【課題】高精度のレジストパターンを得るとともに、レジストへの電子線の描画時間を短縮する。
【解決手段】ナノインプリントモールドの製造方法は、基材１０１上に、凹凸パターンが形成されるパターン領域１０１Ａと非パターン領域１０１Ｂとを設定し、少なくとも前記非パターン領域１０１Ｂ上にポジ型レジスト１０２からなるポジ型レジスト層を形成して、該ポジ型レジスト層に露光、現像を行いポジ型レジストパターン１０３を形成した後、前記パターン領域１０１Ａ上にネガ型レジスト１０４からなるネガ型レジスト層を形成して、該ネガ型レジスト層に電子線により露光、現像を行いネガ型レジストパターン１０５を形成し、前記ネガ型レジストパターン１０５及び前記ポジ型レジストパターン１０３をエッチングマスクとして、前記基材をエッチングして前記凹凸パターン１０８を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】インプリントプロセスにより形成される凹凸パターンを利用し、その凹凸パターンを、アルミニウムやシリコン等の基材材料に電気化学プロセスにより細孔形成を行う際の細孔発生開始位置の制御を行うためのマスクとして使用することで規則的なホールアレー構造を効率良く確実に形成できるようにした手法を提供する。
【解決手段】基材上に設けられたマスクにインプリントプロセスにより凹凸パターンを形成し、形成された凹凸パターンの凹部に対応した基材位置に、電気化学的な手法により細孔形成を行うことを特徴とする、細孔配列が制御された多孔質構造材料の製造方法。 （もっと読む）

【課題】２つの連続するチップ間の距離を最小化する、所定波長によって支援されるナノインプリントリソグラフィー用のモールドを設計する。
【解決手段】本発明は、所定波長によって支援されるナノインプリントリソグラフィー用のモールドに関する。このモールドは、第１材料製の層を備え、この層は、第１面上に第２の剛体材料製の層を含み、第１面と反対側の面上に第３の剛体材料製の層を含み、第２の剛体材料製の層は、層内にマイクロメートルオーダー又はナノメートルオーダーのパターンを有するｎ個の構造ゾーン（ｎ≧１）が形成され、第３の剛体材料製の層は、層内に、ｎ個の構造ゾーンに対向するｎ個のくぼみが形成され、ｎ個のくぼみは第４材料で充填され、これによりｎ個の部分領域が形成され、所定波長λ_detにおける第３材料の層の透過率は、ｎ個の部分領域いずれの透過率よりも低く、第１、第２、及び第３材料の層の所定波長λ_detにおける透過率は、これらの層を通る所定波長λ_detの光の透過率が、ｎ個の部分領域の任意の１つ、第１材料製の層、及び第２材料製の層を通る光の透過率よりも小さいような透過率である。
本発明は、こうしたモールドを製造する２つの方法にも関する。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリントにて有機材料層に離間して転写される凹部の深さを異ならせる。
【解決手段】互いに高さの異なる凸部Ｔ１、Ｔ２がメサ領域に設けられたテンプレート１をマスク材３に押し当てることにより、互いに深さの異なる凹部Ｈ１、Ｈ２をマスク材３に形成し、互いに深さの異なる凹部Ｈ１、Ｈ２が形成されたマスク材３をマスクとして基板２のエッチングを行うことで、開口部Ｋ１、Ｋ２を形成する。 （もっと読む）

第１のインプリント層を第１のポリマー層の頂面上に提供するステップと、構造をインプリントして中間スタンプを得るステップとを備える中間ポリマースタンプから金属スタンプを得るための方法及びプロセス。インプリントされたポリマーが非導電性である場合には、シード層を得るために電性層が構造の頂面に提供され、金属スタンプを得るために中間ポリマースタンプの頂面に金属をメッキし、次いで中間スタンプを金属スタンプから分離する。
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【課題】エンボス版の製造時等にテクスチュアの繋ぎ目を目立たなくするテクスチュアデータ処理装置等を提供する。
【解決手段】テクスチュアデータ処理装置１は、テクスチュアの高さ情報を画素値で表す画像データであるハイトデータ６７を切り出し範囲６５で切り出し、切り出し範囲６５のハイトデータ６７のテクスチュアデータ６６に含まれる制御点６３を抽出する制御点抽出部２７と、切り出し範囲６５の制御点６３−１を、制御点６３−４の隣であって切り出し範囲６５の外に付加し、付加された制御点６３−１’を含む制御点６３により生成されるテクスチュアデータ６６に基づくハイトデータ６７を生成する制御点付加部２８と、ハイトデータ６７の画素値に応じて、ハイトデータ６７−１でハイトデータ６７−２を上書きし、ハイトデータ６７−３でハイトデータ６７−４を上書きするテクスチュア上書き部２９と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】成形型の型面に離型剤を塗布することなく、離型性を向上させ、また、感光性樹脂自体の樹脂組成を変えることなく、同じ照度・照射時間でありながら感光性樹脂の硬化性を向上させて結果として離型性を向上させ、欠陥のない光学部品を得ることができる光学部品の製造方法を提供する。
【解決手段】光透過性基板２上に供給された感光性樹脂１Ａに成形型３を型押しした状態で、上記光透過性基板２を透して光照射し光学部品１を製造するに際し、上記成形型３として、型面３ａでの、波長３６５ｎｍの光の反射率が、４６％以上に設定されているものを用いる。 （もっと読む）

