減して高密度の微細配線パターンを形成することができる、基板の二重表面処理方法及びこの方法により表面処理された基板を提供する。
【解決手段】本発明に係る基板の二重表面処理方法は、基板を準備する工程と、上記基板に接着剤を塗布して接着層をコーティングする工程と、上記接着層がコーティングされた基板に撥水層をコーティングする工程と、上記接着層及び撥水層がコーティングされた基板に導電性インクを印刷する工程と、上記印刷された導電性インクの焼結及び接着層の硬化を行う工程とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板表面に凹凸がある場合でも１０μｍ以下の微細なパターンを容易に形成することが可能なパターン形成方法を提供する。
【解決手段】このパターン形成方法では、所定形状の貫通孔２ａをフィルム２に形成し、フィルム２の表面の貫通孔２ａを含む範囲にペースト３を供給し、フィルム２の裏面と基板１とを隙間を設けて対峙させ、フィルム２の表面の貫通孔２ａを含む範囲に気体を噴射して貫通孔２ａの開口部を基板１に接触させ、貫通孔２ａを介してペースト３を基板１上に塗布し、気体の噴射を停止してフィルム２を基板１から剥離させる。したがって、基板１の表面に凹凸がある場合でも、基板１を局部的に強く押圧することなくペースト３を塗布できる。 （もっと読む）

【課題】厚く塗布しても塗膜にクラックが発生せず、重ね塗り回数を低減できる、塗膜特性とその耐久性に優れるフッ素樹脂塗膜の形成方法を提供する。
【解決手段】平均粒子径が０．１〜０．５μｍ、融点が２００℃超であるフッ素樹脂の微粒子を分散液全量に対して２０〜７０質量％、非イオン性界面活性剤を前記フッ素樹脂質量に対して２〜１２質量％含有するフッ素樹脂水性分散液を、耐熱基材に塗布して塗布層を形成する工程と、前記塗布層を２００℃〜前記フッ素樹脂の融点未満の温度で加熱処理して非イオン性界面活性剤含有量を対フッ素樹脂質量で２質量％未満に低減する工程と、前記塗布層を０．１〜１００ＭＰａの圧力で加圧処理する工程と、前記塗布層を前記フッ素樹脂の融点〜４２０℃の温度で加熱焼成して、耐熱基材上に前記フッ素樹脂の塗膜を形成する工程とを有することを特徴とするフッ素樹脂塗膜の形成方法。 （もっと読む）

【課題】２つの基材同士を、低コストで微細な形状にパターニングされた接合膜を形成することができる吐出液、かかる吐出液を用いた微細な形状にパターニングされた接合膜の形成方法、かかる接合膜の形成方法で形成された接合膜で接合する接合方法、および、かかる接合方法で接合された接合膜を備える接合体を提供すること。
【解決手段】本発明の吐出液は、金属原子と、有機成分で構成される脱離基とを含み、エネルギーが付与されることにより表面付近に他の被着体との接着性を発現する、所定形状にパターニングされた接合膜３を得るのに用いられるものであり、液滴吐出法を用いて、当該吐出液を、前記所定形状に対応して基板（基材）２上に供給した後、乾燥・焼成することにより、前記所定形状にパターニングされた接合膜３を得るためのものであり、前記金属原子の金属錯体と、前記金属錯体を溶解または分散させるための溶媒または分散媒とを含有する （もっと読む）

【課題】樹脂基板又は樹脂層の平坦面に形成した銅膜の密着強度が不充分である従来の銅膜形成方法の課題を解消する。
【解決手段】エポキシ樹脂から成る樹脂層の一面側に、その平坦状態を保持しつつプラズマ照射した後、１−ビニルイミダゾールを塗布し、次いで、前記樹脂層の一面側に紫外線を照射した後、前記樹脂層の一面側に無電解銅めっきで形成した薄銅膜を給電層とする電解銅めっきによって所定厚さの銅膜を形成し、その後、前記銅膜と樹脂層とのピール強度を向上できるように、前記樹脂層と銅膜とに熱処理を施すことを特徴とする。 （もっと読む）

我々は、基体に炭素ナノチューブ、フラーレン、グラフェンのフレーク／シート、ナノワイヤー、及びそれらの二つのもの又はより多いものからなる群より選択されたナノ構造を備える分散物又は溶液をコートすることを備える、光学的な透明な、電気的に伝導性のナノ構造のフィルムを作るための方法を開示する。フィルムは、また、カプセル剤又はトップコートのみならず分散物又は溶液におけるドーパントを備えることがある。
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【課題】透過特性に優れ、かつ膜応力が小さくクラックの発生がないケイ素化合物膜を提供する。
【解決手段】第一段階で、ガラス基板１上に、アルキル基がＳｉに結合されたシロキサン骨格の低分子材料に溶媒，シリカ粒子を混合したペースト材料２ａをダイコートを用いて塗布する。塗布後、低沸点の溶媒を揮発させるために、６０〜１００℃の範囲で大気中にて乾燥し、その後、２００℃〜３００℃の範囲で大気雰囲気中において熱処理によって硬化反応させ、酸化ケイ素を主体とする膜２ｂを形成する。第二段階では、含まれるシリカ粒子が溶媒を除いた固形分の体積比で１５％含有するペースト材料３ａを、第一段階で形成した膜２ｂ表面上に塗布する。塗布量は硬化後の膜３ｂの膜厚が約０．５μｍとなるように塗布し、乾燥，熱硬化処理を行い、前記膜２ｂを酸化ケイ素を主体とした膜４とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、ナノサイズシリカ微粒子を含むシリカ系被膜を形成するための塗布液、該塗布液を用いて低誘電率シリカ系被膜を基板上に形成する方法および該方法から得られる低誘電率シリカ系被膜に関する。
【解決手段】 少なくともアルカリ金属元素の化合物およびハロゲン族元素の化合物からなる不純物を実質的に含まない、ゼオライト結晶質のナノサイズシリカ微粒子とテトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイド(TAAOH)とを含むシリカ系被膜形成用塗布液、過熱水蒸気を用いた低誘電率シリカ系被膜の形成方法およびリーク電流が少なく、しかも耐熱性と耐湿性を兼ね備えた低誘電率シリカ系被膜。 （もっと読む）