【課題】裏側に研削で凹部を形成した場合にマスクブランク用基板の内部に残留する応力を低減し、マスクブランク用基板の表側の平坦度を高く維持する。
【解決手段】インプリントモールドを作製するためのマスクブランクに用いられるマスクブランク用基板を製造する方法である。この製造方法は、対向する第１の主表面ＳＦ１及び第２の主表面ＳＦ２を備える基板１１を準備する工程と、第１の主表面ＳＦ１に小孔ＳＣＶを形成する小孔形成工程と、小孔ＳＣＶの底面ｂｆ１近傍の側壁ｓｄ１を切削して小孔ＳＣＶの底面ｂｆ１を広げる底面拡大工程と、広げられた底面ｂｆ２の上にある小孔の側壁ｓｄ１を除去する側壁除去工程とを備える。底面拡大工程と側壁除去工程とを交互に実施することにより、第１の主表面ＳＦ１に所定の大きさを有する凹部ＣＶを形成する。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク記録媒体の磁気情報の記録および再生の精度が低下しないスタンパまたは磁気転写マスターの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】（ａ）表面にレジスト膜を有する円環状基板を提供する工程と、（ｂ）電子線リソグラフィー法を用いて前記レジスト膜中にダミーパターンを有する凹凸パターンを形成する工程と、（ｃ）前記レジスト膜を現像して、前記描画パターンとダミーパターンを有するレジスト原盤を形成する工程と、（ｄ）前記レジスト原盤に電鋳を行い、ダミーパターンを有する電鋳マスターを形成する工程と、（ｅ）前記電鋳マスターからダミーパターンを除去して、円環状磁気ディスク記録媒体製造用のインプリントスタンパを形成する工程を含むことを特徴とするインプリントスタンパの製造方法。 （もっと読む）

【課題】生産性が高く、テンプレートに欠陥が生じた場合に、欠陥の種類に応じて最適な歩留まりの管理を行うことができるインプリント方法、インプリント装置及びプログラムを提供する。
【解決手段】実施の形態のインプリント方法によれば、テンプレートに形成された凹凸パターンを基板上のインプリント材料に接触させて凹凸パターンをインプリント材料に転写する工程と、転写する工程の後にテンプレート又はインプリント材料に形成された凹凸パターンを撮像する工程とを複数回行う。次に、複数回の撮像する工程によって得られた複数の画像の経時的な変化に基づいて、テンプレートの欠陥の種類を判定する。 （もっと読む）

【課題】光学素子の材料によらず優れた反射防止特性を有し、かつ耐摩耗性及び耐久性に優れた光学素子及びそれを少ない工程で簡単に製造する方法を提供する。
【解決手段】二次元周期の細孔構造を有する陽極酸化ポーラスアルミナを転写型とし、細孔構造を基材10の表面に転写してなり、細孔構造の逆パターンを有する複数の微細な円柱状凸部12aからなる二次元周期構造体12が基材10の表面に設けられており、円柱状凸部12aの周期が使用する光の波長以下である光学素子。 （もっと読む）

【課題】連続的に生産できるモールドシートの製造方法を提供する。
【解決手段】基材が巻き取られた供給ロール及びエンボスロールを準備する（Ｓ１）。供給ロールから基材を巻きだし、基材をエンボスロールに搬送する。そして、基材とエンボスロールとの間に、シリコーン組成物からなる未硬化層を形成し、未硬化層を基材とエンボスロールとにより挟む（Ｓ２）。エンボスロールを加熱しながら回転し、未硬化層の表面に複数のエンボスパターンを転写しながら未硬化層を熱硬化する（Ｓ３）。熱硬化された未硬化層が形成された基材を、エンボスロールから剥がした後、未硬化層をさらに熱硬化してシリコーン層を形成する（Ｓ４）。 （もっと読む）

【課題】表面に離型層が形成された母材の欠損部分を補修することができるテンプレート補修方法、パターン形成方法及びテンプレート補修装置を提供する。
【解決手段】実施の形態のテンプレート補修方法は、母材と前記母材のパターン面に形成された第１の離型層とを備えたテンプレートの補修方法であって、前記パターン面に前記母材に対して親和性を有し、かつ、前記離型層に対して非親和性を有する材料を供給する。 （もっと読む）

