【課題】非接触式シールを用いた構成において、ランニングコストの低減を図ることができる基板保持装置を提供すること。
【解決手段】モータ１１を包囲するカバー部材２４の上端部には、複数本のばね３１を介して円環状の固定環３２が支持されている。一方、スピンベース１０の下カバー１３の下面には、円環状の回転環３４が固定環３２と対向配置されている。回転環３４の下面には、ガス供給源からのクリーンガスが導入されるガス導入溝と、このガス導入溝に連続し、回転環３４の回転時に、固定環３２と回転環３４との間に気体（クリーンガス）の動圧を発生させる動圧発生用溝とが形成されている。モータ１１が駆動され、回転軸９およびスピンベース１０が回転している状態では、ガス導入溝に導入されるクリーンガスの静圧と、動圧発生用溝の作用によるクリーンエアの動圧が発生する。 （もっと読む）

【課題】 基板の表面上に滴下したＳＯＧ液からの有機成分の蒸発を抑制することができるようにしたスピンコータ及びＳＯＧ液の塗布方法を提供する。
【解決手段】 ウエーハ１の表面上にＳＯＧ液を滴下すると共に、当該ウエーハ１を回転させ該ＳＯＧ液を遠心力で拡散させることによって、当該ウエーハ１の表面上に該ＳＯＧ液を塗布するスピンコータ１００であって、ウエーハ１の裏面を回転可能に支持する回転ステージ１０と、回転ステージの上方に吐出口を有し、回転ステージによって支持されたウエーハ１の表面上にその吐出口からＳＯＧ液を滴下するコータノズル３０と、回転ステージ１０をその側方から囲むコータカップ２０と、少なくともコータノズル３０の吐出口からコータカップ２０の内側にかけての空間に有機ガスを供給する有機ガス導入管４２及びガス処理室４０等を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】 処理液と気体とを混合して生成した処理液の液滴を基板に供給して所定の洗浄処理を行う基板洗浄装置において、基板上の処理領域に対応した最適な洗浄を行うことで、基板を高品質に洗浄する。
【解決手段】 基板Ｗに与えるダメージが少ない外部混合型ノズル５から処理液の液滴を吐出した状態で、ノズル５を境界位置Ｋａと基板Ｗの回転中心Ｐａとの間で移動させることによって、ノズルに対する相対速度が遅い基板中央部Ｗｃを洗浄処理する。一方、洗浄力（除去率）に優れる内部混合型ノズル６から処理液の液滴を吐出した状態で、ノズル６を基板Ｗの端縁位置Ｅｂと境界位置Ｋｂとの間で移動させることによって、ノズルに対する相対速度が速い基板端縁部Ｗｓを洗浄処理する。これにより、基板中央部Ｗｃと基板端縁部Ｗｓとの各処理領域に対応した最適な洗浄を行うことができ、基板全面を高品質に洗浄することができる。 （もっと読む）

【目的】 基板の裏面側を通る気流中にミスト状の塗布液が殆んど含まれず、基板裏面に塗布液が付着することがない塗布装置を提供する。
【構成】 基板Ｗが回転し且つ空間Ｓ内が減圧状態になると、純粋なエアのみは、基板Ｗの外周縁からパンチングプレート８を透過してミストガード１０と水平部７との隙間を通り、呼吸用の開口９から水平部７の上面と基板Ｗの下面との間の隙間を径方向外側に向かって流れ、一方、基板Ｗの外周縁から飛び出す糸状の余剰塗布液はパンチングプレート８を通過する際にトラップされパンチングプレートに捕捉され、ミストについてはパンチングプレート８は通過するがミストガード１０において捕捉され、結局、呼吸用の開口９から水平部７の上面と基板Ｗの下面との間の隙間に向かう気流中には塗布液及びミストは含まれず塗布液が基板Ｗの下面に付着することがない。 （もっと読む）

【課題】 レジスト液の塗布からウェハ周縁部上のレジスト膜の除去までの一連のレジスト塗布処理をより短時間で行う。
【解決手段】 レジスト塗布装置２０に，レーザ光を照射するレーザ照射部１７３を設ける。レジスト塗布処理時には，回転されたウェハＷの中心部にレジスト液供給ノズル１３３によりレジスト液が吐出され，ウェハＷ上にレジスト膜が形成される。その後，レーザ照射部１７３がウェハＷの外周部上に移動し，外周部上のレジスト膜にレーザ光が照射され，当該外周部上のレジスト膜が乾燥される。外周部上のレジスト膜が乾燥すると，引き続きレーザ光の照射が継続され，溶剤供給ノズル１５０がウェハＷの周縁部上まで移動し，ウェハＷの周縁部上のレジスト膜に溶剤が供給される。この溶剤の供給により，ウェハＷの周縁部上のレジスト膜が溶解し除去される。 （もっと読む）

