【課題】高い圧電率を有し、耐熱性、耐環境性に優れた高分子物質の圧電・焦電素子を提供すること。
【解決手段】テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体（ＦＥＰ）にホウ酸アルミニウを混合して発泡させ、独立気泡２を多数有するシートを作成し、このシートに電荷をトラップすることにより、圧電・焦電素子１を生成する。これにより電荷のトラップされた独立気泡２が巨大な双極子を構成するため、高い圧電率を有する、耐熱性、耐環境性に優れた圧電・焦電素子１を提供することが可能となる。 （もっと読む）

本発明は、ポリマー表面又はポリマー混合物表面のヒドロキシル化、アルコキシル化或いはオキシカルボニル化のためのＲＯ^・ラジカルの使用に関し、Ｒは、水素、炭素数２〜１５のアルキル基、アシル基−ＣＯＲ’（式中、Ｒ’は、炭素数２〜１５のアルキル基を表す）、又はアロイル基−ＣＯＡｒ（式中、Ａｒは、炭素数６〜１５の芳香族基を表す）であり、上記ポリマーはモノマーユニットで構成され、この中の少なくとも５０％が芳香族ユニットであり、かつ、上記ＲＯ^・ラジカルは、電気化学的手段又は光化学的手段により生成される。 （もっと読む）

本発明は、フッ化ビニリデン樹脂（ＰＶＤＦ）のベータ相の新しいフィルム、及び、高温で該フィルムの厚さ方向に沿って加圧して、該フィルムの気孔を除去するための方法に関する。加圧及び温度の相乗作用は、ＰＶＤＦベータ相の気孔を除去し、フィルムの機械的特性（ヤング率、圧密降伏応力、破壊応力、降伏ひずみ、破断ひずみ）、電気的特性（誘電率、電気的破壊）、電気機械的特性（電気機械結合、圧電係数）を改善し、それにより、技術的応用にフィルムを使用できる。本発明によれば、全質量に対して９５〜１００質量％の範囲のベータ相からなり、５０％以上の結晶化度を有する非多孔性材料を得ることができる。 （もっと読む）

ポリマー配合物を連続的に静電加工するのに有用な装置及び方法が提供される。該装置は、静電加工材料を連続的に噴出するよう動作可能な投入ステージと、噴出した材料が集積される集積ステージとを含む。該装置は、堆積した静電加工材料を集積ステージから連続的に取り出すためのデバイスを含む。該装置は、取り出された静電加工材料を巻き取るように動作可能なピックアップステージを任意選択的に含むことができる。前記静電加工材料の特性を変化させるために該材料に物質を塗布し、及び／又はローリング又は加熱などの該材料を物理的に処理するための処理ステージを提供することができる。静電加工材料は、マイクロスケール又はナノスケールの寸法を有することができる。
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【課題】 基材上に形成されたポリ尿素膜のポーリング処理を、基材を損傷することなく、また、ポリ尿素膜に絶縁破壊を生じさせずに確実に行うことができる有機圧電焦電体膜の形成方法を提供する。
【解決手段】 ジアミンと、ジイソシアナートとを蒸着重合することにより、基材上にポリ尿素膜を形成し、前記ポリ尿素膜を、８０℃〜１３０℃の温度で加熱するとともに磁場を印加して、前記ポリ尿素膜にポーリング処理を施すことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 本願発明では、被改質表面である固体材料表面と紫外線透過窓の間に固定された電極により反応溶液に電圧を印加して、Electro wetting状態にしておき、固体材料表面が反応水溶液と高い密着性を呈している間に、その界面に紫外線を入射させ、被改質面と反応溶液との光化学反応によって材料表面に官能基や原子を置換し、恒久的な改質面を作る。
【解決手段】
そこで、予め、材料表面と反応水溶液との化学的密着性（親水性）あるいは油との密着性（親油性）を強制的に高くした状態で反応溶液と非改質表面の親和性を向上させる為に反応溶液に高電圧を印加してElectro wetting状態にしておき、被改質表面側の電荷をプラス（＋）、マイナス（−）あるいは交流を印加した状態で紫外線を化学反応系に照射して、被改質面と反応溶液との光化学反応によって材料表面に官能基や原子を置換し、恒久的な改質面を作ることができる。 （もっと読む）

