説明

Fターム[4F209AJ08]の内容

Fターム[4F209AJ08]の下位に属するFターム

Fターム[4F209AJ08]に分類される特許

141 - 160 / 623


【課題】凹凸パターンの凸部に囲まれた部位を好適に転写することの出来るインプリント方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のインプリント方法によれば、インプリントモールドを被転写材に接触させたのちにモールドの凹凸パターンを形成するため、予め凹凸パターンが形成されたモールドを被転写材に接触させる場合と比較してモールドと被転写材との間に空気を挟んで転写不良となる頻度を下げることができ、凹凸パターンの凸部に囲まれた部位を好適に転写することが出来る。 (もっと読む)


【課題】優れた防眩性を示しながら、良好なコントラストを発現し、「白ちゃけ」や「ギラツキ」の発生による視認性の低下を防止しうる防眩フィルムを製造するための金型を製造する。
【解決手段】防眩フィルム製造用金型の製造方法であって、第1めっき工程と、研磨工程と、感光性樹脂膜形成工程と、露光工程と、現像工程と、第1エッチング工程と、感光性樹脂膜剥離工程と、第2めっき工程とを含み、前記感光性樹脂膜形成工程において、感光性樹脂膜の膜厚の変動係数が10%未満になるように感光性樹脂を塗布して感光性樹脂膜が形成されることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ナノサイズの微細構造を有する金型を効率的に製造することができる金型製造装置を提供する。
【解決手段】前記無機薄膜5上にアミノ基、メルカプト基、チオール基、ジスルフィド基、シアノ基、ハロゲン基、スルフォン酸基の1つ以上を含む官能基を有するシランカップリング剤を含有する自己組織化膜40を形成する自己組織化膜形成部2と、前記自己組織化膜40の表面を洗浄する洗浄部3と、前記自己組織化膜40上に通電層41を形成する通電層形成部4とを備え、前記自己組織化膜形成部2、洗浄部3、および通電層形成部4は不活性ガス雰囲気に保持されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】フォトリソグラフィー法により、微細性、アスペクト比に優れ、且つ、外形形状となるフォトレジスト部に傾斜部が形成された電鋳型とその製造方法を提供する。
【解決手段】電鋳型1は、紫外線に対して透過性を有する基板2と、前記基板の表面に導電性を有し、かつ紫外線に対して透過性を有する導電膜3と、前記導電膜の上面に形成され、前記導電膜の上面から前記第1のフォトレジスト層4の上面に向かって傾斜する第1の貫通孔を有する第1のフォトレジスト層と、を備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】優れた防眩性を示しながら、良好なコントラストを発現し、視認性の低下が防止された防眩フィルムを製造するための金型を製造する方法を提供する。
【解決手段】金型用基材1の表面2にめっき3を施すめっき工程と、金型用基材の表面に施された合金めっきを切削加工および/または研磨加工することによって表面粗さが0.1μm以下の鏡面を形成する鏡面4加工工程と、形成された鏡面に複数の微細凹部5を切削加工によって形成する微細凹部形成工程とを含み、上記微細凹部形成工程における複数の微細凹部の切削加工が、切削工具によって行なわれ、切削される微細凹部間の平均最隣接距離をa(μm)とし、切削深さをd(μm)とした時に特定の条件を満たすことを特徴とする防眩フィルム製造用金型の製造方法、ならびに得られた金型を用いた防眩フィルムの製造方法。 (もっと読む)


【課題】ナノサイズの微細構造を有する金型を容易に製造することができる金型製造方法およびその方法により形成された金型を提供する。
【解決手段】微細構造を有した無機薄膜1上にアミノ基、メルカプト基、チオール基、ジスルフィド基、シアノ基、ハロゲン基、スルフォン酸基の1つ以上を含む官能基を有するシランカップリング剤から構成された自己組織化膜2を形成するステップと、前記自己組織化膜2上に通電層3を形成する通電層形成ステップと、前記通電層3上に電解めっきにより金属膜4を形成するステップとを有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】正面方向の輝度の低下を抑制しつつ光の拡散機能の向上を図ることができる拡散シートおよびこれを備えたバックライト、液晶表示装置ならびに拡散シートの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態に係る拡散シート1は、基材11の主面11a上に凸形状の複数の構造体12と平坦部13とを有する。構造体12は基材11を透過する光の拡散機能および集光機能を有する。構造体12は主面11a上にランダムに形成されることで、モアレの発生を抑制する。また、平坦部13は、0.6μm以下の表面粗度(Ra)を有し、光の拡散機能を有する。したがって、上記拡散シート1によれば、正面方向の輝度の低下を抑制しつつ、光の拡散機能の向上を図ることができる。 (もっと読む)


