【課題】処理基板上を移動するノズル搬送機構に駆動部を設けないため、機構部が複雑にならず駆動機構からの発塵パーティクルによる欠陥問題のない液処理装置を提供すること。
【解決手段】塗布液ノズルを待機位置で待機させるためのノズルバス１４と、ノズルバスにおいて、塗布液ノズルから塗布液の吐出動作又は、乾燥抑制溶剤の吸引動作と排出動作とをディスペンス制御するディスペンス制御部とを備え、ノズルバスは、塗布液ノズルの塗布液を吐出する孔１００と、乾燥抑制溶剤を吸引する孔１０１とを具備すると共に、塗布液を吐出する孔の位置と乾燥抑制溶剤を吸引する孔の位置とを切り換える回動機構１１０を具備し、塗布液ノズルは乾燥抑制溶剤を吸引する時に、回動機構によりノズルバスを回動させて塗布液ノズルの塗布液を吐出する孔の位置から乾燥抑制溶剤を吸引する孔の位置に切り換え、ノズルバスの内部に設けられる乾燥抑制溶剤の貯留部から吸引を行う。 （もっと読む）

【課題】基板に対して反射防止膜を形成する工程、レジスト膜を形成する工程、露光後の基板に対して現像を行う工程を実施する塗布、現像装置において、装置の奥行き寸法を抑えること。
【解決手段】基板にレジスト膜を形成するためのＣＯＴ層Ｂ４と、レジスト膜の下側に反射防止膜を形成するためのＢＣＴ層Ｂ５と、レジスト膜の上に反射防止膜を形成するためのＴＣＴ層Ｂ３と、現像処理を行うためのＤＥＶ層Ｂ１，Ｂ２とを互に積層する。これら積層体の前後に各層に対応する受け渡しステージを積層した受け渡しステージ群を設け、受け渡しステージを介して各層の間で基板の受け渡しができる。またレジスト液を基板に塗布するユニットなどの薬液ユニットについては、横並びの３連カップを共通の処理容器内に配置し、これらカップ内でレジスト塗布などの液処理を行う。 （もっと読む）

【課題】基板を回転させながら、液処理を行う液処理装置において、ミストやパーティクルの流出を抑え、且つ排気ポートから排気するための排気流量を抑えることができる技術を提供すること。

【解決手段】基板の回転により基板上の液を振り切るときには、外カップの下縁部をベース部の上方の第１の高さ位置に位置させ、装置が待機状態にあるときには前記外カップの下縁部の下方側から外部の気体を排気空間に流入させるために当該下縁部を第１の高さ位置よりも高い第２の高さ位置に位置させる昇降部と、前記処理液を案内するために、前記外カップの下縁部から内側に下向きに傾斜しながら伸び出す傾斜面部とを備えるように液処理装置を構成する。スピンチャックが回転しているときに前記排気空間の気体が外カップの下縁部に回り込んでベース体との間から外カップの外にミストやパーティクルが流出することが抑えられる。 （もっと読む）

