【課題】微細構造形成用型および光学素子の製造方法において、被加工体の表面形状が変化しても、被加工体の表面に反射防止構造を容易かつ迅速に形成することができるようにする。
【解決手段】曲率を有する凹レンズ面１ａを備えるレンズ本体１の凹レンズ面１ａに凹凸形状の反射防止部を形成する微細構造形成用型５であって、反射防止部を転写する成形面部５ａと、成形面部５ａを湾曲可能に支持する基体部５と、基体部５を変形することにより成形面部５ａを湾曲させる空洞部６、環状空洞部７、および流体供給部８と、を備える表面加工装置１０を用いて、反射防止部を形成する。 （もっと読む）

【課題】ドットパターンを有する領域と，ドットパターンを有しない領域と，を備えるモールドを高精度で作成可能とする。
【解決手段】実施形態のモールドの製造方法は，第１の高分子に親和な基板上に，第２の高分子に対して親和な第１の層を形成する工程と，第１の層に，第１，第２の開口を形成する工程と，第２の開口内にレジストを充填，硬化する工程と，ブロックコポリマーを含む第２の層を形成，自己組織化する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】インプリント装置の精度を向上させることができるインプリントシステムおよびインプリントシステムのメンテナンス方法を提供する。
【解決手段】機能性液体を吐出させるノズルが形成されたノズルプレート２３Ａを具備する液体吐出ヘッド２４と、基板と液体吐出ヘッド２４とを相対的に移動させる相対移動手段と、基板の機能性液体が着弾した面に対して、モールドの凹凸パターンを転写する転写手段と、モールドを機能性液体に接触した状態で、機能性液体を硬化させる硬化手段と、ノズルプレート２３Ａの温度を制御する第１の温度制御手段４４、４６と、液体吐出ヘッド２４のノズルプレート２３Ａ以外の少なくとも一面の温度を制御する第２の温度制御手段４２、４８と、を備えることを特徴とするインプリントシステム、および、インプリントシステムのメンテナンス方法である。 （もっと読む）

【課題】高温加熱されたロールとの当たりよる欠陥を発生させることなくシート生地表面にエンボス模様を効率的に形成させることができる長尺材の製造方法を提供する。
【解決手段】加熱されたエンボスロール１１とその受けロール１２と間に、長尺材Ｓを通過させてエンボスロールのベース面１１ｂから立設するように形成された凸部１１ａを長尺材Ｓ表面を押圧することによって、長尺材表面にエンボス模様を形成させる長尺材の製造方法であって、
長尺材がエンボスロール１１を通過する際にエンボスロールのベース面が長尺材表面に接触しないようにする。 （もっと読む）

【課題】射出成形により微細構造パターンが表面に転写された成形品であって、微細凹凸の転写性に優れ、また寸法精度に優れた精密成形体を提供する。
【解決手段】下記（ｉ）〜（ｉｖ）を満たすプロピレン系樹脂を溶融して押出し、押出された樹脂を、表面に微細凹凸構造パターンを有する連続冷却装置を用いて固化させることにより微細凹凸構造パターンが表面に転写された成形体であって、前記微細凹凸構造パターンは、幅が０．０１〜１００μｍの範囲にあり、高さ又は深さが０．１〜５００μｍの範囲にある凸部及び／又は凹部から構成されていることを特徴とするプロピレン系樹脂成形体。
（ｉ）プロピレンと０．８〜１０重量％のエチレンとの共重合体である。
（ｉｉ）示差走査熱量測定（ＤＳＣ）による結晶化開始温度が１１１℃以下。
（ｉｉｉ）ＭＦＲが０．１〜３０ｇ／１０分。
（ｉｖ）曲げ弾性率が１１００ＭＰａ以下。 （もっと読む）

【課題】外部環境からの熱に起因した熱変形を低減するのに有利な型を提供する。
【解決手段】この型８は、被処理体１３に対して成形すべきパターンが形成されたパターン部８ａを有する。パターン部８ａが設置されている側の面は、パターン部８ａが配置された第１面と、パターン部８ａが配置されていない第２面８ｂとを含む。型８は、第２面８ｂの表面に、外部環境からの熱を拡散させる熱拡散膜４０（４２、４５）を有する。 （もっと読む）

【課題】スループットの向上に有利なインプリント装置を提供する。
【解決手段】このインプリント装置１は、型６を引き付けて保持する保持機構１１を有する型保持部３と、基板１０を保持する基板保持部４と、保持機構１１に保持された状態の型６を、該型６に接する空間１３の圧力を調整することで基板１０に向かい凸形に変形させる圧力調整部１５と、凸形に変形した型６と、未硬化樹脂１６との押し付け動作中に、型６の姿勢を変化させることで型６と未硬化樹脂１６とが接触する接触領域２４の位置を移動可能とする駆動部１８と、接触領域２４の状態を示す画像情報を取得する測定部２３と、画像情報に基づいて接触領域２４の図心２５の平面座標を算出し、該図心２５の平面座標の位置が、画像情報に基づいて算出した、または予め取得した基板１０上のパターン形成領域の図心２６の平面座標の位置に向かうように駆動部１８の動作を制御する制御部５と、を有する。 （もっと読む）