【課題】インプリント用モールドの製造において微細なモールドパターンを高いパターン精度で形成することができるマスクブランクを提供する。
【解決手段】透光性基板１と該基板の表面に接して形成された薄膜２とを有するマスクブランク１０であって、上記薄膜２は、ケイ素（Ｓｉ）を含有する材料、またはタンタル（Ｔａ）を含有する材料で形成された上層４と、ハフニウム（Ｈｆ）およびジルコニウム（Ｚｒ）のうちの少なくとも一方を含有し、かつ酸素を実質的に含有しない材料で形成された下層３との積層膜からなる。 （もっと読む）

【課題】反りのある基板に容易に凹凸構造を形成可能な治具を提供する。
【解決手段】被加工物７０の上面に被覆された液状樹脂７６に凹凸構造６４を形成するための治具６２であって、中央に形成された円形凹部と、該円形凹部を囲繞する環状凸部５８と、該円形凹部の背面上に形成された凹凸構造６４とを具備したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】均一性の高い離型層をテンプレート表面に形成する。
【解決手段】本実施形態によれば、テンプレートの表面処理方法は、凹凸を有するパターン面を備えたテンプレートの表面を水酸化するか又は前記表面に水を吸着させて、前記表面にＯＨ基を分布させる工程と、前記ＯＨ基が分布したテンプレート表面にカップリング剤を結合させる工程と、を備える。これらの処理は、アミンが所定濃度以下に管理された環境で行われる。 （もっと読む）

【課題】表面に微細な凹凸パターンが形成された樹脂シート状物の効率的な製造方法を提供する。
【解決手段】表面に陽極酸化ポーラスアルミナまたはそれを鋳型として作製した凹凸パターンが形成された回転冷却ロール上に、溶融樹脂をスリットからシート状に連続的に押し出し、冷却ロール表面の凹凸パターンを溶融樹脂に転写した後冷却固化することを特徴とする、表面に微細な凹凸パターンが形成された樹脂シート状物の製造方法、およびその方法により製造された樹脂シート状物。 （もっと読む）

【課題】高い防眩機能を示す防眩性フィルムの製作に有用な、防眩層形成用金型を提供し、さらに、その金型を用いて、優れた防眩機能を示しながら、白ちゃけによる視認性の低下が十分に防止され、高精細の画像表示装置の表面に配置したときにぎらつきの発生しない防眩性フィルム、及び防眩性板を製造する方法を提供する。
【解決手段】金型を構成する金属部材の一面にブラスト処理することにより微細凹凸構造（Ａ）を有する面を形成し、その面上に電解ニッケルめっき層を設けることにより微細凹凸構造（Ｂ）を有する面を形成する防眩層形成用金型の製造方法であって、微細凹凸構造（Ａ）の平均長さＳｍ１、算術平均傾斜角Ｒ△ａ１、及び算術平均高さＲａ１、並びに微細凹凸構造（Ｂ）の平均長さＳｍ２、算術平均傾斜角Ｒ△ａ２、及び算術平均高さＲａ２が特定の範囲にある防眩層形成用金型の製造方法。 （もっと読む）

【課題】太陽電池セル３０に効率的に集光可能なシートを成形可能な円筒状の金型Ｓ、その金型Ｓにより成形されたシート、及びそのシートを使用した太陽電池モジュール２００を提供する。
【解決手段】金型Ｓは、表面に凹凸形状を有する成型部が形成された円筒状の金型本体Ｓ１を備える。上記成型部に形成される凹凸形状として、軸方向に延びる溝が円周方向に沿って複数形成されたひだ部Ｐ１と、円周方向に延びる溝が軸方向に沿って複数形成された帯状溝部Ｂ１と、を有する。この金型Ｓを使用してシートを成型し、太陽電池モジュール２００に用いる。 （もっと読む）