【課題】テンプレートを用いて基板上に所定のパターンが形成されるように、当該テンプレートの表面に離型剤を適切に成膜する。
【解決手段】成膜ユニットは、テンプレートTの転写パターンCの凸部C上面のみに離型剤Sを成膜する離型剤供給部112を有している。離型剤供給部112は、支持部材120を有している。支持部材120には、凸部C上面に当接して、当該凸部C上面に離型剤Sを塗布する第1のローラ121と、第1のローラ121と同軸方向に延伸し、当該第1のローラ121と当接する第2のローラ122と、第2のローラ122の表面に液体状の離型剤Sを供給する離型剤ノズル123と、凸部C上面に塗布された離型剤Sに気体を供給し、当該離型剤Sを乾燥させる乾燥ノズル124と、が支持されている。 (もっと読む)


【課題】被成型品をシート状モールドから引き剥がすために、平板状のシート状モールドを移送し位置決めするシート状モールド移送位置決め装置において、シート状モールドが弛んだり切れたりすることを防止する。
【解決手段】シート状モールドMのモールド原反MBを設置するモールド原反設置装置9と、モールド原反設置装置9から繰り出している平板状のシート状モールドMAを巻き取るモールド巻き取り装置11と、引き剥がしをするときに平板状のシート状モールドの形態が変化しても、平板状のシート状モールドの張力を一定に維持する張力維持手段とを有する。 (もっと読む)


【課題】ゾルゲル法により硬化性物質を硬化して得られる、表面に微細構造が寸法精度よく形成された硬化物質を含む微細構造体を、生産性よく、大面積で製造する方法の提供。
【解決手段】ゾルゲル法により硬化性物質を硬化して得られる、表面に微細構造が形成された硬化物質を含む微細構造体の製造方法において、前記硬化性物質を含む溶液が、式Si(Xで表される4官能シラン、式RSi(Xで表される3官能シラン、含フッ素界面活性剤、有機溶剤、および水を含み、かつ、前記4官能シランに対する前記3官能シランのモル比が、0.03〜1である。X、Xはそれぞれ独立に、炭素数1〜6のアルコキシ基、Rは炭素数が1〜10の置換または非置換の1価有機基(ただし、ケイ素原子と結合する原子は炭素原子である)。 (もっと読む)


【課題】可展面でない製品形状であっても、製品表面に歪みの少ない、見栄えの良い絞が形成される表面加工データを作成する。
【解決手段】ポリゴンメッシュ化した製品表面を領域分けし、初期領域AにテクスチャGAをマッピングする。隣接領域Bの境界線を外方へ多重化して初期領域との間に重複領域Dを設け、処理中の領域X(重複領域+隣接領域)を2次元平面に射影してテクスチャGBを割り当てる。重複領域で両テクスチャGA、GBの画素値の差が最小となる最適な境界線FSを求め、最適な境界線でテクスチャGAにつなげてテクスチャGBを処理中の領域Xにマッピングする。最適な境界線を中心に画素値の混ぜ合わせもできる。初期領域と隣接領域とを新たな初期領域として上記を繰り返し、全領域にマッピングしたテクスチャに基づいて変位させたポリゴンメッシュの頂点を結び、絞付与ポリゴンデータとする。 (もっと読む)


【課題】被加工物の意図しない部位への露光を確実に抑制できるナノインプリント用モールドを簡便に製造するための製造方法を提供する。
【解決手段】乾燥工程にて、基部13の一方の面から突出する凸構造部14を有する基材12の凸構造部14が突出している側の面に、濡れ性変化樹脂材料塗布液を塗布して被覆し、その後、乾燥処理を施して、表面の水接触角が90°以上、かつ、硬度が400以上である樹脂層15を形成し、濡れ性変化工程にて、基部13上に位置する樹脂層15に光を照射して、表面の水接触角が10°以下の樹脂層15aとし、遮光膜形成工程にて、樹脂層15、15a上に遮光膜形成用組成液を塗布して、乾燥、硬化することにより、基部13上に位置する樹脂層15a上に遮光膜17を形成し、凹部形成工程にて、凸構造部14上に位置する樹脂層15とマスターモールド21とを圧着し、その後、離間して、樹脂層15に凹部16を形成する。 (もっと読む)


【課題】スリーブのがたつきが抑えられ、かつセンタリング性が良好であるロールスタンパを提供する。
【解決手段】マンドレル10と、マンドレル10の先端側から基端側に向かってマンドレル10の外周に着脱可能に装着されるスリーブ40とを有し、スリーブ40の外周面に形成された微細凹凸構造を被転写体に転写するロールスタンパ1であって、スリーブ40の両端の開口部が、スリーブ40の端面に向かって拡径するテーパ部とされ、スリーブ40が、マンドレル10の先端側に設けられ、スリーブ40のテーパ部と当接する先端側係止部22と、マンドレル10の基端側に設けられ、スリーブ40のテーパ部と当接する基端側係止部24との間で挟持されたロールスタンパ1。 (もっと読む)