【課題】インプリント工程中の雰囲気を構成する気体が、モールド表面に形成された凹凸構造内の空隙に取り込まれることによる転写精度の低下を防止する。
【解決手段】
基板表面上に塗布した成形材料を成形温度に加熱し、この成形材料をモールドに対してプレスして、モールド表面に形成した凹凸構造を転写する工程を備えたインプリント方法において、成形材料をモールドに対してプレスする工程に先立って、モールド表面に形成された凹凸構造内部に、成形材料の成形温度より沸点及び発火点が高い液体を充填し、該凹凸構造内部の空気と置換する工程を設ける。 （もっと読む）

【課題】繊細な凹凸形状を有し、高級感のある樹脂化粧板を提供すること。
【解決手段】基板の上面に、接着剤層、化粧シート層を順に積層し、該化粧シート層上に樹脂組成物を塗布し、次いで賦型シートを当接して一体的に硬化させた後に、該賦型シートを剥離して樹脂層を形成した樹脂化粧板であって、該賦型シートが基材上に少なくとも、部分的に又は全面にわたって設けられたインキ層と、該インキ層上に存在してこれと接触すると共に、全面にわたって被覆する表面賦型層を有する賦型シートであって、該表面賦型層が電離放射線硬化性樹脂組成物の架橋硬化したものである樹脂化粧板である。 （もっと読む）

【課題】凹凸パターン内への光硬化性有機材料の充填速度が低下することを防止し、インプリント処理に要する時間の増加を抑制する。
【解決手段】本実施形態によれば、インプリント用テンプレート１０は、１面に凹凸パターンを有するインプリント用テンプレートであって、光透過性を有する基材１２と、基材１２上に設けられ、複数の粒子１４を含んだ第１層１６と、第１層１６上に設けられ、前記凹凸パターンが形成されており、光透過性及びガス透過性を有する第２層１８と、を備える。粒子１４は、所定波長の光を吸収して熱を放出する。 （もっと読む）

【課題】 インプリントのために基板上に載置するレジスト膜の膜厚を薄く且つ精度良く制御することができ、パターン寸法精度の向上に寄与する。
【解決手段】 インプリントプロセスを用いたパターン形成方法であって、基板上１０に、不揮発性の第１の樹脂成分、揮発性の第２の樹脂成分、及び第１の樹脂成分の硬化反応を促進する結合反応開始材を含むインプリント用のレジスト２０を、空間的に離散した状態で載置し、レジスト２０中の第２の樹脂成分を揮発させることにより、レジスト２０の体積を減少させ、体積減少処理工程後のレジスト２０に対して、テンプレート３０のパターン面を押印し、テンプレート３０のパターン面が押印された状態でレジスト２１を硬化させ、レジスト２１が硬化した後に該レジスト２１からテンプレート３０を剥離する。 （もっと読む）

【課題】 型に形成されているパターンと、基板上に既に形成されているパターンとの重ね合わせ精度の向上に有利なインプリント装置を提供すること。
【解決手段】 本発明のインプリント装置は、基板上のインプリント材を型により成形して前記基板上にパターンを形成するインプリント装置であって、前記型はパターン部を有する面を有し、前記型を保持する型保持手段と、前記基板を保持する基板保持手段と、前記パターン部と前記基板上に既に形成されているショットとの形状の違いに関する情報を取得する第１の取得手段とを有し、前記パターン部と前記インプリント材が接触している状態における前記型と前記基板との間隔を前記第１の取得手段により取得した前記形状の違いに関する情報に基づいて調整するために、前記型保持部と基板保持部の少なくとも一方を制御する制御手段を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】オーバーレイ誤差の小ささの点で有利なインプリント装置を提供する。
【解決手段】基板上のインプリント材を型により成形して前記基板上にパターンを形成するインプリント処理を行うインプリント装置であって、前記基板上に形成されたターゲットレイヤを位置合わせの基準として、前記基板上に所定レイヤを形成するための前記インプリント処理を制御する制御部を有し、前記制御部は、前記所定レイヤのために用意された複数の型から、前記ターゲットレイヤと前記所定レイヤとの間のオーバーレイ誤差が許容範囲内となる型の選択を行う、ことを特徴とするインプリント装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】インプリントに用いられるテンプレートの長寿命化を図る。
【解決手段】被転写基板としてのウェハ上のチップ領域と対応するＮ（Ｎは２以上の整数）個の転写領域に区画されたテンプレートＴＭからウェハＷへのパターン転写を複数回行う際、前記Ｎ個の転写領域のうちの一部と対応するウェハＷの周辺領域へ転写を行う場合に使用する１以上（Ｎ−１）個以下の転写領域を前記Ｎ個の転写領域の各転写回数が均一化されるように選択する転写位置選択部１１と、前記１以上（Ｎ−１）個以下の転写領域を選択した際に非選択とされた転写領域が前記ウェハＷ上の転写済領域と衝突しないように複数回のウェハＷへのパターン転写の転写順序を設定する転写順序設定部１２とを備える。 （もっと読む）