【課題】離型性に優れる原版シートを簡便に製造できる原版シートの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の原版シートの製造方法は、加熱収縮性樹脂フィルムの片面または両面に、表面が平滑な樹脂製の硬質層を形成して、積層シートを得る硬質層形成工程と、前記積層シートを加熱収縮させることにより、硬質層を折り畳むように変形させて、硬質層の表面に凹凸パターンが形成された凹凸パターン形成シートを作製する凹凸パターン形成シート作製工程と、前記凹凸パターン形成シートに形成された凹凸パターンの表面に、金属または金属化合物からなる金属含有層を形成する金属含有層形成工程と、前記金属含有層の露出面に、フッ素系離型剤を含有する離型剤層を形成する離型剤層形成工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】基材との密着性に優れ、転写材樹脂との離型性に優れ、且つ樹脂モールド自体の耐久性に優れた、転写材樹脂への繰り返し転写に耐えうる樹脂モールドを提供すること。
【解決手段】本発明の樹脂モールドは、表面に微細凹凸構造を有する樹脂モールドであって、樹脂モールド表面部のフッ素元素濃度（Ｅｓ）が、樹脂モールドを構成する樹脂中の平均フッ素元素濃度（Ｅｂ）以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】表面に微細パターンが形成された熱可塑性樹脂材を熱インプリント法によって効率よく作製できる技術を提供する。
【解決手段】ガラス転移点以上の温度に加温した熱可塑性樹脂材の表面に微細な凹凸パターン形成を行うための耐熱性と強度を併せ持つモールドであって、アルミニウム材の陽極酸化によって形成される表面に規則的なホールアレー構造を有する陽極酸化ポーラスアルミナ層を有することを特徴とする熱インプリント用モールド、およびその製造方法、並びにそのモールドを用いた樹脂材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】アライメントマークが形成された台座付きの基板を作製するにあたって、アライメントマークと台座の相対的な位置ずれを低減する。
【解決手段】本発明の基板作製方法は、光透過性の基板１の第１の主面上に、この基板１に形成すべきアライメントマーク５と台座の位置に応じたハードマスク２ａを形成する工程と、そのハードマスク２ａを用いて基板１をエッチングすることにより、基板１の第１の主面にアライメントマーク５を形成する工程と、基板１の第１の主面上にハードマスク２ａを覆う状態でレジスト層６を形成した後、このレジスト層６に基板１の第２の主面側から露光用の光を照射することにより、レジスト層６を露光する工程と、そのレジスト層６の露光部分を現像により除去して得られるレジストパターン６ａをマスクに用いて基板１をエッチングすることにより、基板１の第１の主面側に台座を形成する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、パターン部の凹部における樹脂の充填性および離型性が良好なナノインプリントモールドを得ることを主目的とする。
【解決手段】本発明は、凸部および凹部を有するパターン部、ならびに上記凸部の頂部に形成された金属膜を備えるモールド部材を準備し、第一離型剤を用いて、上記凹部の側壁部および底部、ならびに上記金属膜の表面に第一離型層を形成する第一離型層形成工程と、上記第一離型層を表面上に有する上記金属膜を剥離する金属膜剥離工程と、上記金属膜を剥離することにより露出した上記凸部の頂部に、第二離型剤を用いて、上記第一離型層よりも撥液性の高い第二離型層を形成する第二離型層形成工程と、を有することを特徴とするナノインプリントモールドの製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】エッチングを利用してパターン形成を行う場合に、形成すべき微細パターンの狭ピッチ化が進展しても、当該パターン形成を高精度に行えるようにする。
【解決手段】基板２上にハードマスク層３を有するマスクブランクス１において、前記ハードマスク層１は、前記基板２の側から第一層５と第二層６とが配される積層構造を有する。前記第一層５は、前記基板２に対してエッチングを行う際にマスクとなる層である。前記第二層６は、前記第一層５に対してエッチングを行う際にマスクとなるとともに、前記ハードマスク層３上に形成されるレジストパターン４をマスクにしてエッチングが行われる層である。そして、前記第一層５に対するエッチングの間は前記第二層６が当該第一層５のマスクとして機能するエッチング選択比を有した材料によって、当該第二層６を形成する。 （もっと読む）

【課題】凹凸パターンの凸部に囲まれた部位を好適に転写することの出来るインプリント方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のインプリント方法によれば、インプリントモールドを被転写材に接触させたのちにモールドの凹凸パターンを形成するため、予め凹凸パターンが形成されたモールドを被転写材に接触させる場合と比較してモールドと被転写材との間に空気を挟んで転写不良となる頻度を下げることができ、凹凸パターンの凸部に囲まれた部位を好適に転写することが出来る。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、本発明の課題は、離型処理が不要で、かつ繰り返し転写におけるパターンの転写精度が劣化しない微細構造体層を有するソフトスタンパである微細パターン転写用スタンパを提供することにある。
【解決手段】本発明は、支持基材１上に微細構造体層２を有する微細パターン転写用スタンパ３において、前記微細構造体層２は、複数の重合性官能基を有するシルセスキオキサン誘導体と、複数の重合性官能基を有する一種又は複数種のモノマ成分と、を主に含む樹脂組成物の重合体であることを特徴とする。 （もっと読む）