【課題】４０ｎｍ以下のパターンピッチのナノインプリント金型を簡便に製造できる方法を提供する。
【解決手段】
本発明によるナノインプリント金型の製造では、ＳｉＯ_２層を設けたＳｉ基板に、集束イオンビームを用いて所望の位置に金属を堆積し、この基板を加熱して、堆積した金属を凝集させて、ナノインプリント金型のパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】型を複数回繰り返して使用することにより、平板状の基板の面に硬化した成型材料で構成された複数の凸部を設けてマスター型を製造するマスター型製造装置において、マスター型での不良の発生を防止する。
【解決手段】型Ｍ１を複数回繰り返して使用することにより、平板状の基板Ｗ１の面に硬化した成型材料で構成された複数の凸部Ｗ２を設けて、マスター型Ｍ２を製造するマスター型製造装置１において、凸部Ｗ２を形成するための型Ｍ１の凹部Ｍ３に供給された硬化前の成型材料を観察する硬化前観察カメラ１７を有する。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリント加工の大面積化、高スループット化を達成できる新規な転写装置の提供。
【解決手段】予め表面に樹脂が塗布された基材フィルムＦ１に、所定の微細パターンが形成された転写板３３を押し当ててその樹脂に当該微細パターンを転写する方法であって、前記転写板３３を筒状に加工してから回転軸３２に着脱自在に取り付けた後、前記基材フィルムをＦ１前記回転軸３２上の転写板３３の表面に接触するように連続して送り出しながら、その樹脂上に所定の微細パターンを連続して転写する。これによって、基材フィルムＦ１上に所定の微細パターンを連続して転写できるため、ナノインプリント加工の大面積化、高スループット化を容易に達成できる。 （もっと読む）

【課題】明るさにムラが生じにくい光学素子が得られる凹凸パターン形成シートを提供する。
【解決手段】本発明の凹凸パターン形成シートは、一方向Ｙに沿って凹凸が繰り返すように凸部が繰り返し形成された凹凸パターンを少なくとも一方の面に有し、凹凸パターンは、方向Ｙに沿って切断した断面において、以下の未収縮領域率αが５０％以下である。測定長さＡ：最頻ピッチＰ×１００、高凸部１１ｃ：測定長さＡの範囲内に存在する凸部１１ａのうち、高さが高い方から１〜５０番目の凸部、平均収縮高さＢ：高凸部１１ｃである凸部の平均高さ、収縮領域１１ｄ：測定長さＡの範囲内に存在する凸部１１ａのうち、高さが平均収縮高さＢの１０％以上である凸部が存在する領域、収縮幅Ｃ：各収縮領域１１ｄの幅の合計、未収縮領域率α（％）：α＝（Ａ−Ｃ）／Ａ×１００（％）。 （もっと読む）

【課題】 添加剤を含有するエチレン系共重合体樹脂シートの成形においても、ラバーとられが発生せず、生産性を低下させないうえ、エンボス加工性などに優れた押出成形用エンボス型ロール、及びそれを用いたエチレン系共重合体樹脂シートの製造方法を提供する。
【解決手段】 エチレン系共重合体樹脂シートの押出成形用エンボス型ロールであって、軸芯部の外周にシリコーンゴム層、接着層およびフッ素樹脂層が順次積層されてなり、かつ、算術平均粗さ（Ｒａ）が５．０μｍ以上であり、最大高さ粗さ（Ｒｚ）が２５〜４０μｍであることを特徴とする。このとき、シリコーンゴムのＪＩＳ Ｋ ６２５３ デュロメータ タイプＡによるゴム硬度が３０〜８０であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】樹脂シートの片面に、微細な複数の突条と複数の溝とを精度よく形成できる樹脂シートの製造装置を得る。
【解決手段】樹脂シートの製造装置１は、温度調節ロール４と、樹脂シート３の片面に形成される突条３ａと溝３ｂとの形状に対応した溝６ａと突条６ｂとを外周面に有する無端金属帯状体６と、温度調節ロール４の外周面及び無端金属帯状体６の内周面の少なくとも一方に設けられた低比透磁率層５と、樹脂シート３の片面に突条３ａと溝３ｂとの形状を付与するための形状付与装置と、無端金属帯状体６を加熱するための電磁誘導加熱装置８とを備える。無端金属帯状体６の搬送方向に溝６ａと突条６ｂとの長さ方向が延びるように、無端金属帯状体６が外周面に溝６ａと突条６ｂとを有する。 （もっと読む）

【課題】表面上に、少なくとも２つの異なる方向それぞれに複数の光学的構造体が配置され、そのそれぞれの方向において複数の光学的構造体が０．１ｍｍ未満の間隔をもって配置されるように光学シートを形成する光学シート用の金型について、均一な外観品質を得る。
【解決手段】光学シート用金型１０は、表面上に、少なくとも２つの異なる方向それぞれに複数の光学的構造体が配置され、かつそのそれぞれの方向において前記複数の光学的構造体が０．１ｍｍ未満の間隔をもって配置されるように光学シートを形成する光学シート用の金型であって、円筒形状をなし、その外周面に光学的構造体を形成するための光学的構造体形成部１２が形成され、かつビッカース硬度が５００Ｈｖ以上から６００Ｈｖ以下の範囲とされて形成されており、複数の光学的構造体は、光学シートの表面に前記外周面が押し付けられて光学的構造体形成部１２が転写されることにより形成される。 （もっと読む）