【課題】ＳＥＭ観察が可能であり高スループットで検査を行うことができ、かつ、高精細なパターン形成が可能な光インプリント用のモールドと、これを用いた光インプリント方法を提供する。
【解決手段】光インプリント用のモールド１を、透明基材２と、この透明基材２の一方の面２ａに位置し所望の凹凸構造を有する透明導電パターン層４と、透明基材２の他方の面２ｂに位置する透明導電裏面層７と、透明導電パターン層と前記透明導電裏面層とを電気的に接続する表裏接続部材８と、を備えたものとする。 （もっと読む）

本発明の実施形態は、大面積の基体のナノパターン形成において有用である方法および装置に関し、可動式のナノ構造化されたフィルムは放射線感受性材料をイメージングするために用いられる。ナノパターン形成技術は近接場フォトリソグラフィーを利用し、ナノ構造化されたフィルムは、放射線感受性層に達する光度を調節するために用いられる。近接場フォトリソグラフィーはエラストマー位相シフトマスクを利用してもよく、または、表面プラズモン技術を用いてもよく、ここで可動式のフィルムは金属ナノホールまたは金属ナノ粒子を含む。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、複雑なエンボス構造を有するエンボス加工装置、その製造方法及び導光板のエンボス成形方法を提供することである。
【解決手段】本発明に係るエンボス加工装置は、ローラーと、前記ローラーの円周面に巻き取って接合され、且つ電鋳によって形成されるエンボス層と、を備える。前記エンボス層の外表面には、エンボス構造が形成されている。又、本発明は、エンボス加工装置の製造方法及び導光板のエンボス成形方法にも関する。 （もっと読む）

【課題】スリーブのマンドレルへの装着性が良好であり、かつスリーブのがたつきが抑えられたロールスタンパを提供する。
【解決手段】マンドレル１０と、マンドレル１０の先端側から基端側に向かってマンドレル１０の外周に着脱可能に装着されるスリーブ４０とを有し、スリーブ４０の外周面５０に形成された微細凹凸構造を被転写体に転写するロールスタンパ１であって、マンドレル１０が、マンドレル１０の先端側にあるスリーブ４０の開口部（小径開口部４２）に対応する部分（小径部１８）の外径よりも、マンドレル１０の基端側にあるスリーブ４０の開口部（大径開口部４６、フランジ受け部４８）に対応する部分（大径部２２、フランジ部２４）の外径が大きくされ、スリーブ４０とマンドレル１０との隙間が、スリーブ４０の両端の開口部よりも、これらの間のスリーブ中間部４４において広くされている。 （もっと読む）

【課題】光学素子製造用ナノインプリントモールドを高い精度で製造でき、かつ、大面積化にも対応できる製造方法を提供する。
【解決手段】基板１の一方の面に感光性レジスト４を塗布し、この感光性レジス４トにレーザ描画を行い、その後、現像を施して、所望の開口パターン５ａを有するマスクパターン５を形成し、このマスクパターン５を介して基板１を所望の深さまでエッチングしてモールド１１とする。 （もっと読む）

【課題】賦形型が樹脂で目詰まりせず、影も観察されず、且つ泡の巻き込みもない反射防止フィルムの製造に使用する成形用スタンパーを提供する。また、その成形用スタンパーを用いた反射防止フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】可視光領域の波長より小さい周期からなる突起を有し且つその突起の高さが１５０ｎｍ〜４５０ｎｍの反射防止層を形成するための賦形型２３が形成された賦形領域Ｒ１と、その賦形型２３が形成されていない非賦形領域Ｒ２とを有する四辺形のスタンパーであって、非賦形領域Ｒ２が、四辺形の一辺に沿って所定の幅Ｌ３で設けられ、賦形領域Ｒ１に引き延ばす硬化性樹脂１４を載せるために用いられる成形用スタンパー２により上記課題を解決する。さらに、この成形用スタンパー２を用いて反射防止フィルム１０を製造する。 （もっと読む）

【課題】インプリントリソグラフィに使用するモールドの凹部の深さを均一にしつつ、モールド面内の任意位置の一定面積におけるモールド凹部の容積を均一化し、製造コストを低減した上で、優れたモールド特性を実現する。
【解決手段】インプリントリソグラフィに使用するモールドを、マスクを用いたエッチングにより製作するモールド製作方法において、モールド面上に所望のパターンを形成するための第１マスクと、第１マスクを覆う第２マスクとを用いてエッチングを行い、第２マスクは、一定の面積内において、モールド面上に形成するパターンの開口率が高いほど、第１マスク開口部を覆う第２マスクの厚みが大きくなるよう設定され、エッチング時、第１マスクによるモールドのエッチングが開始時期を遅延することにより、パターンの開口率が高いほど、エッチングにより形成されるモールド凹部を一定領域内で均一に浅くし、前記一定面積におけるモールド凹部の容積を均一化する。 （もっと読む）

