【課題】モールドのパターン内部への樹脂充填性と、樹脂層に対するモールドの離型性を確保したパターン形成方法と、このパターン形成方法を利用したナノインプリント転写に使用するナノインプリントモールドとナノインプリント用転写基材とを提供する。
【解決手段】ナノインプリントモールド１を、基体２と、この基体２の一方の面２ａに位置する転写形状部３と、少なくとも転写形状部３上に位置する濡れ性変化層４とを備えたものとし、濡れ性変化層４は第１の波長の光を照射することによる水に対する接触角の減少と、第２の波長の光を照射することによる水に対する接触角の増加が可逆的に起こるものとする。 （もっと読む）

【課題】微細パターンを形成する際に生じるバリの高さを抑制することと、樹脂にパターン面を押し付ける際にモールドの基体部が樹脂に接触することを抑制することを両立することが可能なナノインプリント用モールドを提供する。
【解決手段】モールド１ａは、モールド基体部３とモールド本体部５とを備える。モールド本体部５の表面５Ｓは、ナノインプリント用のパターン５Ｐが形成されたパターン面５Ｓ１と、パターン面５Ｓ１の外縁５Ｓ１Ｘ、５Ｓ１Ｙに沿って設けられた副表面５Ｓ２とを有する。表面３Ｓと垂直な方向における副表面５Ｓ２からモールド基体部３の表面３Ｓまでの最長距離Ｈ５Ｓ２は、モールド基体部３の表面３Ｓと垂直な方向におけるパターン面５Ｓ１からモールド基体部３の表面３Ｓまでの距離Ｈ５Ｓ１よりも短く、これらの差Ｄ５Ｓは、ナノインプリント用のパターン５Ｐの深さよりも大きい。 （もっと読む）

【課題】電子線照射によるレジストパターンのドライエッチング耐性を向上させる手段において、酸素が存在する雰囲気中でも、レジストパターンの形状劣化を防止し、微細な転写パターンを形成することを可能とするナノインプリント用モールドの製造方法およびレジストパターンの形成方法を提供する
【解決手段】レジストパターン２を形成した後に、前記レジストパターンの上に、オゾンアッシングからレジストを保護する保護膜３を形成し、次に、大気中のように、酸素が存在する雰囲気中において、前記保護膜を介して前記レジストパターンに電子線４を照射し、その後、前記保護膜を除去してドライエッチング耐性が向上した前記レジストパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】樹脂部へのパターン転写の際に生じるバリに起因する悪影響を抑制することが可能なナノインプリント用モールドの製造方法等を提供する。
【解決手段】ナノインプリント用モールドの製造方法は、パターン５Ｐが形成された第１面５Ｓ１と、第１面５Ｓ１とは反対側の第２面５Ｓ２とを有し、紫外線が透過可能な材料からなるモールド本体部５を準備する工程と、モールド本体部５を固定するための表面３Ｓを有し、紫外線が透過可能な材料からなるモールド基体部３を準備する工程と、モールド本体部５の第２面５Ｓ２をモールド基体部３の表面３Ｓの一部に固定する工程とを備える。モールド本体部５において、第１面５Ｓ１から第２面５Ｓ２に向かう方向と垂直方向の幅が、一定、又は、第１面５Ｓ１から第２面５Ｓ２に向かうに従って減少する。 （もっと読む）

【課題】多段構造の寸法精度を向上したインプリントモールドの製造方法およびインプリントモールドを提供することを課題とする。
【解決手段】３次元の多段構造パターンを有するインプリントモールドの製造方法において、基板１１に酸化膜１２を形成する第１の工程と、第１の工程後に、感光性樹脂１４を基板１１に形成し、感光性樹脂１４は酸化膜１２を被覆する第２の工程と、感光性樹脂１４をマスクにして基板１１を選択的に除去して、基板１１に第１凹部パターン１５を形成する第３の工程と、感光性樹脂を除去した後、酸化膜１２をマスクにして基板１１を選択的に除去して、基板１１に第２凹部パターン１６を形成する第４の工程とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高速搬送によってエンボス形成した場合に発生する同伴エアーを低減させ、低速搬送時と同一形状を有するエンボスを形成する。
【解決手段】マットローラ３１と、フィルムＦをマットローラ３１と挟持して搬送することで、フィルムＦにエンボスを形成するエンボス形成ローラ３２と、マットローラ３１とフィルムＦとの間に発生する同伴エアーを緩和させるエアー緩和手段とを備え、エアー緩和手段を、表面粗さ（Ｒａ）が１．０μｍ≦Ｒａ≦１０μｍで規定されるマットローラ３１で構成した。 （もっと読む）