【課題】光ディスク作製用基板に、均一膜厚で塗膜欠陥の少ない色素記録層を容易に形成することができるスピンコート装置を提供する。
【解決手段】色素記録層を回転塗布により基板上に形成する際、余分な塗布液が基板面に付着するのを防止するための塗布液捕捉用部材として、倒立円錐状の跳ね返り防止リング１００を塗布液飛散防止壁３０の内側に、所定の態様で２段（１００ａ，１００ｂ）に配備するとともに、塗布液飛散防止壁３０内の気体を排気するための排気手段を設ける。回転塗布時の余分な塗布液が塗布液飛散防止壁３０で跳ね返っても、これを跳ね返り防止リング１００で捕捉することができる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、反射防止膜の塗布膜厚のばらつきが生じることなく反射防止膜材料を塗布することができる反射防止膜の形成方法及びその方法を実施に適用される塗膜形成装置を提供するものである。
【解決手段】 本発明の反射防止膜の形成方法は、基板の段差を有する表面に反射防止膜を形成する反射防止膜の形成方法であって、前記基板の表面上に反射防止膜材料を滴下し、前記基板の回転による遠心力と前記基板表面に垂直な力とによって、前記反射防止膜材料を塗布して反射防止膜を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高段差を有するウエハに高粘度厚膜有機樹脂を塗布する工程において、気泡を排除し均一な有機膜を形成し、異常ドライエッチングを抑制することが可能な塗布機および塗布方法を提供する事を目的とする。
【解決手段】容器内を減圧するための真空ポンプと被塗布材を加熱する機構と一体の回転ステージを備えた塗布機により、被塗布材を加熱した後に、回転塗布し、塗布中に、容器内を減圧することを特徴とするため、高段差部での気泡の混入を完全に防止し、後工程での異常ドライエッチングを抑制することが可能である。また、塗布後のベーク工程でのウエハからの脱ガスによる新たな膜中への気泡を防止することが可能である。 （もっと読む）

【課題】 被処理基板のコーティングまたは洗浄などの作業時に処理液の逆飛散及び粒子汚染を効果的に抑制することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 本発明の基板表面処理装置は、基板を吸着維持し、前記基板を回転駆動及び昇降駆動するスピンチャックと、前記スピンチャックの周りを覆うと同時に上部に前記基板表面処理のための処理液の供給を受けるための上・下部ボウルと、前記下部ボウルの下部から全体ボウルの内部空気を排気するための排気口と、前記上部ボウルの内部に設置され、前記基板周りの流動を上・下に分離して前記下部に分離された流動を前記排気口を通じて排気させる流動分離突起と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 所定の量の薬液を精度良く供給可能な薬液供給管理装置を提供する。
【解決手段】 予め設定された薬液供給量の設定値を記憶する記憶手段２０４と、供給ラインを流れる薬液の流量を時間毎に測定する流量測定手段２０２と、薬液の流量を積算することにより被塗布物１０４に対して供給された薬液供給量の実測値を取得する供給量取得手段２１４と、薬液供給量の実測値と薬液供給量の設定値とに基づいて、供給ラインＬ１を介して被塗布物１０４に対して供給された薬液供給量が薬液供給量の設定値に達したか否かを判断する供給量判断手段２１６と、供給ラインを介して被塗布物に対して供給された薬液供給量が薬液供給量の設定値に達したと判断した場合に、供給ラインを介した薬液の供給を停止させる供給停止手段２１８と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】 塗布液の飛散を有効に防止し得る回転カップ式塗布装置を提供する。
【解決手段】 インナーカップ３上にはトレイ７を固定し、このトレイ７の各隅部からはドレイン誘導管１０が導出されている。ドレイン誘導管１０は先部１１が前記ドレイン回収通路３ａの底部に向かうように外側に向かって斜め下方に傾斜している。そして、先部１１の下端１１ａはインナーカップ３の底面３ｂよりも低くなっている。このためインナーカップ３とトレイ７を一体的に回転することで、板状被処理物Ｗの表面に供給された塗布液は遠心力で、庇状壁部９に形成した穴、ドレイン誘導管１０内の流路およびドレイン誘導管１０の先部１１を通って排出される際に、インナーカップ３の内周壁に直接衝突することがない。 （もっと読む）

【課題】 スピンコート中に照射する紫外線等の放射線の照射領域をより正確に制御する。
【解決手段】 光記録媒体の回転径Ｄ０よりも大きい第１の開口部１１１ａが形成された下部カバー１１１及び回転径Ｄ０よりも小さい第２の開口部１１２ａが形成された上部カバー１１２を有するスピンカップ１１０と、光記録媒体１０を第１の開口部１１１ａからスピンカップ１１０内に供給するとともに、スピンカップ１１０内に供給された光記録媒体１０を回転させる駆動部１２０と、光記録媒体１０の表面に塗布された塗布液に第２の開口部１１２ａを介して放射線を照射する照射部１３０とを備える。これにより、スピンカップ１１０の上部カバー１１２が紫外線等の放射線マスクを兼ねることができることから、全体の機構を複雑化させることなく、放射線の照射領域を非常に正確に制御することが可能となる。 （もっと読む）