フィルムを製造する方法が、イオン含有ポリマーまたはイオン含有ポリマー前駆物質のコーティングを提供する工程と、マイクロ波放射線を用いてコーティングをアニールしてフィルムを形成する工程とを含む。燃料電池の膜電極アセンブリに使用するためのイオン含有膜を製造する方法が、イオン含有ポリマーまたはイオン含有ポリマー前駆物質の溶液をコートして膜電極アセンブリのキャスト膜を形成する工程と、マイクロ波放射線を用いてキャスト膜をアニールする工程とを含む。キャスト膜は、例えば、ＰＥＭを含んでもよく、それは燃料電池アセンブリに組み込まれてもよい。
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【課題】 ３方向の磁化率χ_１、χ_２、χ_３が異なる物体の集合体について、χ_１、χ_２、χ_３の配向方向が、この集合体を構成する各々の物体について全て同じになるようにする（精密配向）手段、特に、従来の磁場配向技術では困難であった粒子径が小さく、熱揺動により容易に配向が乱れる系についても有用な精密配向手段を提供することにある。
【解決手段】 ３つの磁化率χ_１、χ_２、χ_３が異なる物体の集合体に、この物体の静磁場下での配向時間τの逆数より大きい角速度ωで楕円的に回転する磁場（高速回転楕円磁場）を印加することにより、この物体の３つの磁化率χ_１、χ_２、χ_３の配向方向を精密配向させることを特徴とする磁場による精密配向体の製造方法に関する。 （もっと読む）

本発明は、その表面から出るフィブリルまたは突起を有するフィルムまたは基材に関する。本発明は、また、そのような基材を製造するための方法、そのような基材を製造するためのデバイス、およびそのような基材の最終用途に関する。
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本発明は、任意の微小な領域のみを構造制御する全く新しい薄膜の製造方法を提供することを目的とする。製膜途中または製膜後の膜全体または膜内の任意の部分について、その膜温度を非晶部のガラス転移温度以上に設定した上で、鋭利な先端形状を有する部材を用いて力を加えることにより、膜の構造を制御するようにした。本製造方法を実現する装置として、原子間力顕微鏡を用いることもできる。
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本発明は、電子銃のための窓を形成する集束アノードを有する電子銃、ならびに照射および滅菌への該銃の応用に関する。前記銃は、電子放出面８を有するカソード６と、チャンバ壁の１つに形成された電子に対して透過性があるアノード４とを含む真空チャンバ２を含む。アノードは、チャンバの内部と外部の間の圧力差に耐えるために、湾曲している。また、放出面も、湾曲しており、アノードと協調して、チャンバの外部で電子を集束させる。
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【課題】 本発明は、例えば、半導体、フラットパネルディスプレイ、プリント基板などの製造装置や検査装置など、異物を嫌う基板処理装置のクリーニングシート及びクリーニング方法を提供する。
【解決手段】 クリーニング層が、電石（エレクトレット）化された物質からなる、又は／及びクリーニング層の表面電位が、０．１〜１０ＫＶの範囲であるクリーニングシートである。 （もっと読む）

【課題】 高分子成形材とメッキ膜間の密着性が照射領域で位置によらず所望の値以上になる高分子成形材のメッキ形成方法を提供することである。
【解決手段】 高分子材料に無機フィラーを充填した高分子成形材に照射するレーザの下限のフルーエンスを、メッキ形成に必要な最低フルーエンス以上で高分子成形材の表面粗さが増加傾向にある範囲で決定し、レーザの上限のフルーエンスを、高分子材料のアブレーションしきい値もしくは充填した無機フィラーのアブレーションしきい値のうち低い方で決定し、フルーエンスを、下限のフルーエンスと上限のフルーエンスとの間の一定範囲内に収めるようにした。 （もっと読む）