【課題】テンプレートの表面に離型剤を適切に成膜しつつ、テンプレート処理のスループットを向上させる。
【解決手段】テンプレートの表面に離型剤を成膜するテンプレート処理では、先ず、洗浄液槽に貯留された洗浄液中に複数のテンプレートを浸漬させ、当該テンプレートの表面を洗浄する（工程Ａ２）。その後、離型剤槽内に貯留された離型剤中に複数のテンプレートを浸漬させ、当該テンプレートの表面に離型剤を付着させる（工程Ａ３）。その後、テンプレート上の離型剤を乾燥させる（工程Ａ４）。その後、アルコール槽内に貯留されたアルコール中に複数のテンプレートを浸漬させ、当該テンプレートの表面に離型剤を密着させ、さらに離型剤の未反応部分を除去する（工程Ａ５）。その後、テンプレート上のアルコールを乾燥除去する（工程Ａ６）。こうしてテンプレートの表面に離型剤が所定の膜厚で成膜される。 （もっと読む）

【課題】熱ナノインプリントリソグラフィ用モールドを提供する。
【解決手段】第１主面２２、および第２主面２３と、スルーキャビティ２４を有し、基板２１と、熱伝導層３３と、任意で、前記熱伝導性機械的支持層３３の下方に位置する絶縁層と、前記第２開口２８の上方３２における前記第２の膜３０の領域内において前記第２の膜３０の他方の側３５に位置する加熱手段３４と、前記加熱手段３４を覆い、前記第２の膜３０を少なくとも部分的に覆う絶縁断熱層３６と、前記第２開口２８の上方における前記絶縁断熱層３６の領域内において前記絶縁断熱層３６上に位置するインプリントパターン３７と、前記加熱手段３４に電流を供給するための手段３８とを備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ナノインプリントモールドを光硬化樹脂からなる樹脂層から離型する時の樹脂層やモールドの破損を防止するパターン形成方法等を提供する。
【解決手段】本発明に係るナノインプリントによるパターン形成方法は、基材上に光硬化樹脂からなる樹脂層を形成し、凹凸パターン部を有するモールドを前記樹脂層に押し当て、前記モールドの外周に向かって光の照射量が大きくなるように、前記樹脂層に光を照射し、前記樹脂層に光を照射した後、前記樹脂層から前記モールドを離型することを特徴とするナノインプリントによるパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】凹凸の寸法を補正して高精度の寸法を実現し、また、同一のマザーテンプレートから異なる寸法を有する複数の複製テンプレートを効率的に作製可能なテンプレート、テンプレートの製造方法、及び、パターン形成方法を提供する。
【解決手段】被処理基板５０の上に設けられた転写層５１に押し付けられることにより転写層にパターンを転写するためのテンプレートが提供される。テンプレート１１０は、第１型１０を備え、第１型は、第１主面１１ａに第１凹凸１０ｄｐが設けられた第１基体１１と、第１凹凸を覆い第１基体と同じ材料からなる第１膜１２と、を有する。 （もっと読む）

【課題】光学素子を成形する成形型のマスタ作成の際に、材料のはみ出しを防止でき、高い精度で転写できるマスタ型及びその作成方法を提供する。
【解決手段】基板部１の表面に光学素子の形状を有する成形部が成形された成形体を作成するため、成形体の形状に一致するマスタ型であって、この型は、マスタを構成する基板３１の表面に、樹脂からなる造形材料を変形させて成形部に対応する造形部の形状を形成する型面を備え、該型面は、光学素子の光学面に相当する形状を転写する転写部２１と、基板３１に対面する平面からなる平面部２０ａと、転写部２１と平面部２０ａの間で転写部２１を囲んで形成される凹部であって、転写部２１と基板３１の表面との間の空間に収納しきれない造形材料を収納する空間を構成する樹脂収納凹部２２とからなり、転写部２１の表面の樹脂１０Ｒに対する濡れ性が、樹脂収納凹部２２の表面の樹脂１０Ｒに対する濡れ性より高い。 （もっと読む）

【目的】荷電粒子ビーム描画技術を使って、断面形状がなだらかな曲線或いは傾斜した線で構成されるような凹凸面となるパターンが形成されたナノインプリント用のテンプレートを製造する方法を提供することを目的とする。
【構成】ナノインプリント用のテンプレートの製造方法は、電子ビーム２００を用いて、レジスト膜にパターン寸法を変更しながら多重描画する工程（Ｓ１０４）と、パターン寸法を変更しながら多重描画されたレジスト膜を現像する工程（Ｓ１０６）と、現像された結果得られたレジストパターンを用いて、テンプレートの型を形成する工程（Ｓ１０８）と、形成された型に、樹脂を充填する工程（Ｓ１１６）と、充填された樹脂を硬化させた後に、型を外す工程（Ｓ１１８）と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）