【課題】表面修飾が可能な、基材との密着性に優れ、転写材樹脂との離型性に優れ、繰り返しの使用に耐えうる樹脂モールドの提供。
【解決手段】第一面と該第一面と反対側に位置する第二面とを有するフィルム基材の該第一面に微細凹凸構造を有するナノインプリント用の樹脂モールドであって、該樹脂モールドを構成する樹脂中の平均フッ素元素濃度（Ｅｂ）に対する該樹脂モールドの微細凹凸構造の表面部のフッ素元素濃度（Ｅｓ）の比が、下記式（１）：
１＜Ｅｓ／Ｅｂ≦３００００ （１）
を満たし、かつ、該樹脂モールドを構成する樹脂中にシリコン元素を含有することを特徴とする前記樹脂モールド。 （もっと読む）

【課題】高Ｓ／Ｎを有するビットパターンドメディアを製造でき、パターン欠陥の発生を抑制でき、製造を比較的短時間で行えるインプリントモールド及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ビットパターンドメディアにおいて磁性体領域の元となるドット状の凸部が基板の主表面に形成されており、前記ドット状の凸部が前記基板の主表面において所定の方向に一定周期で形成されているインプリントモールドにおいて、前記ドット状の凸部は、前記基板の主表面を削って形成された、複数の連続的な平面視ライン状の溝が交わってなる格子状の溝部に囲まれることによって形成され、前記一定周期において、前記ライン状の溝の幅は、前記ドット状の凸部の幅よりも小さい。 （もっと読む）

【課題】熱分解後の酸化銅（Ｉ）の再酸化を抑制可能な熱反応型レジスト材料を提供すること。
【解決手段】本発明の熱反応型レジスト材料は、リチウム、ナトリウム、マグネシウム、カルシウム、チタン、鉄、コバルト、亜鉛、ガリウム、シリコン、ゲルマニウム、鉛、ビスマス、及びテルル、並びにその酸化物、塩化物、フッ化物、及び炭酸化物からなる群から選択された少なくとも１つの再酸化防止剤と、酸化銅（Ｉ）と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高い離型性を有し、かつ簡単に再現可能であるとともに、微細パターンの形状保持性に優れたインプリント用モールドおよびその製造方法、並びに微細構造の製造方法を提供することである。
【解決手段】微細パターン２を表面１ａに有する表面層１と、この表面層１の裏面１ｂを支持する支持層５とを備え、表面層１が紫外線硬化性官能基を有する紫外線硬化型側鎖結晶性ポリマーからなるインプリント用モールド１０およびその製造方法である。モールド１０を用いて微細構造を製造する方法である。 （もっと読む）

【課題】樹脂のパターン形成部に混入する気泡を減少させつつ、パターン形成部の欠陥の発生を抑えることが可能なインプリント装置を提供する。
【解決手段】本発明は、基板５上の未硬化樹脂５２とモールド３とを互いに押し付けて、基板５上に樹脂５２のパターンを形成するインプリント装置１に係る。ここで、モールド３は、基板５に対向する側の中央部に、樹脂５２と接触する凹凸パターン３ｃが形成される平板部３ａと、外周側に壁部３ｂとを有する箱形の形状を有する。このインプリント装置１は、壁部３ｂの垂直面３ｄを引き付けて保持する保持部２４を有するモールド保持装置４を備え、該モールド保持装置４は、平板部３ａの中央部と壁部３ｂとの間の形状を変形させるモールド変形機構５０を備える。 （もっと読む）

【課題】インプリント用モールドの製造において微細なモールドパターンを高いパターン精度で形成することができ、しかも基板をエッチング加工するために形成した薄膜パターンを最終的にモールドパターンにダメージを与えないように除去できるインプリント用モールドの製造方法を提供する。
【解決手段】透光性基板１上に、ハフニウムおよびジルコニウムのうちの少なくとも一方の元素を含有する材料で形成された下層３と、該下層の酸化を抑制する材料で形成された上層４の積層膜からなる薄膜を有するマスクブランクを用いて、前記薄膜をエッチング加工して薄膜のパターンを形成する工程と、該薄膜のパターンをマスクとして透光性基板１をエッチング加工してモールドパターンを形成する工程と、該モールドパターンを形成した後、薄膜の下層を、塩素、臭素、ヨウ素、およびキセノンのうちいずれかの元素とフッ素との化合物を含む非励起状態の物質に接触させて除去する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】 複雑な形状のエンボスロールを容易に製作することが可能であり、メンテナンスも容易であり、また製作コストも低くすることが可能なエンボスロールを提供することを課題とする。
【解決手段】 ロール軸に複数のエンボスリングが嵌め込まれており、前記エンボスリングは基体リングと前記基体リングの外周面に配置されたエンボス部材とからなり、前記エンボス部材の外周面に凸部及び／又は凹部が形成されていることを特徴とするエンボスロール。 （もっと読む）

