【課題】モールドをレジスト層から引き剥がす際にかかる応力を抑制することでレジスト層やモールドの損傷を抑制する剥離板、モールド構造体及びインプリント方法を提供。
【解決手段】本発明のインプリント方法は、加熱すると屈曲する剥離板を備えるモールド構造体を、加工対象物の基板上に形成されたインプリントレジスト組成物からなるレジスト層に押圧して前記モールド構造体に形成された凹凸パターンを転写する転写工程と、剥離板を加熱して第１の金属層を熱膨張させ、前記モールド構造体の端部を押圧方向と反対方向に屈曲させて前記レジスト層と前記モールド構造体とを剥離する工程と、を少なくとも含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】テンプレートの表面に離型剤を適切に成膜しつつ、テンプレート処理のスループットを向上させる。
【解決手段】テンプレートの表面に離型剤を成膜するテンプレート処理では、先ず、洗浄ユニットにおいて、テンプレートの表面を洗浄する（工程Ａ２）。その後、塗布ユニットにおいて、テンプレートの表面に離型剤を塗布する（工程Ａ３）。その後、光照射ユニットにおいて、テンプレート上の離型剤に３５０ｎｍ〜２５００ｎｍの波長の光を照射して、テンプレートの表面に離型剤を密着させる（工程Ａ４）。その後、リンスユニットにおいて、離型剤をリンスして、当該離型剤の未反応部を除去する（工程Ａ５）。こうしてテンプレートの表面に離型剤が所定の膜厚で成膜される。 （もっと読む）

【課題】高い防眩機能を示す防眩フィルムの製作に有用な、表面に微細な凹凸形状を有する金型の製造方法を提供し、その防眩フィルムを製造する方法を提供する。
【解決手段】金型用基材の表面に銅めっきまたはニッケルめっきを施すめっき工程と、該めっき工程によって銅めっきまたはニッケルめっき３が施された表面を切削加工および／または研磨加工することによって表面粗さが０．１μｍ以下の鏡面とする鏡面加工工程と、鏡面加工された面に複数の微細凹部１８を切削加工によって形成する微細凹部形成工程と、微細凹部１８が形成された面に保護膜１９を形成する保護膜形成工程とを含む、金型の製造方法であって、上記微細凹部形成工程における切削加工が、切削される微細凹部間の平均最隣接距離、切削深さが特定の条件を満たす金型の製造方法、およびそれで得られた金型を用いた防眩フィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】優れた防眩性能を示し、白ちゃけによる視認性の低下を防止することができるとともに、高精細の画像表示装置に適用した場合においても、ギラツキを発生せずに高いコントラストを発現することができる防眩フィルムおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】透明支持体上に積層された、凹凸表面を有する防眩層とを備え、空間周波数０．０１６μｍ^-1における該防眩フィルムの複素透過関数のエネルギースペクトルＴ₁²と、空間周波数０．１５５μｍ^-1におけるエネルギースペクトルＴ₂²との比Ｔ₁²／Ｔ₂²が６０００以下であり、空間周波数０．１０８μｍ^-1におけるエネルギースペクトルＴ₃²と、空間周波数０．１５５μｍ^-1におけるエネルギースペクトルＴ₂²との比Ｔ₃²／Ｔ₂²が３以上２０以下である防眩フィルム、その製造方法および当該防眩フィルムの製造方法に好適に用いられる金型の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】より小径かつ小ピッチのナノパターンを形成することができるナノ金型の製造方法の提供。
【解決手段】ナノインプリント法に用いられるナノ金型の製造方法であって、Ａｌ_２Ｏ_３基板２０上に非晶質炭素材料のＤＬＣから成る被エッチング層２１を形成する第１の工程と、集束イオンビーム援用化学気相成長により、被エッチング層２１上に薄膜パターン２２を形成する第２の工程と、薄膜パターン２２をマスクとして、酸素ガスを用いたドライエッチングにより被エッチング層２１をエッチングし、複数のナノ凸パターン２００が形成された成型転写面を形成する第３の工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】被加工物の意図しない部位への露光を確実に抑制できるナノインプリント用モールドを簡便に製造するための製造方法を提供する。
【解決手段】基材加工工程にて、凸構造部４に所望の開口６ａをもつ遮光性エッチングマスク６が配設され、この開口に対応した凹部５が形成されている基材を作製し、レジスト層形成工程にて、ポジ型感光性レジスト膜２１を形成し、開口６ａの開口幅よりも大きな波長の光を基材２側から照射して遮光性エッチングマスク６をマスクとしてポジ型感光性レジスト膜２１を露光し、現像してレジスト層２２を形成し、リフトオフ工程にて、基材に遮光膜８を形成し、その後、レジスト層２２を剥離して、凸構造部４の側面および凸構造部４の周囲の基部３のみに遮光膜８を残し、除去工程にて、凸構造部から遮光性エッチングマスクを除去する。 （もっと読む）

