【課題】負荷制御音響光学変調器（ＡＯＭ）に対する不規則な熱的負荷変動による、レーザビーム品質及び位置決め精度に歪みを引き起こすことなく、高繰り返しレートレーザパルス列から不規則に加工レーザパルスを捕獲する。
【解決手段】レーザは、レーザ空洞放出動作によって、かつエネルギー誤差を補償するためにダミーパルス期間を調節するためのその情報を利用することによって、工作物を任意の期間でかつ実質的に一定のエネルギーレベルで供給されるレーザパルス１９２で処理する。ダミーパルス１９４は、工作物に到達することから遮断されるレーザパルスである。第２の方法は工作物に送られるレーザエネルギー量を変動させるＡＯＭを使用する。第３の方法は、ダミーパルス１９４が開始されるときはいつでも、追加のレーザ空洞充電時間を許容するために選択パルスのパルス期間２００を延長することを伴う。 （もっと読む）

【課題】内容物を明瞭に視認可能な窓部を短時間で形成する。
【解決手段】樹脂パネル１００は、透明のポリカーボーネイト１６０と、透明のポリカーボーネイト１６０に形成されるレーザ反応層１７０と、レーザ反応層１７０に形成されるグラデーション箔１８０、シルバーホログラム箔１９０と、窓部１２０，１３０と、を備えている。そして、窓部１２０，１３０は、レーザを照射することにより、当該レーザが照射された領域ＡＲのレーザ反応層１７０およびグラデーション箔１８０、シルバーホログラム箔１９０を除去して形成される。 （もっと読む）

【課題】目視や画像認識装置により容易に識別できる位置合わせ基準マークとなる絶縁パターンを簡便に形成できる導電パターン形成基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の導電パターン形成基板の製造方法は、絶縁基板上に設けられた透明導電層にパルス状レーザ光を所定パターンで照射することにより絶縁部を形成して、少なくとも導電パターンを形成する導電パターン形成工程と、前記絶縁部の一部にパルス状レーザ光を再照射する再照射工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造工程において、ＴＦＴ基板上に着色層（ＲＧＢ他）およびブラックマトリックス（ＢＭ）などのカラーフィルタが形成されたカラーフィルタオンアレイ（ＣＯＡ・ＢＯＡ）におけるレーザー修正において、修正箇所のレーザーアブレーションに伴う下地であるＴＦＴ基板上の保護膜の損傷を発生させることなく、選択的にカラーフィルタ層のみを修正することができるカラーフィルタの欠陥修正方法、及び、その欠陥修正方法によって欠陥部分が修正されたカラーフィルタ基板を提供する。
【解決手段】ＴＦＴ基板上に少なくとも着色層、ブラックマトリックスが形成されたカラーフィルタの欠陥修正方法において、予め前記カラーフィルタの欠陥修正部分を炭化着色させる段階と、その後前記欠陥修正部分にレーザー光を照射して前記欠陥修正部分をレーザーアブレーションにより除去する段階と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】レーザ光学系を複雑にすることなく、簡易な方法で、パターンの周期性を向上させることの可能な光学素子および被加工体、ならびにそれらの製造方法を提供する。
【解決手段】原盤１００の表面（被加工面１００Ａ）に下地構造体１１０を形成したのち、その表面に、偏光方向が、式（１）を満たす設定軸Ｄ２（図示せず）に対して直交する方向を向いているフェムト秒レーザ光Ｌ_fを照射する。これにより、式（２）で表されるばらつきを持って延在するナノメータオーダーの凹凸を含んで構成されたナノ構造体１２０（図示せず）を形成する。
０°≦θ_p3≦３０°…（１）
０°＜Δθ_f3＜１.５°…（２）
θ_p3：下地構造体１１０に含まれる凸部または凹部と設定軸Ｄ２とのなす角度
Δθ_f3：ナノ構造体１２０の、面内における一部を抜き出し、その部分に含まれる凹凸の延在方向の角度ばらつきをガウス関数で表したときの半値幅 （もっと読む）

【課題】回転対称ツールを製造するレーザ加工装置及び方法を提供する。
【解決手段】円形ブランク２７を用い、例えば矩形の輪郭をしたパルス領域５５を規定して、レーザビームを所定の軌跡Ｂに沿って移動することによってレーザアブレーションが行われ、ブランク材から材料が除かれ所定の形状とされる。ブランク２７を支持するツールホルダとレーザビームインパルス２４を送給するレーザヘッドとの相対運動は、数個の軸を有する位置決め装置によって制御される。 （もっと読む）

【課題】寸法精度の高い任意の形状の潤滑剤保持溝が形成されたスプライン伸縮軸、当該スプライン伸縮軸を備えた車両用操舵装置、および当該スプライン伸縮軸の製造方法を提供すること。
【解決手段】スプライン伸縮軸としての中間軸５は、軸方向Ｘ１に移動可能に嵌合された内軸３５および筒状の外軸３６と、内軸３５の外周に設けられた外スプライン３８と、外軸３６の内周に設けられた内スプライン３９と、外スプライン３８に設けられた樹脂被膜４０と、レーザを用いて樹脂被膜４０に形成され、軸方向Ｘ１とは交差する方向Ｄ１に延びる潤滑剤保持溝４１とを備えている。 （もっと読む）