【課題】良好なスループットを維持できるように十分な光透過性を有すると共に、被転写体に対する微細パターンの転写精度に優れ、しかも繰り返し転写性にも優れるナノインプリント用樹脂スタンパ及びこれを使用したナノインプリント装置を提供する。
【解決手段】複数の重合性官能基を有する主成分としてのシルセスキオキサン誘導体と、複数の重合性官能基を有し、前記シルセスキオキサン誘導体とは別の重合性樹脂成分と、光重合開始剤とを含有する樹脂組成物の重合体からなる微細構造体層を、光透過性の支持基材上に備えるナノインプリント用樹脂スタンパ３であって、前記光重合開始剤は、前記シルセスキオキサン誘導体、及び前記重合性樹脂成分の合計の質量に対して、０．３質量％以上、３質量％以下であり、前記微細構造体層は、波長３６５ｎｍの光を８０％以上透過することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】多段構造の寸法精度を向上したインプリントモールドの製造方法およびインプリントモールドを提供することを課題とする。
【解決手段】３次元の多段構造パターンを有するインプリントモールドの製造方法において、第１基板１１を選択的に除去して第１凹部パターン１４を形成する工程と、この工程で第１凹部パターン１４が形成された第１基板１１に、第２基板１５を貼り合わせる工程と、第２基板１５を選択的に除去して第２凹部パターン１６を形成する工程とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】継ぎ目のない単粒子膜がロールを被覆した単粒子膜被覆ロールを簡便に製造できる単粒子膜被覆ロールの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の単粒子膜被覆ロールの製造方法は、ロール１１を水中に浸漬させる浸漬工程と、水面Ａに単粒子膜１２を形成する単粒子膜形成工程と、ロール１１を、その中心軸が鉛直方向に向いた状態で水面Ａ上に引き上げて、単粒子膜１２をロール１１の周面１１ａに移行させる移行工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】インプリント材料の充填速度を制御する。
【解決手段】実施形態のインプリント用のテンプレートは、一方の面に凹凸を有するパターンが形成された第１部材を備え、被加工基板上に塗布された光硬化性のインプリント材料に前記一方の面を接触させた状態で、前記第１部材の他方の面の上から照射された光により前記インプリント材料を硬化して前記パターンを前記インプリント材料に転写するインプリント用のテンプレートである。このテンプレートは、端部領域に第２部材が設けられている。前記第２部材の前記インプリント材料に対する接触角は、前記第１部材の前記インプリント材料に対する接触角より大きい。 （もっと読む）

【課題】生産性が高いモールドシートの製造方法を提供する。
【解決手段】複数のエンボスパターンが形成された転写面を有する転写シートを準備し、転写シートの転写面上に、シリコーン組成物を含有する未硬化層を形成する。未硬化層が形成された転写シートを巻き取りロール１０５に巻き取る。未硬化層が巻き取られた巻き取りロール１０５を熱キュア装置２００で熱処理する。このとき、未硬化層が熱硬化してモールドシートが製造される。 （もっと読む）

【課題】転写パターンの不良を低減するテンプレートの製造方法および半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】実施の形態のテンプレートの製造方法は、主面１１に凹凸を有するパターン１３０が形成され、パターン１３０をウエハ４上に形成されたレジスト材５に接触させてパターン１３０をレジスト材５に転写するインプリント処理に用いるテンプレート１であって、テンプレート１の少なくとも凹部１３２の底部１３２ａに荷電粒子を打ち込む工程を含む。 （もっと読む）

【課題】加工対象の表面の高さ分布に起因する微細パターンの形状のばらつきを低減させることが可能なナノインプリント用モールドを提供する。
【解決手段】ナノインプリント用モールド１は、モールド基体部３と、裏面５Ｂと、裏面５Ｂとは反対側のパターン面５Ｓとを有するモールド本体部５と、モールド基体部３の表面３Ｓと、モールド本体部５の裏面５Ｂとの間に固定された弾性体部７とを備える。モールド本体部５のパターン面５Ｓには、ナノインプリント用のパターン５Ｐが形成されており、弾性体部７の体積弾性率は、モールド本体部５の体積弾性率よりも小さい。 （もっと読む）