【課題】インプリント可能な媒体がアライメントマークを充填することを防止するアライメントマークを備えたインプリントリソグラフィテンプレートを提供する。
【解決手段】インプリントリソグラフィテンプレートが開示される。ある実施形態では、テンプレートはインプリント可能な媒体の層をインプリントするパターン付領域と、インプリントテンプレートを整列させる際に使用するアライメントマークであって、インプリントテンプレートがインプリント可能な媒体をインプリントする時にインプリント可能な媒体がアライメントマークを充填することを防止するように構成されたアライメントマークとを含む。 （もっと読む）

【課題】基板との密着性が良好であり、金属製モールドからの除去が容易な樹脂モールドを用いて、金属製モールドを製造する。
【解決手段】金属製モールドの製造方法は（Ｉ）（ａ）グリシジル基を含有するビニルモノマーから導かれる構成単位と（ｂ）含有しない構成単位とを含有すると共に、架橋剤から導かれる構成単位を０〜１０重量部含有する樹脂（Ａ）を基板上に塗布し、樹脂層を形成する工程と、（ＩＩ）前記樹脂層表面にマスターモールドを熱転写して樹脂モールドを製造する工程であって、樹脂層が前記樹脂（Ａ）のエポキシ価からの変化量５％以下のエポキシ価である樹脂モールドを製造する工程と、（ＩＩＩ）前記樹脂モールド上に金属層を形成する工程と、（ＩＶ）前記金属層の形成された樹脂モールドを、ガラス転移温度以上の温度に加熱するか、または溶剤に浸漬するで、分離して金属製モールドを得る工程とを、含む。 （もっと読む）

【課題】微細パターンを硬化樹脂の表面に有する子モールドまたは物品の製造方法であって、硬化樹脂の表面の離型性や防汚性を向上できる製造方法を提供する。
【解決手段】波長２４５〜２６５ｎｍの光のモル吸光係数（ε）が３０以上である光硬化性組成物２０を親モールド１０の表面に接触させる工程と、親モールド１０の表面に光硬化性組成物２０を接触させた状態で光硬化性組成物２０に光を照射し、光硬化性組成物２０を硬化させて硬化樹脂とする工程と、硬化樹脂から親モールドを分離して子モールド（物品）を得る工程と、子モールド（物品）の表面に、波長２５０〜４００ｎｍの光の照度が６５０ｍＷ／ｃｍ^２以上であり、かつ波長２５０ｎｍ以下の光の照度が３５０ｍＷ／ｃｍ^２以下である光源から、波長３６５ｎｍの光の光量が４５０ｍJ／ｃｍ^２〜５００００ｍJ／ｃｍ^２となるように光を照射する工程とを有する子モールド（物品）の製造方法。 （もっと読む）