【課題】基板に薬液を供給して液処理を行う液処理装置において、薬液の供給状態を確実に判定できる技術を提供すること。
【解決手段】基板保持部に保持された基板に、ポンプから配管及びノズルを介して薬液を供給して液処理を行う装置において、前記配管からノズルの先端部に至るまでの流路構成部材に歪みゲージが設けられた歪みセンサと、この歪みセンサの出力電圧を微分する微分回路と、この微分回路の出力に応じて薬液の供給状態を判定する判定部と、を備えるように装置を構成する。光学的な検出を行う場合よりも基板の表面状態や薬液の性質による影響が抑えられるので、精度高い判定を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】基板の表面に高粘度の液体を均一に塗布することができる塗布装置および方法を提供する。
【解決手段】シリコンウェハーＷの塗布面と直交した回転軸３の回転対称軸Ｃと鉛直軸Ｖとが角度θを有しているので、回転対称軸Ｃと直交するシリコンウェハーＷの塗布面も水平面１０１、上面２００、下面２０１と角度θを有し、０度より大きく０．５度以下でわずかに傾いている。滴下された回転中心０から遠心力によって広がろうとする高粘度のレジストＲは、スピンヘッド１がわずかに傾いて回転していることにより、重力による力とレジストＲの表面張力とのバランスによって、力を回転中心０に向かって受け、高粘度のレジストＲを均一に塗布できるレジスト塗布装置１０を得ることができる。また、回転軸３の回転対称軸Ｃと鉛直軸Ｖとの角度θが固定されているので構造の簡単なレジスト塗布装置１０を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 経済的に液状樹脂の塗布を可能とする液状樹脂塗布装置を提供することである。
【解決手段】 板状物に液状樹脂を塗布する液状樹脂塗布装置であって、板状物を回転可能に保持する保持テーブルと、該保持テーブルに保持された板状物の露出面に液状樹脂を供給する液成樹脂供給ノズルと、該液状樹脂供給ノズルに連通する液状樹脂供給源とを有する液状樹脂供給手段と、該保持テーブルを包囲して配設された底部に排液口を有する液体受け容器と、該液体受け容器に溜まった液状樹脂を該排液口から該液状樹脂供給源に回収する回収路と、を具備したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】排気路の排気流量を安定して測定することができる流量測定装置及び流量測定方法を提供する。
【解決手段】
排気路の排気流量を測定する流量測定装置８において、ミスト供給部８１は排気路７中にミストを供給し、撮像部８２はこのミスト供給部８１よりも下流側の排気路７を撮像する一方、推定部２００はミスト供給部８１から供給されたミストを前記撮像部８２により撮像した撮像結果に基づいて排気流量を推定する。 （もっと読む）

【課題】塗布液の消費量を十分に削減しつつ基板上の塗布液の膜厚の均一性を確保することが可能な基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】時点ｔ０から時点ｔ１までの期間に、基板に溶剤が吐出された後、時点ｔ２で基板の回転が開始される。時点ｔ３で基板の被処理面の中央部にレジスト液が吐出される。時点ｔ４で基板の回転速度が低下し始め、一定時間後に第１の速度となる。時点ｔ５でレジスト液の吐出が停止される。時点ｔ６から時点ｔ７までの期間に、基板の回転が加速され、時点ｔ７で基板の回転速度が第２の速度に達する。時点ｔ７から時点ｔ８までの期間に、基板の回転が減速され、時点ｔ８で基板の回転速度が第３の速度に達する。ここで、時点ｔ７から時点ｔ８までの期間における基板の回転の減速度は、時点ｔ６から時点ｔ７までの期間における基板の回転の加速度よりも小さい。 （もっと読む）

【課題】スピンカップ内周面の温度調節を容易に行うことができるウエハ洗浄乾燥装置のスピンカップを提供することを目的とする。
【解決手段】ウエハを載せるチャックテーブルの周囲に配置され、ウエハ洗浄液の飛散や流出を防止するように設けられるウエハ洗浄乾燥装置のスピンカップであって、
前記スピンカップは、内側カップと外側カップからなる２重構造で構成され、
前記内側カップと外側カップとの間には隙間が形成されて、該隙間に流体が流通可能なように構成した。 （もっと読む）

【課題】信頼性の高い高記録密度対応の光ディスク、又はＤＶＤ、ＣＤなどの光ディスクを提供できる光ディスク製造装置を提供する。
【解決手段】ノズル部材３Ｆによってディスク基板Ｄの上に供給された液膜形成物質を高速回転による遠心力で展延する回転処理装置２と、前記ノズル部材３Ｆを支承するアーム部材３Ｃとを備える光ディスク製造装置において、前記アーム部材３Ｃの先端部分には、前記液膜形成物質供給機構４と前記ノズル部材３Ｆとの間を選択的に開閉する液膜形成物質開閉弁３Ｄと、その液膜形成物質開閉弁３Ｄにおける前記液膜形成物質の流出部に着脱可能に取り付けられた濾過部材３Ｅとが備えられ、前記ノズル部材３Ｆは前記濾過部材３Ｅの流出部に取り付けられ、前記液膜形成物質供給機構４内で発生した粒子までも除去可能にして高品質の液膜を前記ディスク基板Ｄ上に形成可能にする光ディスク製造装置。 （もっと読む）

