【課題】生産性が高いモールドシートの製造方法を提供する。
【解決手段】複数のエンボスパターンが形成された転写面を有する転写シートを準備し、転写シートの転写面上に、シリコーン組成物を含有する未硬化層を形成する。未硬化層が形成された転写シートを巻き取りロール１０５に巻き取る。未硬化層が巻き取られた巻き取りロール１０５を熱キュア装置２００で熱処理する。このとき、未硬化層が熱硬化してモールドシートが製造される。 （もっと読む）

【課題】気泡シートに良好な視認性を有する識別表示を押印する気泡シート製造装置用のプラグ、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】周面に複数のキャビティが形成された成形ロールに供給され、キャビティにおいてキャビティ形状に対応する突起が真空成形されるキャップフィルムと、キャップフィルムに接合され、前記突起内の空気を封止するバックフィルムと、を備える気泡シートを製造する気泡シート製造装置において、キャビティの底面に連通するキャビティより小径の吸引孔を通気可能に塞ぐプラグ１Ａであって、キャビティの底面となるプラグ上面に、真空成形時の吸引力によって所定の識別表示をキャップフィルムの突起頂面に凹設及び／又は凸設成形する印章部２を備え、印章部２は、所定の金属粉末をレーザ照射により焼結させた金属焼結層によって形成された構成としてある。 （もっと読む）

【課題】転写パターンの不良を低減するテンプレートの製造方法および半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】実施の形態のテンプレートの製造方法は、主面１１に凹凸を有するパターン１３０が形成され、パターン１３０をウエハ４上に形成されたレジスト材５に接触させてパターン１３０をレジスト材５に転写するインプリント処理に用いるテンプレート１であって、テンプレート１の少なくとも凹部１３２の底部１３２ａに荷電粒子を打ち込む工程を含む。 （もっと読む）

【課題】加工対象の表面の高さ分布に起因する微細パターンの形状のばらつきを低減させることが可能なナノインプリント用モールドを提供する。
【解決手段】ナノインプリント用モールド１は、モールド基体部３と、裏面５Ｂと、裏面５Ｂとは反対側のパターン面５Ｓとを有するモールド本体部５と、モールド基体部３の表面３Ｓと、モールド本体部５の裏面５Ｂとの間に固定された弾性体部７とを備える。モールド本体部５のパターン面５Ｓには、ナノインプリント用のパターン５Ｐが形成されており、弾性体部７の体積弾性率は、モールド本体部５の体積弾性率よりも小さい。 （もっと読む）

【課題】ダイヘッドから押出したシート状樹脂材料を押圧ロールと賦形ロールで狭圧して光学レンズシートを成形する際に、シート状樹脂材料の型入り向上、型崩れ防止を図り、高賦形率の光学レンズシートを得ることを可能とする。
【解決手段】賦形ロール1を、賦形ロールパターンa表面に低熱伝導性を賦与するために表面処理Kを施したロールとする。表面処理Kとは、例えばフッ素樹脂をはじめとした樹脂コーティング、セラミックコーティング、断熱塗料による被覆などである。この状態で樹脂材料Jを押出すダイヘッド3を転写部Pに近接する位置に移動させ、ダイヘッド3から転写部Pに樹脂材料Jを導入する。これにより、樹脂材料Jの流動性を最適化し、挟圧時の高充填型入れ、剥離時の型崩れ防止を図って安定して連続的に高賦形率の光学レンズシートJ1を得ることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】撥水剤の塗布や混練することなく、かつ特殊な加工設備・金型を必要とせず、簡単な工程で加硫ゴムの表面に高撥水構造を形成する方法を提供する。
【解決手段】ゴムの加硫成形工程において、メッシュシート２の構造をゴム組成物３の表面へ転写し、加硫ゴム表面に高撥水構造を形成する。メッシュシートのメッシュ数が１５０〜５０８メッシュである。メッシュシートのオープニングが２０〜１２０μｍである。メッシュシートのオープニングエリアが２０〜５０％である。 （もっと読む）

【課題】高価な樹脂材料を用いたり、撥水処理したりしなくても、優れた撥水性を発現できる成形体とその製造方法、および成形体を備えた撥水性物品の提供。
【解決手段】樹脂組成物からなる、複数の凸部１３が形成された微細凹凸構造を表面に有する成形体１０であって、前記凸部１３の先端１３ａから１０ｎｍの位置で水平に切断したときの切断面の平均占有率が８．０％以下であり、隣接する凸部間の平均間隔が４００ｎｍ以下であり、かつ前記樹脂組成物は、硬化物とした際の平滑面における水接触角が６１°以上であることを特徴とする成形体１０とその製造方法、および成形体を備えた撥水性物品。 （もっと読む）