【課題】光学フィルム製造用ロールに直接的に線形又は非線形レンズ形状を形成することができ、レンズの模様を多様化することができ、また、レンズ形状の曲率を任意に調節でき、曲率を半球以上に深く形成できる光学フィルム製造用ロールのレンズ形状の製造方法及びそれによりレンズ形状の形成された光学フィルム製造用ロールを提供する。
【解決手段】光学フィルム製造用ロールのレンズ形状の製造方法は、銅（Ｃｕ）又はニッケル（Ｎｉ）で表面メッキされたメッキ層を含む円筒形ロールに樹脂塗膜を形成する第１工程と、前記円筒形ロールの前記樹脂塗膜の表面をのみ（chisel）で打撃して、予備レンズ形状を形成する第２工程と、前記予備レンズ形状の形成された前記円筒形ロールをエッチング液でエッチングする第３工程と、前記樹脂塗膜を除去する第４工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】マイクロコンタクトプリントにおいて被加工物に高い精度でパターン転写をすることができるスタンプと、このスタンプを製造するためのマスター版と、これらの製造方法、および、マイクロコンタクトプリント法による高精度のパターン形成方法を提供する。
【解決手段】マイクロコンタクトプリント用スタンプ製造用のマスター版１を、基板２と、この基板２の一方の面２ａに所望のパターンで配設された樹脂凸部３と、この樹脂凸部３の非形成部位の基板２上に配設された平坦突出部４と、を備えたものとし、平坦突出部４の周縁壁部４ａと樹脂凸部３の側壁３ａとが微小間隙５を介して離間したものとする。 （もっと読む）

【課題】テンプレートの表面に離型剤を適切に形成する。
【解決手段】テンプレート処理装置１は、テンプレート搬入出ステーション２と処理ステーション３とを一体に接続した構成を有している。テンプレート搬入出ステーション２は、複数のテンプレートＴを保有可能で、且つ処理ステーション３に対してテンプレートＴを搬入出する。処理ステーション３は、搬送ユニット２０を有し、処理ブロックＧ１〜Ｇ４内に配置されている各種処理ユニットにテンプレートＴを搬送する。処理ブロックＧ１〜Ｇ４は、テンプレートＴの表面に離型剤を成膜する。処理ブロックＧ１、Ｇ２は、テンプレートＴの外側領域の離型剤に紫外線を照射して、当該紫外線の離型効果を弱める離型剤改質ユニットをそれぞれ有している。 （もっと読む）

【課題】複数のテンプレートに対して離型剤を連続的に成膜する。
【解決手段】テンプレート処理装置１は、テンプレート搬入出ステーション２と処理ステーション３とを一体に接続した構成を有している。テンプレート搬入出ステーション２は、複数のテンプレートＴを保有可能で、且つ処理ステーション３に対してテンプレートＴを搬入出する。処理ステーション３は、搬送ユニット２０を有し、処理ブロックＧ１〜Ｇ４内に配置されている各種処理ユニットにテンプレートＴを搬送する。処理ブロックＧ１、Ｇ２は、テンプレートＴに離型剤を塗布する塗布ユニットと、テンプレートＴ上の離型剤をリンスするリンスユニットとをそれぞれ有している。処理ブロックＧ３、Ｇ４は、テンプレートＴの表面を洗浄する洗浄ユニットと、テンプレートＴの温度を調節する温度調節ユニットと、テンプレートＴを焼成する加熱ユニットとを有している。 （もっと読む）

【課題】テンプレートの表面に離型剤を適切に形成する。
【解決手段】テンプレート処理装置１は、テンプレート搬入出ステーション２と処理ステーション３とを一体に接続した構成を有している。テンプレート搬入出ステーション２は、複数のテンプレートＴを保有可能で、且つ処理ステーション３に対してテンプレートＴを搬入出する。処理ステーション３は、搬送ラインＡに沿ってテンプレートＴを搬送する複数の搬送ローラを備えている。搬送ラインＡには、搬送中のテンプレートＴに対して所定の処理を行う、前洗浄ユニット２１、塗布ユニット２２、加熱ユニット２３、温度調節ユニット２４、リンスユニット２５、離型剤改質ユニット２６、後洗浄ユニット２７がテンプレートＴの搬送方向に順に配置されている。離型剤改質ユニット２６では、テンプレートＴの外側領域の離型剤に紫外線を照射して、当該紫外線の離型効果が弱められる。 （もっと読む）