【課題】ダイヘッドから押出したシート状樹脂材料を押圧ロールと賦形ロールで狭圧して光学レンズシートを成形する際に、シート状樹脂材料の型入り向上、型崩れ防止を図り、高賦形率の光学レンズシートを得ることを可能とする。
【解決手段】賦形ロール1を、賦形ロールパターンa表面に低熱伝導性を賦与するために表面処理Kを施したロールとする。表面処理Kとは、例えばフッ素樹脂をはじめとした樹脂コーティング、セラミックコーティング、断熱塗料による被覆などである。この状態で樹脂材料Jを押出すダイヘッド3を転写部Pに近接する位置に移動させ、ダイヘッド3から転写部Pに樹脂材料Jを導入する。これにより、樹脂材料Jの流動性を最適化し、挟圧時の高充填型入れ、剥離時の型崩れ防止を図って安定して連続的に高賦形率の光学レンズシートJ1を得ることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】ＮＩＬにより効率良く且つ精度の良く大面積の凸部パターンの形成を可能とするテンプレートおよび製造方法、パターン形成方法、加工方法を提供する。
【解決手段】実施形態のテンプレート１０は、第１凹凸パターンに硬化剤を充填して硬化させることにより第１凹凸パターンを硬化剤に転写して硬化剤からなる第２凹凸パターンを被加工層上に形成するインプリントに用いるテンプレートである。このテンプレート１０は、基板の一面側に第１凹凸パターンを備える。第１凹凸パターンは、凹部の底面の高さ位置が略同一であり、凹部の底面からの高さが異なる２種類以上の凸部１１ｐａ、１１ｐｂを有する。 （もっと読む）

【課題】光インプリント後の被加工物との離型性に優れたナノインプリント用モールドを提供する。
【解決手段】ナノインプリント用モールド１を、基部３と該基部３の一方の面から突出する凸構造部４とを有する基材２と、凸構造部４の上面４ａに位置する転写形状部５と、凸構造部４の側面４ｂの周囲方向全域に位置する傾斜部６と、を備えたものとする。 （もっと読む）

【課題】親テンプレートからインプリント法により個別識別マークを備えたテンプレートを容易に作製する。
【解決手段】第１のテンプレートからインプリント法により第２のテンプレートを作製するテンプレート作製方法であって、第１のテンプレート上に形成された転写を希望する凹凸パターンに対応する被処理基板上のパターン形成領域に第１のレジストを塗布し、第１のテンプレート上のパターンの形成されていない領域に対応する被処理基板上のマーク形成領域に、所望するパターンとなるように第２のレジストを選択的に塗布する。レジストが塗布された被処理基板上に第１のテンプレートを密着させて、第１のテンプレートの凹部に第１のレジストを浸透させる。第１及び第２のレジストを硬化させ、硬化されたレジストをマスクに用いて被処理基板を加工する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、モールドの製造に複雑な工程を要することなく、モールド材と同じ材料からなるアライメントマークを直接光学的に識別することを可能とし、高いアライメント精度で位置合わせすることができるインプリント用モールド、アライメント方法、インプリント方法、およびインプリント装置を提供することを目的とするものである。
【解決手段】 ステップアンドリピート方式のインプリントにおいて、モールド側アライメントマークを、モールドの転写領域と同一面上であって、溝構造を隔てた位置に形成し、インプリントしようとしている被転写領域内の基板側アライメントマークではなく、前記被転写領域に対して上下、左右、対角に接する被転写領域内の基板側アライメントマークとアライメントすることにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】微細なパターンをレジスト層に高精度で描画できる描画方法、これを用いた原盤の製造方法、スタンパの製造方法及び情報記録ディスクの製造方法を提供する。
【解決手段】走査型電子顕微鏡による観察が可能な材料で構成されたレジスト層支持材３４と描画領域ＥＡにおいてレジスト層支持材３４を被覆し、且つ、内側非描画領域ＮＥＡ１及び外側非描画領域ＮＥＡ２の少なくとも一部においてレジスト層支持材３４を被覆しないようにレジスト層支持材３４の上に形成されたレジスト層３６とを備える被加工体３０を用意し、レジスト層支持材３４におけるレジスト層３６から露出する部分を走査型電子顕微鏡により観察しこの観察の結果に基づいて電子ビームの焦点の位置を調整して電子ビームをレジスト層３６に照射しレジスト層３６を所定の描画パターンで露光する。 （もっと読む）

【課題】非対称の形状をしたレンズを有するマイクロレンズシートの製造に用いられる成形型を製造する方法を提供する。
【解決手段】
母材５１にレジストを塗布して、マスク６５を形成する（ステップＳ２）。マスク６５に形成される開口６６の形状を設定する形状設定工程が行われる（ステップＳ３）。レーザが、設定された形状に基づいてマスク６５に照射され、複数の開口６６がマスク６５に形成される（ステップＳ４，Ｓ５）。ステップＳ３において設定される開口６６は、仮想分割線６６ｙにより分割される第１領域６６Ｒ及び第２領域６６Ｌを有する。仮想分割線６６ｙは、開口６６を線対称に分割する仮想二等分線６６ｘに直交する。第１領域６６Ｒの面積は、第２領域６６Ｌの面積よりも小さい。第１領域６６Ｒにおけるエッチング速度が、第２領域６６Ｌにおけるエッチング速度よりも小さくなるため、左右非対称の凹部６２が、銅めっき層６４に形成される。 （もっと読む）