【課題】インプリント時の合わせずれについて精度の高い補正を可能とするナノインプリント法を提供すること。
【解決手段】実施の形態に係るナノインプリント法は、テンプレートを用いてインプリントし、第１の被転写基板上にパターンを形成する工程と、前記パターンの前記第１の被転写基板に対する合わせずれを計測する工程と、計測した前記合わせずれに基づいて合わせずれの補正を行ない、前記テンプレートから本番用テンプレートを作製する工程と、前記本番用テンプレートを用いてインプリントし、第２の被転写基板上にパターンを形成する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】ナノ構造体作製用型体の陽極酸化皮膜の膜厚を調整することで、耐傷性や耐久性等を有するナノ構造体作製用型体とそのナノ構造体作製用型体の製造方法を提供すること。
【解決手段】ナノ構造を利用したナノ構造体を作製するための型体であって、アルミニウム材料の表面に陽極酸化皮膜が形成されたものであり、該陽極酸化皮膜は、少なくともある一の方向に対し平均周期５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下でポアを有し、該ポアは、テーパー形状部とその下部にある細孔形状部とからなり、該テーパー形状部は、陽極酸化皮膜の表面では広く開口しており、深部に入るに従って徐々に細くなっていくテーパー形状となっており、該細孔形状部は、実質的に等しい径の細孔形状となっており、該テーパー形状部を有するテーパー形状層の下側に連続して細孔形状部を有する細孔形状層を有することを特徴とするナノ構造体作製用型体。 （もっと読む）

【課題】微細な転写用凹凸構造と、当該転写用凹凸構造の凹部の深さ（凸部の高さ）を正確に測定するための測定用凹凸構造とを備えているにもかかわらず、ステップ・アンド・リピート法により転写用凹凸構造のみを被加工物に転写することのできるナノインプリント用モールド及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基材の基部上及び凸構造部上にエッチング用マスク材料膜を形成し、基部上のマスク材料膜に測定用凹部形成用の第１開口パターンを形成し、凸構造部上のマスク材料膜に転写用凹部形成用の第２開口パターンを形成し、第１及び第２開口パターンが形成されたマスク材料膜をマスクとしてエッチングして、基部における凸構造部側の面への測定用凹部の形成及び凸構造部への転写用凹部の形成を行う。この測定用凹部の開口面の短手方向長さは、非破壊式測定装置を用いて測定用凹部の深さを測定可能な長さである。 （もっと読む）

【課題】テンプレートの表面に離型剤を適切に成膜しつつ、テンプレート処理のスループットを向上させる。
【解決手段】テンプレートの表面に離型剤を成膜するテンプレート処理では、先ず、塗布ユニットにおいて、テンプレートの表面に紫外線を照射し、当該テンプレートの表面を洗浄する（工程Ａ２）。続いて、塗布ユニットにおいて、テンプレートの表面にテンプレートの表面に紫外線を照射しながら、当該テンプレートの表面に離型剤を塗布する（工程Ａ３）。その後、リンスユニットにおいて、離型剤をリンスして、当該離型剤の未反応部を除去する（工程Ａ４）。こうしてテンプレートの表面に離型剤が所定の膜厚で成膜される。 （もっと読む）

【課題】表面が曲面形状または凹凸 形状を有する基板上に、平滑性の高い被エッチング層と熱反応型レジスト材料を積層した積層体を設けることを目的の一つとする。
【解決手段】曲面形状または凹凸形状の基板上に、フロン系ガスを用いたドライエッチング処理に用いられ、且つ元素群Ｔａ、Ｍｏ、Ｎｂから少なくとも１種類を含む元素及びその酸化物、窒化物、硫化物、炭化物、セレン化物、シリサイドのいずれかから選択されるドライエッチング材を含むドライエッチング層と、前記ドライエッチング層の上に熱反応型レジスト層とを積層する。 （もっと読む）

【課題】強度平均値とワイブル係数が高くて安定した機械的強度特性を有する電解質シートを提供するものである。
【解決手段】本発明の固体酸化物形燃料電池用電解質シートは、少なくとも片面に複数の陥没及び／又は凸起を有し、前記陥没及び凸起の基底面形状が、円形、楕円形または頂点部の形状が曲率半径０．１μｍ以上の曲線である角丸多角形であり、及び／又は、その立体形状が半球形、半楕円球形または頂点及び稜の断面形状が曲率半径０．１μｍ以上の曲線である多面体であり、前記陥没及び前記凸起の基底面の平均円相当径が２５０μｍ超１００００μｍ以下、前記陥没の平均深さ及び前記凸起の平均高さが５μｍ以上２００μｍ以下であり、かつ、平均厚さが１００μｍ以上４００μｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）