【課題】塗装対象面の三次元形状に起因する塗装膜の膜厚の変動を考慮した膜厚の予測を簡易に実現する。
【解決手段】
本発明は、搬送流体を使用して塗料粒子として塗料を噴霧する塗装装置を用いて塗装される塗装対象面における塗装の膜厚を予測する膜厚予測装置２００を提供する。この膜厚予測装置２００は、搬送流体を模擬する搬送流体モデルと、塗料粒子を模擬する塗料粒子モデルとを有し、搬送流体モデルと塗料粒子モデルと空間メッシュとを用いて塗装対象面における膜厚を予測する予測計算部２３０を備える。予測計算部２３０が、空間メッシュの入力領域における塗料粒子の状態量の実測値である粒子状態実測値と、入力領域における搬送流体の状態量の実測値である流体状態実測値とを入力領域のメッシュに入力して、空間メッシュの出力領域のメッシュに予測された膜厚を出力する。 （もっと読む）

【課題】基板上に効率よく塗布膜を形成し、塗布液の消費量を低減することのできる塗布膜形成装置及び塗布膜形成方法を提供する。
【解決手段】基板Ｗを保持し、前記基板を所定の回転数で回転させる基板回転手段３と、前記基板回転手段の駆動により回転する前記基板の被処理面に塗布液Ｒを吐出する第一のノズル１０と、前記基板の上方において前記第一のノズルよりも前記基板の外縁側に配置され、前記塗布液よりも表面張力の高い高表面張力液Ｇを吐出する第二のノズル２５と、前記第一のノズルと第二のノズルとを、前記基板の径方向に沿って前記基板の中心部から外縁側に向けて移動させるノズル移動手段１３とを備え、前記第一のノズルと第二のノズルとは、前記基板回転手段により回転する前記基板の上方を、前記ノズル移動手段により前記基板の中心部から外縁側に向けて移動する間、前記基板上に前記塗布液と前記高表面張力液とをそれぞれ吐出する。 （もっと読む）

【課題】ブラックマトリックスと着色画素が重なる部位に形成され易い角段差を低減することのできるカラーフィルタ用レジスト塗布装置を提供すること。
【解決手段】スピン前に水平とした基板１面に着色レジスト３の塗布を行い、基板１を１８０度回転させてレジスト塗布面を下向きにした状態で基盤回転ステージ１２に固定し高スピンさせて着色レジスト３の塗布を行うことを特徴とする塗布装置である。該塗布装置は、少なくとも、スリットコーター部とスピンコーター部、レジスト塗布面を下向きにして基板をスピンコーター部へ移動する機構を備える。 （もっと読む）

【課題】ミスト排出用の排気管の内面への樹脂ミストの付着による装置への悪影響を防ぎながら樹脂ミストを円滑に筐体内から排出する。
【解決手段】排気管７０の、下側から上側に流体が流れる鉛直部７１の途中に設けたチャンバー部８１内に、樹脂ミストおよび洗浄水ミストを下面に付着させて捕獲する傾斜板８５を配設する。先に付着した樹脂ミストを洗浄水ミストで融解させて洗い流すサイクルを生じさせて、傾斜板８５に樹脂ミストが多く堆積しないようにする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ＭＥＭＳ基板の裏面を汚し、又は傷つけることなく、貫通孔から発生する気流の乱れを防止して、塗布ムラの発生を防止する薄膜形成装置及び薄膜形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施の形態に係る薄膜形成装置は、基板を保持する保持面と、前記保持面の端部近傍に貫通して形成された複数の貫通孔と、を有する基板保持部材と、前記複数の貫通孔から前記保持面上に昇降して前記保持面上に搬送された前記基板の裏面端部を保持する昇降部材と、薄膜形成用の材料を前記基板の表面に塗布する際に前記基板保持部材を回転させて前記保持面に保持された前記基板を回転させる回転駆動部と、前記保持面上に対する前記基板の搬送動作に応じて前記複数の貫通孔の一端部を開き、前記基板保持部材の回転動作に応じて前記複数の貫通孔の一端部を閉じる貫通孔開閉部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】基板の回転数を高くしかつ処理カップ内の排気を低排気量で行っても排気流の逆流を抑え、基板へのミストの再付着を低減できる液処理装置及び液処理方法を提供する。
【解決手段】下降気流が形成されている処理カップ３３にて回転しているウエハＷに対してレジスト液を塗布するレジスト塗布装置において、処理カップ３３のスピンチャック３１に保持されたウエハＷの外周近傍に隙間を介して当該ウエハＷを取り囲むように環状に設けられ、その内周面の縦断面形状が外側に膨らむように湾曲して下方に伸びる上側ガイド部７０と、前記ウエハＷの周縁部下方より外側下方へ傾斜した傾斜壁４１及びこの傾斜壁４１に連続し、下方へ垂直に伸びる垂直壁４２から構成された下側ガイド部４５と、を備える。 （もっと読む）