【課題】スループットを犠牲にせずに処理精度を望ましいレベルにする。
【解決手段】レーザーを基にしたシステムにおいて複数の半導体部品を処理するための装置及び方法は、前記複数の部品の少なくとも一つの部品に対して行われる加工を計算するための初期設定レシピを調整する。個別の部品に対して行われる加工は、初期設定レシピと、初期設定レシピのパラメータを変更したものを含む個別部品特有レシピとを用いて分析される。初期または個別部品特有レシピは、望ましい処理結果に基づいて選択され、初期設定レシピが選択されたレシピと置き換えられ、レーザーを基にしたシステムを用いて、行うべき加工を実行する。 （もっと読む）

【課題】少なくとも１つのレーザーを使用して、金属製プレスシート、エンドレスベルト又はエンボスロールの表面構造を製造するための方法、及びその方法を適用した装置を提供する。
【解決手段】表面構造を低費用で製造できると同時に環境を保護する処置を可能にするために、金属製プレスシート１、エンドレスベルト又はエンボスロールの加工するべき表面２の表面構造４全体を部分的に除去するレーザーの使用が提案される。ここでは用意された３Ｄトポグラフィによってレーザーの制御が実行され、その際深さ構造を生成するために、得られたＸ、Ｙ、Ｚ座標を使用してレーザーの制御が行われ、その結果盛り上がった範囲５及び深さのある範囲６が形成される。 （もっと読む）

【課題】透光性基板にひびが生じることを抑制可能なレーザー加工装置を提供する。
【解決手段】本発明のレーザー加工装置は、少なくとも縁部において光軸に近づくに従って強度が高くなる強度分布を有するレーザーパルスを順次出力するレーザー出力部と、レーザーパルスが照射される領域の縁部同士が重複するように、レーザーパルスの照射位置を制御する照射位置制御部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】大型の被加工物表面の安定した微細加工とその高速化が容易にするパルスレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】クロック信号を発生する基準クロック発振回路と、クロック信号に同期したパルスレーザビームを出射するレーザ発振器と、クロック信号に同期してパルスレーザビームを１次元方向のみに走査するレーザ・スキャナーと、被加工物を載置可能で１次元方向に直交する方向に移動するステージと、レーザ発振器とレーザ・スキャナーとの間の光路に設けられ、クロック信号に同期してパルスレーザビームの通過と遮断を切り替えるパルスピッカーと、を備えることを特徴とするパルスレーザ加工装置。 （もっと読む）

【課題】版材の特性の違いによる彫刻形状に生じるバラつきを回避し、所望の彫刻形状を形成することを可能とする製版装置及び印刷版製造方法を提供する。
【解決手段】版材のロットが変わった場合や版の経時変化が予想されると補正プロファイルを作製するモードへ移行する。先ず、使用している版材の種別やロットなどの識別情報が入力されると、識別情報からベースとなるプロファイルが読み出され試験彫刻が行われる。次に、試験彫刻が測定され測定結果が入力され、入力された測定結果に基づいて補正プロファイルが作製される。補正プロファイルは識別情報と関連付けされて所定の記憶部に記憶される。補正プロファイルが作製されると該補正プロファイルを用いた本番彫刻が行われるので、版材の固体差による彫刻形状のバラつきの発生が回避された好ましい印刷版が作製される。 （もっと読む）

【課題】位置検出精度の高い座標検出装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に形成された抵抗膜と、抵抗膜に電圧を印加する共通電極と、共通電極より抵抗膜に電位を供給することにより、抵抗膜に電位分布を発生させ、前記抵抗膜の接触位置の電位を検出することにより、抵抗膜の接触位置座標を検出する座標検出装置の製造方法において、基板は四角形状であり、基板の四つの辺部における抵抗膜上に共通電極を形成する工程と、抵抗膜の表面に複数のプローブを接触させて、抵抗膜における電位を測定する工程と、演算部により抵抗膜における電位分布が均一となるように抵抗膜除去領域を算出する工程と、算出された抵抗膜除去領域における抵抗膜をレーザー光により除去する工程とを有することを特徴とする座標検出装置の製造方法を提供することにより上記課題を解決する。 （もっと読む）

ターゲット構造(10)のレーザ加工に付随する干渉効果問題に対する解決には、ウエハ表面全体に亘るまたは、一群のウエハ(20)の多数のウエハ間に共通する、積層されたターゲット構造及び保護層(14,16)の光反射情報に基づいて、レーザパルスエネルギーまたは、レーザパルスの時間的形状などのその他のレーザビームパラメータを調整することが必要になる。ターゲットリンク測定構造(70)に関する及び、リンクに占有されていない隣接する保護層エリア(78)に於けるレーザビーム反射測定によって、ウエハに損傷を与えることのないより安定した加工結果のためのレーザパルスエネルギー調整量の計算が可能となる。ウエハ上の薄膜トリミングの場合は、薄膜構造と、薄膜の存在しない保護層状構造とに入射するレーザビームの同様な反射測定情報は又、レーザパラメータ選択に必要となる情報を提供し、よりよい加工品質を保証することができる。 （もっと読む）