【課題】ＮＩＬにより効率良く且つ精度の良く大面積の凸部パターンの形成を可能とするテンプレートおよび製造方法、パターン形成方法、加工方法を提供する。
【解決手段】実施形態のテンプレート１０は、第１凹凸パターンに硬化剤を充填して硬化させることにより第１凹凸パターンを硬化剤に転写して硬化剤からなる第２凹凸パターンを被加工層上に形成するインプリントに用いるテンプレートである。このテンプレート１０は、基板の一面側に第１凹凸パターンを備える。第１凹凸パターンは、凹部の底面の高さ位置が略同一であり、凹部の底面からの高さが異なる２種類以上の凸部１１ｐａ、１１ｐｂを有する。 （もっと読む）

【課題】光インプリント後の被加工物との離型性に優れたナノインプリント用モールドを提供する。
【解決手段】ナノインプリント用モールド１を、基部３と該基部３の一方の面から突出する凸構造部４とを有する基材２と、凸構造部４の上面４ａに位置する転写形状部５と、凸構造部４の側面４ｂの周囲方向全域に位置する傾斜部６と、を備えたものとする。 （もっと読む）

【課題】親テンプレートからインプリント法により個別識別マークを備えたテンプレートを容易に作製する。
【解決手段】第１のテンプレートからインプリント法により第２のテンプレートを作製するテンプレート作製方法であって、第１のテンプレート上に形成された転写を希望する凹凸パターンに対応する被処理基板上のパターン形成領域に第１のレジストを塗布し、第１のテンプレート上のパターンの形成されていない領域に対応する被処理基板上のマーク形成領域に、所望するパターンとなるように第２のレジストを選択的に塗布する。レジストが塗布された被処理基板上に第１のテンプレートを密着させて、第１のテンプレートの凹部に第１のレジストを浸透させる。第１及び第２のレジストを硬化させ、硬化されたレジストをマスクに用いて被処理基板を加工する。 （もっと読む）

【課題】光学シートの金型ロールに関し、広い幅の金型ロールであっても切削工具の交換をすることなく、又は交換回数を減らすことができる金型ロールの製造方法を提供する。
【解決手段】凹凸形状を有する光学シートの凹凸部分を成形する金型ロールを製造する方法であって、表面に被加工層が形成されたロール基体２１を回転させ、切削工具３０により光学シートの凹凸に対応する溝を形成させる工程を含み、切削工具の横逃げ角を２度以上、５度以下とすることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、モールドの製造に複雑な工程を要することなく、モールド材と同じ材料からなるアライメントマークを直接光学的に識別することを可能とし、高いアライメント精度で位置合わせすることができるインプリント用モールド、アライメント方法、インプリント方法、およびインプリント装置を提供することを目的とするものである。
【解決手段】 ステップアンドリピート方式のインプリントにおいて、モールド側アライメントマークを、モールドの転写領域と同一面上であって、溝構造を隔てた位置に形成し、インプリントしようとしている被転写領域内の基板側アライメントマークではなく、前記被転写領域に対して上下、左右、対角に接する被転写領域内の基板側アライメントマークとアライメントすることにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】 モールド欠陥の発生を抑制できるインプリント用モールドを提供すること。
【解決手段】 基板と、前記基板上に設けられ、転写するべきパターンに対応した凹凸パターンと、不純物が添加されていない溶融石英よりも不活性ガスに対する透過性が高いガス透過性領域とを具備してなり、前記不活性ガスに対する透過性は、被処理基板上に塗布されたインプリント剤に前記凹凸パターンを接触させた場合に、前記凹凸パターンとは反対側の面から前記基板内に前記不活性ガスを取り込む性質であり、前記ガス透過性領域は、前記凹凸パターンが形成された面と反対側の面から、前記凹凸パターンが形成された面に向かって、前記不活性ガスに対する透過性が異なる複数の領域を具備することを特徴とするインプリント用モールド。 （もっと読む）

【課題】非対称の形状をしたレンズを有するマイクロレンズシートの製造に用いられる成形型を製造する方法を提供する。
【解決手段】
母材５１にレジストを塗布して、マスク６５を形成する（ステップＳ２）。マスク６５に形成される開口６６の形状を設定する形状設定工程が行われる（ステップＳ３）。レーザが、設定された形状に基づいてマスク６５に照射され、複数の開口６６がマスク６５に形成される（ステップＳ４，Ｓ５）。ステップＳ３において設定される開口６６は、仮想分割線６６ｙにより分割される第１領域６６Ｒ及び第２領域６６Ｌを有する。仮想分割線６６ｙは、開口６６を線対称に分割する仮想二等分線６６ｘに直交する。第１領域６６Ｒの面積は、第２領域６６Ｌの面積よりも小さい。第１領域６６Ｒにおけるエッチング速度が、第２領域６６Ｌにおけるエッチング速度よりも小さくなるため、左右非対称の凹部６２が、銅めっき層６４に形成される。 （もっと読む）