【課題】優れた防眩性能を示しながら、白ちゃけによる視認性の低下を防止でき、高精細の画像表示装置に適用した場合においても、ギラツキを発生せずに高いコントラストを発現することができる防眩フィルムの製造方法、ならびに、当該製造方法において好適に用いられる金属金型の製造方法を提供する。
【解決手段】２種以上のセグメントからなるブロック共重合体をモデルとして、計算機シミュレーションによりブロック共重合体のミクロ相分離構造を計算する工程と、該ミクロ相分離構造に基づいて、エネルギースペクトルが空間周波数０．０２５〜０．１２５μｍ^-1の範囲内において極大値を示すミクロ相分離パターンを作成する工程と、該ミクロ相分離パターンを用いて、透明基材上に凹凸表面を形成する工程とを含む防眩フィルムの製造方法、および当該製造方法において好適に用いられる金属金型の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 繊維の微細な形状の表現を可能とする織物データ生成装置、織物データ生成方法、プログラム、織物布地調エンボス版製造装置、織物布地調エンボス版製造方法、及び織物布地調シートを提供する。
【解決手段】 織物データ生成装置１の制御部１０は、３次元空間内に所定長さの線分を設定し、所定分節数に区切った各ノードの端点を所定の揺らぎ幅内にランダムに揺らすことにより繊維データを定義する。また複数の繊維データを所定の円柱または円錐台内に略平行に配置し、各繊維データの各線分端点を所定角度だけ回転させて糸データを生成する。制御部１０は複数の糸データを織物のたて糸及びよこ糸として夫々所定間隔で配置し、各糸データの表裏配置に基づいて該たて糸及びよこ糸の形状を変形する。更に、生成された織物形状データを２次元のハイトフィールドに変換し織物データとして出力する。 （もっと読む）

【課題】より微細なパターンを形成することができ、かつ安価に実施することができるナノインプリント用のスタンパの製造方法の提供。
【解決手段】（ａ）基板の表面に金属薄膜を形成する工程と、（ｂ）金属薄膜の表面にレジスト層を形成する工程と、（ｃ）電子線リソグラフィー法を用いてレジスト層に凹凸パターンを形成する工程と、（ｄ）レジスト層の凹凸パターンにならって金属薄膜をエッチングして、パターン状の金属マスクを形成する工程と、（ｅ）金属マスクにならって、基板に凹凸パターンを形成する工程とを少なくとも有し、工程（ｄ）において金属薄膜をサイドエッチングすることによって、工程（ｅ）において基板中に形成される凸部の幅が、工程（ｃ）で形成される凹凸パターンの凹部の幅よりも縮小されることを特徴とする、ナノインプリント用のスタンパの製造方法。 （もっと読む）

【課題】化学的、熱的および機械的なストレスに対して高い耐久性を有し、熱ＮＩＬおよび光ＮＩＬを含む種々のナノリソグラフィー技術に好適に用いることができるレプリカモールドおよび、簡便かつ安価にレプリカモールドを作製する方法を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）：


（式中、Ｘは−Ｙ−Ａで示され、複数のＸが存在する場合、Ｘは同一または異なっていてもよく、Ａはラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する基またはエポキシ基であり、Ｙは、主鎖が炭素、酸素およびケイ素よりなる群から選択される３〜１０個の元素からなる連結基である）で示されるＴ単位が複数個組み合わさって構成された重合性シルセスキオキサンを含む樹脂組成物を用いて、レプリカモールドを作製する。 （もっと読む）

【課題】描画時間を短縮することが可能な描画方法を提供する。
【解決手段】第１照射条件を用いて、第１エネルギから計算される第１照射量で基板上のレジスト膜に荷電粒子線を照射して、第１描画データのパターンを描画するステップと、第１照射条件より高速に同一面積を描画できる第２照射条件を用いて、レジスト膜の現像による残膜率が変化を開始するエネルギより小さな第２エネルギから計算される第２照射量でレジスト膜に荷電粒子線を照射して、第１描画データのパターンを含む第２描画データのパターンを描画し、レジスト膜の第１描画データのパターン部を選択的に溶解可能とするステップとを含む。第１エネルギと第２エネルギの和は、残膜率の変化が完了するエネルギよりも大きい。 （もっと読む）

【課題】使用時における平坦化が抑制される離型シートを提供することを目的とする。
【解決手段】離型シート１０は、基材１２と、電離放射線硬化樹脂からなり基材の両側にそれぞれ配置された第１樹脂層１４および第２樹脂層１６と、を有する。基材は、一方の側の表面に凹凸形状が形成されるとともに、他方の側の表面にも一方の側の表面の凹凸形状に対応した凹凸形状が形成されている。第１樹脂層１４および第２樹脂層１６は、基材の表面の凹凸形状に沿うようにして延びている。 （もっと読む）