【課題】絶縁性基板の生産性を向上させることが可能な絶縁性基板の製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁性基板の製造方法は、凹状パターン２１ａを有する絶縁性基板２１の製造方法であり、相互に接近又は離反可能なステージ４１,４３と、ステージ４１に取り付けられ、凸状パターン４２１を有するインプリントモールド４２と、ステージ４３に取り付けられたガイドピン４３１と、を準備する工程と、絶縁性基板２１に形成された貫通孔２１ｂにガイドピン４３１を挿入する工程と、ステージ４１,４３を相互に接近させて、インプリントモールド４２に形成されたガイド穴４２２に、ガイドピン４３１を挿入する工程と、インプリントモールド４２とステージ４３との間に絶縁性基板２１を挟み込んで、絶縁性基板２１に凹状パターン２１ａを形成すると共に、ガイドピン４３１の先端をガイド穴４２２の底面に当接させる工程と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】ポリシングパッドの表面凹凸の加工に寄与している周波数成分や振幅を反映した構造を選択的に形成させることで、研磨性能の向上を図る。
【解決手段】ポリシングパッドは、基材層と、該基材層の表面に設けられ、かつ、該基材層の表面側から先端側に傾斜面を有する複数の突起を、ピーク材によって一体に形成する。この複数の突起は、基材層の表面において縦及び横方向にそれぞれ所定間隔を開けて配置する。 （もっと読む）

【課題】基材中を通過する導波光又は透過光を抑制でき、被転写材に連続的に微細構造を転写できるロール状モールドを提供すること。
【解決手段】本発明のロール状モールド（１）は、円筒状基材（１１）と、円筒状基材（１１）の外周面上に設けられた微細構造層（１２）と、円筒状基材（１１）の内周面上及び／又は微細構造層（１２）上に設けられたＵＶ吸収層（１３）と、を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】貫通孔を高精度に形成することが可能なインプリントモールドを提供する。
【解決手段】インプリントモールド１０は、例えば、シリコン（Ｓｉ）から構成される熱インプリント用の金型である。支持部１１と、支持部１１から突出し、バイアホールに対応する突起部１２と、突起部１２の先端面１４１に形成された親油性膜１６と、この先端面１４１を除く全ての表面に離型膜１７を備えている。この親油性膜１６は、例えば、ヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ，C6H19NSi2）、又はオクタデシルトリクロロシラン（ＯＴＳ，SiCl3C18H37）等から構成されている。一方、離型膜１７としては、例えば、フッ素系単分子膜等を例示することができる。 （もっと読む）

【課題】無機基材表面に残膜の薄い微細マスクパターンを付与した後、アスペクト比の高い微細パターンを無機基材表面に精度よく製造する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】無機基材の一主面側に形成された微細パターンの製造方法であって、光透過性の基材と、前記基材上に設けられ表面に微細凹凸構造を有する光硬化性樹脂層とを備えたリール状樹脂モールドの光樹脂硬化性樹脂層上にマスク材料層を積層して得た積層体Ａと、前記無機基材上に樹脂層を形成して得られた積層体Ｂとを、マスク材料層側と樹脂層側とを貼り合わせた後、硬化し、その後リール状樹脂モールドを剥離して得られた凹凸構造がマスク材料層に転写されたマスク材料層-樹脂層−無機基材からなる積層体を、引き続き、エッチングして得られることを特徴とする無機基材の一主面側に形成された微細パターンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、転写領域における凹凸パターンと樹脂との間の離型力を小さくし、離型工程におけるパターン欠陥の発生を抑制することができるナノインプリントリソグラフィ用モールドを提供することを目的とするものである。
【解決手段】 略矩形状の上面に転写領域を有するメサ構造体を備えたナノインプリントリソグラフィ用モールドにおいて、前記メサ構造体の上面の四隅の少なくとも一の角部に、先端角度が鋭角である第１の突起形状と、前記第１の突起形状の両脇の第２および第３の突起形状とを有する離型開始構造を形成することにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）