【課題】樹脂製のナノインプリント用の型であり、容易に離型可能でその表面が親水化処理された場合にも表面の微細形状の精度が良好な樹脂型を提供する。
【解決手段】樹脂成分(a)を含む材料からなる樹脂型であって、樹脂成分(a)を、平滑面を有する基材の前記平滑面上に塗布して、乾燥などにより平滑面を有する樹脂層(A)を形成した後、形成した樹脂層(A)の平滑面上に3μLの水を配置して、JISR3257に準拠して測定される静的接触角(X1)が、下記条件(1)を満たす樹脂型。条件(1):転写対象を構成する材料のうちの樹脂成分(b)を、平滑面を有する基材の平滑面上に塗布して、乾燥などにより平滑面を有する樹脂層11を形成した後、形成した樹脂層11の平滑面上に3μLの水13を配置して、JISR3257に準拠して測定される静的接触角(Y1)と静的接触角(X1)との差の絶対値Θが20°〜60°である。 (もっと読む)


【課題】低い反射率及び優れた撥水性の少なくともいずれかを備えた微細凹凸構造体及び該微細凹凸構造体の製造方法の提供。
【解決手段】ポリマー溶液塗布膜形成工程と、水滴形成工程と、凹部形成工程と、前記複数の凹部に接着剤を介して第2の基板を貼り付け、該第2の基板を剥がして前記複数の凹部の少なくとも表面部分を厚み方向に剥離し、第2の基板上に複数の第1の突起構造体を形成する第1の突起構造体形成工程と、複数の第1の突起構造体をマスクとして前記第2の基板のエッチングを行う第2の基板エッチング工程とを含む微細凹凸構造体の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】容易に所望の表面形態に形成され、所望の反射防止特性を有する導電性表面、更には光透過可能な低反射導電性表面を有する材料と、その製造方法を提供する。
【解決手段】モールドを用いて形成された、反射防止特性を備えた凹凸パターンを有する表面上に、透明な導電性材料からなる透明導電性薄膜が形成されていることを特徴とする低反射導電性表面を有する材料、およびその製造方法。 (もっと読む)


【課題】入射光が出射部の手前で漏れることがなく、屈折率界面で界面反射が起こることによる光取出し効率の減少がない導光フィルム、この導光フィルムを用いた植物の光合成を促進させる装置、太陽電池及び光電変換素子の提供。
【解決手段】光源から入射される入射光を該入射光側の面で入光させる光入射部と、前記光入射部から入射された光を外部に出射する光出射部と、を有し、前記光出射部の少なくとも一つの面の表面には微細凹凸構造が形成されていることを特徴とする導光フィルムにより、上記課題を達成できる。 (もっと読む)


【課題】スタンパ製造時における微細パターンの局所的な変形を防止することであって、最終的に得られる成形品における微細パターンを当初の狙い通りに形成すること。
【解決手段】(i)スタンパの微細パターンAの反転形状に相当する微細パターンBが形成されたレジストマスタを用意する工程、および、(ii)レジストマスタを母型とした電鋳を実施することによって、微細パターンAが形成されたスタンパを得る工程
を含んで成り、工程(i)で用意されるレジストマスタの微細パターン形成面においては、微細パターンBを中心とした放射線に沿うように凹部パターンを形成しておき、工程(ii)においては、電鋳に際して生じ得る応力を凹部パターンにより緩和することを特徴とするスタンパの製造方法。 (もっと読む)


【課題】押出成形法において高い精度でパターンロール14のパターンを転写させることのできるパターンシート製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】シート状溶融樹脂S1を吐出するTダイ13、パターンを転写するためのパターンロール14と円弧状の窪み21を有する押さえロール15からなる成形機、成形後のパターンシートを搬送する複数のガイドロール、そしてパターンシートを巻き取る巻取り機からなる。エアーギャップGが短いことで高い流動性を有する押出シートS1に高線圧、および長線圧長を与えることで完全にパターンロール14のパターンを転写させる。 (もっと読む)


【課題】高精度のレジストパターンを得るとともに、レジストへの電子線の描画時間を短縮する。
【解決手段】ナノインプリントモールドの製造方法は、基材101上に、凹凸パターンが形成されるパターン領域101Aと非パターン領域101Bとを設定し、少なくとも前記非パターン領域101B上にポジ型レジスト102からなるポジ型レジスト層を形成して、該ポジ型レジスト層に露光、現像を行いポジ型レジストパターン103を形成した後、前記パターン領域101A上にネガ型レジスト104からなるネガ型レジスト層を形成して、該ネガ型レジスト層に電子線により露光、現像を行いネガ型レジストパターン105を形成し、前記ネガ型レジストパターン105及び前記ポジ型レジストパターン103をエッチングマスクとして、前記基材をエッチングして前記凹凸パターン108を形成することを特徴とする。 (もっと読む)


141 - 160 / 623