【課題】微細なパターンをレジスト層に高精度で描画できる描画方法、これを用いた原盤の製造方法、スタンパの製造方法及び情報記録ディスクの製造方法を提供する。
【解決手段】走査型電子顕微鏡による観察が可能な材料で構成されたレジスト層支持材３４と描画領域ＥＡにおいてレジスト層支持材３４を被覆し、且つ、内側非描画領域ＮＥＡ１及び外側非描画領域ＮＥＡ２の少なくとも一部においてレジスト層支持材３４を被覆しないようにレジスト層支持材３４の上に形成されたレジスト層３６とを備える被加工体３０を用意し、レジスト層支持材３４におけるレジスト層３６から露出する部分を走査型電子顕微鏡により観察しこの観察の結果に基づいて電子ビームの焦点の位置を調整して電子ビームをレジスト層３６に照射しレジスト層３６を所定の描画パターンで露光する。 （もっと読む）

【課題】 硬化性材料の充填時間の短縮化を図れるテンプレートを提供すること。
【解決手段】 テンプレートは、硬化性材料が塗布された第１の基板に１００ｎｍ以上の一辺を有するパッド、ダミーパターンまたはマークである大パターンとこの大パターンよりも小さな微細パターンとを有するパターンを転写するために使用されるインプリント用のテンプレートであって、前記硬化性材料と接触する面を有する第２の基板と、前記面上に設けられ、前記第１の基板に転写される前記大パターンに対応する凸状の輪郭を有する凹部と、前記凹部の体積を小さくするために、前記凹部内に配置された複数の凸部とを具備してなり、前記複数の凸部は、前記凹部内において、マトリクス状または不規則に配列されていることを特徴する。 （もっと読む）

【課題】耐久性が高く優れた離型性を具備したナノインプリント用のモールドと、このようなモールドを簡便に製造するための製造方法を提供する。
【解決手段】ナノインプリント用モールド１を、基材２と、基材２の一方の面２ａを被覆する樹脂層３と、この樹脂層３の面３ａに位置する凹部４とを備えたものとし、樹脂層３を表面の水接触角８０°以上、ＨＶ硬度４００以上とし、このようなナノインプリント用モールド１は、塗布工程にて、基材２の一方の面２ａに少なくともオルガノポリシロキサンと光触媒とを含有してなる塗布液を塗布して濡れ性変化樹脂材料層３′を形成し、乾燥工程にて、濡れ性変化樹脂材料層３′とマスターモールド１１を圧着し、その状態で濡れ性変化樹脂材料層３′に乾燥処理を施して樹脂層３を形成し、剥離工程にて、樹脂層３とマスターモールド１１とを離間することで形成する。 （もっと読む）

【課題】裏側に研削で凹部を形成した場合にマスクブランク用基板の内部に残留する応力を低減し、マスクブランク用基板の表側の平坦度を高く維持する。
【解決手段】インプリントモールドを作製するためのマスクブランクに用いられるマスクブランク用基板を製造する方法である。この製造方法は、対向する第１の主表面ＳＦ１及び第２の主表面ＳＦ２を備える基板１１を準備する工程と、第１の主表面ＳＦ１に小孔ＳＣＶを形成する小孔形成工程と、小孔ＳＣＶの底面ｂｆ１近傍の側壁ｓｄ１を切削して小孔ＳＣＶの底面ｂｆ１を広げる底面拡大工程と、広げられた底面ｂｆ２の上にある小孔の側壁ｓｄ１を除去する側壁除去工程とを備える。底面拡大工程と側壁除去工程とを交互に実施することにより、第１の主表面ＳＦ１に所定の大きさを有する凹部ＣＶを形成する。 （もっと読む）

【課題】精度よく位置合わせを行うことができるインプリントマスク、その製造方法、及び半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】インプリントマスク１は、石英板１０からなり、石英版１０の上面の一部に複数の凹部１１が形成されており、前記石英板１０における前記凹部１１間の部分が凸部１２となっている。そして、凸部１２、すなわち、凹部１１間の部分には不純物としてガリウム（Ｇａ）が含有されている。このガリウムは、上方からイオン注入されて導入されたものである。これにより、凸部１２内には、ガリウム拡散層１６が形成される。 （もっと読む）

【課題】裏側に研削で凹部を形成した場合にマスクブランク用基板の内部に残留する応力を軽減し、マスクブランク用基板の表側の平坦度を高く維持する。
【解決手段】インプリントモールドを作製するためのマスクブランクに用いられるマスクブランク用基板の製造方法である。この製造方法は、対向する第１の主表面ＳＦ１及び第２の主表面ＳＦ２を備える基板１１を準備する工程と、第１の主表面ＳＦ１における所定の領域を第２の主表面ＳＦ２の方向に研削して、凹部ＳＣＶを形成する研削工程と、凹部ＳＣＶの底面ｂｆ１に対し、第２の主表面ＳＦ２の方向に所定量のエッチングをさらに行い、所定深さの凹部ＣＶを形成するエッチング工程とを備える。 （もっと読む）