【課題】基板の裏面洗浄を確実に行うことができる洗浄方法、塗布方法、現像方法及び回転処理装置を提供する。
【解決手段】一方面に基板１を周縁部が突出した状態で保持すると共に、前記一方面３の面内方向で回転される回転部材２１と、前記回転部材２１に設けられて洗浄液１００を前記基板１の前記回転部材２１に保持された保持面２側に供給する洗浄ノズル２６と、前記洗浄ノズル２６に前記洗浄液１００を供給する洗浄液供給部２７と、を具備する回転保持治具２０を用いて、前記基板１を回転させながら前記洗浄ノズル２６から前記基板１の前記保持面２ａに前記洗浄液１００を供給して、前記基板１の前記保持面２ａを洗浄する。 （もっと読む）

【課題】ＰＶＡスポンジ等親水性部材を容易に効率良く液飛散防止カップ本体の内面に装着できる基板処理装置の液飛散防止カップ、該液飛散防止カップを備えた基板処理装置、及びその方法を提供すること。
【解決手段】基板を保持し回転させる基板回転機構、該基板回転機構に保持された基板の外周を囲むように配置され、該回転する基板から離脱する液の飛散を防止する液飛散防止カップを備えた基板処理装置の液飛散防止カップであって、液飛散防止カップ本体１１の内周面全面又は該内周面の所定部分に表面に親水性材層１２を設けた液飛散防止シート１６ａを該親水性材層１２がカップの内側を向くように装着手段で装着した。 （もっと読む）

【課題】ウェハ面内に均一にレジスト液を塗布する。
【解決手段】先ず、塗布工程Ｓ３−１において、低速でウェハを回転し、その状態でウェハの中心部に第１のノズルからレジスト液を吐出して、その後工程Ｓ３−２において、高速でウェハを回転し、ウェハ上にレジスト液を塗布する。次に、平坦化工程Ｓ４において、ウェハの回転を減速し、低速でウェハを回転させ、ウェハ上のレジスト液を平坦化する。このとき、塗布工程Ｓ３−２における第１のノズルによるレジスト液の吐出は、平坦化工程Ｓ４の途中まで継続して行い、その平坦化工程Ｓ４においてレジスト液の吐出を終了させる際には、第１のノズルを移動させてレジスト液の吐出位置をウェハの中心部からずらす。その後、乾燥工程Ｓ５において、ウェハの回転を加速して、ウェハ上のレジスト液を乾燥させる。 （もっと読む）

【課題】基板のエッジ領域の膜厚が、内側領域の膜厚に比べて厚くなる膜厚の盛りあがり現象の発生を抑制できる技術を提供する。
【解決手段】スピンチャック４１に保持された基板Ｗの側方周囲を取り囲む円環板状の部材であって、その外周とカップ４３の内壁との間に排気手段と連通する平面視で円環状の微小間隙Ｋ１を形成するとともに、その内周と基板Ｗの端面との間に排気手段と連通する平面視で円環状の微小間隙Ｋ２を形成する部材（側方整流部材４５）を設ける。被処理基板Ｗの周囲には、基板Ｗの表面から側方整流部材４５の上面に沿って流れ、微小間隙Ｋ１を通って排気される気流ＡＲ１と、基板Ｗの表面に沿って流れ、微小間隙Ｋ２を通って排気される気流ＡＲ２とが形成される。その結果、基板Ｗのエッジ領域付近に形成される気流が安定し、膜厚の盛りあがりが生じにくくなる。 （もっと読む）