【課題】加工対象においてレーザ加工を精度よく行なうことが可能なレーザ加工方法を提供する。
【解決手段】加工用レーザを照射するためのレーザ光源と、加工用レーザをＸＹ方向に走査させるガルバノミラーと、加工対象物をＸＹ方向に移動させるＸＹステージとを備えたレーザ加工装置によって、ガルバノミラーの走査可能範囲よりも大きな図形を加工する。加工対象において、ガルバノミラーの走査可能範囲を超える図形を、ガルバノミラーの走査可能範囲内に収まる図形によって複数に分割し、ＸＹステージを移動することにより、ガルバノミラーの走査可能範囲内に複数に分割した図形を移動し、ガルバノミラーにより加工用レーザを走査し、分割した図形に対し加工用レーザを照射することによりレーザ加工を行う。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置の透明電極膜の一部にこれまでになく簡単且つ良好に絶縁部を形成できる画期的な技術を提供する。
【解決手段】両面に透明電極膜２を積層した液晶層１を一対の絶縁性基板３（プラスチックフィルムなど）で挟んだ多層構造を有し、前記液晶層１の両面の透明電極膜２間に電圧を印加することでこの透明電極膜２間に介存する前記液晶層１の液晶分子１ａを配向する液晶表示装置の前記透明電極膜２を加工する方法において、前記絶縁性基板３に比して前記透明電極膜２に対する透過率が低いレーザ４を、前記一対の絶縁性基板３間に介存する透明電極膜２に向けて照射し、このレーザ４により、前記絶縁性基板３をレーザ切断することなく前記透明電極膜２に電気的に絶縁性を有するレーザ照射加工痕を形成して、この透明電極膜２の一部に絶縁部５を形成する。 （もっと読む）

【課題】欠陥修正工程の作業効率を向上させ、タクトタイムの短縮を実現する。
【解決手段】基板上に形成された多層構造の配線パターンにおける欠陥を検査し、検出された欠陥をレーザ光を用いて修正する際、検査対象箇所を撮影した欠陥画像と、欠陥のない参照画像とを照合して欠陥を検出し、入力部から入力される指示内容に基づいて、検出された欠陥に対してレーザ光が照射される加工位置及び加工範囲を指定する。そして、指定された加工位置及び加工範囲に基づいて、修正機構部により欠陥の修正を実行することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】反射型空間変調素子を用いたレーザ加工装置において、反射型空間変調素子の反射面の劣化を遅延させ、装置寿命を向上できるようにする。
【解決手段】レーザ加工装置１００が、レーザ光源３０と、レーザ光源３０から出射されたレーザ光３１ｂを空間変調する空間変調素子６と、空間変調素子６によって一定方向に向けて反射されたオン光３２を加工可能領域内に結像する結像レンズ７および対物レンズ１０と、レーザ光源３０と空間変調素子６との間の光路上に配置される可変マスク５と、空間変調素子６の空間変調データを生成する空間変調データ生成部と、空間変調データに基づいて、微小ミラーの傾斜角を切り換える空間変調素子駆動制御部２４と、空間変調データに基づいて、照射領域の大きさおよび位置を設定する照射領域設定部とを備える。 （もっと読む）

【課題】レーザ加工により発生する加工飛散物を効率よく除去、回収し、加工対象物に付着するデブリを削減する。
【解決手段】入射レーザ光を透過する透過窓９と、透過窓９を透過したレーザ光を通す開口部２０と、内部に気体を導入する導入孔４１と、内部の雰囲気を外部へ排出する排気孔１６と、加工対象物７のレーザ光照射領域近傍に気体を導入する第１通気孔１８と、第１通気孔１８と対向する位置に設けられ加工対象物７のレーザ光照射領域近傍の雰囲気を排出する第２通気孔１７と、透過窓９と開口部２０の間に配置され、透過窓９を透過したレーザ光を通す開口４２ａ、並びに、該開口４２ａ、導入孔４１及び排気孔１６を連通する通気部４４とが形成されてなる遮蔽板４２ａとを有するレーザ加工ヘッドを備える。これにより、レーザ加工時に発生する加工飛散物２１を、遮蔽板４２でトラップする。 （もっと読む）

【課題】レーザ光を用いてスクライブするときに、レーザ光による損傷を受けにくい電気光学装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】基板５２と基板６３とを接合して、液晶表示装置３３を形成する製造方法に関する。第１スクライブ工程において、基板５２にレーザ光を照射して改質部５７を形成する。この工程で、基板５２に改質部５７が形成される場所と対向する、基板６３の場所の一部には、データ線駆動回路３９、実装端子４０、配線４２ａが配置されている。続いて、接合工程において、基板５２と基板６３とを接合する。第２スクライブ工程において、基板５２と基板６３とをスクライブする。分断工程において、基板５２と基板６３とを分断する。 （もっと読む）