【課題】真空（減圧）条件の下で熱転写成形を行う成形装置に要する設備経費を圧縮し、連続的な生産を可能とすることにより時間当たりの生産性の向上も実現できる熱転写成形装置を提供する。
【解決手段】被加工材を減圧して搬送する搬送成形ユニット１０と、搬送成形ユニット内の被加工材を補助加熱する補助加熱部３０と、搬送成形ユニットを挟持して補助加熱部よりも高圧力により被加工材を加熱成形する加圧熱成形部４０と、搬送成形ユニット内の被加工材を冷却する加圧冷却部５０と、搬送成形ユニットを挟持して加圧冷却部よりも低圧力により被加工材を補助冷却する補助冷却部６０と、搬送成形ユニットの脱気部を通じて内部を減圧し補助加熱部に向けて搬出する搬出部７０と、補助冷却部から搬送成形ユニットを受け入れてその分離を行う搬入部８０と、接続部１１０を備え搬送成形ユニットを各部の配置順に搬送し所定位置に載置する搬送装置１００を有する。 （もっと読む）

【課題】下層膜にダメージを与えることなく基板上のパターンを反転させることができるパターン材料を、基板上に成膜することが可能な成膜方法を提供すること。
【解決手段】実施形態によれば、成膜方法が提供される。前記成膜方法では、所望のレイアウトパターンを反転させた反転パターンを第１の基板上に形成する。そして、前記所望のレイアウトパターンのパターン材料を反転材料として第２の基板上に供給する。この後、前記反転パターンを前記反転材料に対向して接触させることにより、毛細管現象を利用して前記反転材料を前記反転パターンに充填する。 （もっと読む）

【課題】テンプレートの洗浄時間を短縮できるテンプレート洗浄装置を提供すること。
【解決手段】実施形態のテンプレート洗浄装置は、表面に凹凸パターンおよび溝部が形成されているインプリント用のテンプレートの前記溝部のイメージを取得するためのイメージ取得手段１０を具備する。実施形態のテンプレート洗浄装置は、さらに、前記イメージ取得手段１０により取得された前記溝部のイメージと、予め取得しておいた基準イメージとを比較して、前記テンプレートの洗浄時間を決定する機能を含む洗浄時間決定手段１２を具備する。実施形態のテンプレート洗浄装置は、さらに、前記洗浄時間決定手段１２により決定された洗浄時間に基づいて、前記テンプレートを洗浄するための洗浄手段１３を具備する。 （もっと読む）

【課題】基板の表面に密着剤を適切に成膜しつつ、基板処理のスループットを向上させる。
【解決手段】ウェハの表面に離型剤を成膜するウェハ処理では、先ず、塗布ユニットにおいて、ウェハの表面に紫外線を照射し、当該ウェハの表面を洗浄する（工程Ａ２）。続いて、同塗布ユニットにおいて、ウェハの表面に紫外線を照射しながら、当該ウェハの表面に密着剤を塗布する（工程Ａ３）。その後、リンスユニットにおいて、ウェハ上の密着剤をリンスして、当該密着剤の未反応部を除去する（工程Ａ４）。こうしてウェハの表面に密着膜が所定の膜厚で成膜される。 （もっと読む）

【課題】離型層を備えたモールドを用いたナノインプリントにおいて、離型層中の離型剤の離型性能を低下させずにナノインプリントを繰り返し実施することを可能とする。
【解決手段】離型層を備えたモールドを用いたナノインプリント方法において、凹凸パターンを被加工基板上に塗布された光硬化性樹脂に向けて、モールドで光硬化性樹脂を押圧し、露光量が３０〜１００ｍＪ／ｃｍ^２である弱露光を光硬化性樹脂に行って光硬化性樹脂を半硬化せしめ、半硬化した光硬化性樹脂からモールドを剥離した後、半硬化した光硬化性樹脂に再露光を行う。 （もっと読む）

基板上の重合性材料は、制御組成のガス雰囲気中でエネルギー供給源からの真空紫外（ＶＵＶ）放射線に曝露することにより除去することができる。このような除去の後、ナノプリント用の追加のエッチング技術もまた記載される。 （もっと読む）

【課題】スタンパから分離された後の被形状転写層表面に形成された凹凸パターンに残存された残渣を容易に除去することができるスタンパ及びこのスタンパを用いた光インプリントリソグラフィ方法を提供する。
【解決手段】基板上に設けられた被形状転写層に転写するための凹凸パターン１２を有する光インプリントリソグラフィ法に用いられるスタンパ１０ａであって、凹凸パターン１２は、遮光性を有する凸部１２１ｓと透光性を有する凹部１２２ｔとを有する。本光インプリントリソグラフィ法は、ネガ型光硬化性を有する被形状転写層にスタンパ１０ａを圧接する工程と、スタンパ１０ａを被形状転写層に圧接した状態で被形状転写層を露光する工程と、スタンパ１０ａと露光後の被形状転写層とを分離する工程と、分離後の被形状転写層に形成された凹凸パターンを洗浄する工程と、を備える。 （もっと読む）

複製フィルムを製造する共押出方法。方法は、少なくとも３つの材料を供給する工程と、ニップロールと構造化ロールとの間にそれらの材料を共押出する工程と、を含む。材料は、裏面層材料、コア層材料、及び複製層材料を含む。構造化ロールは複製層上に複製される表面構造を有し、コア層は複製層に適合する形状適合性内層である。
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【課題】基板が露光光に対する透過性を必要とせず、露光光源を内蔵し、インプリントモールドと樹脂パターンとの剥離性に優れ、繰り返し光インプリント法を行っても剥離性が低下することのないインプリントモールド及びその製造方法並びに光インプリント法を提供する。
【解決手段】基板と、基板上に形成された下部電極と、下部電極上に形成された発光層と、発光層上に形成された上部電極と、上部電極上に形成された保護層と、保護層上に発光層から放射される発光波長を透過しない材料で形成され、凹凸部を有する遮光パターン部と、を備えることを特徴とするインプリントモールド。 （もっと読む）

本発明は、ポリスチレン系共重合体及びエチレンビニルアセテート系共重合体のうち、少なくとも一つを含むシート組成物、それから製造されたシート、前記シートを含む積層シート、及び前記積層シートを含む複合体シートに関するものであって、本発明によるシートは、耐摩耗性、耐油性、耐老化性などを含んだ高い機能安定性を有し、優れたエンボス保持力を有することができる。
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【課題】 本発明は、超微小サイズのパターン及び異物の検査について、高感度、高速及び高スループットを実現できるインプリント用ガラス基板、レジストパターン形成方法、インプリント用ガラス基板の検査方法及び検査装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 インプリント用の微細パターン１５が形成されたパターン面１１を有するガラス基板１０を備えたインプリント用ガラス基板３０であって、
該パターン面に、透明導電膜２０が被覆されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】原反に凹凸柄を形成するエンボス装置であって、とりわけ、高い稼働率で効率的に原反に凹凸柄を形成することができるエンボス装置を提供する。
【解決手段】エンボス装置１０は、原反７０に対面するようになるエンボス型面３０を有するエンボスロール２０と、エンボスロール２０に対向して配置されたバックアップロール１３と、を備える。原反は、エンボスロール２０とバックアップロール１３との間で押圧されるようになる。エンボスロールのエンボス型面は、原反に形成すべき凹凸柄８５に対応した凹凸形状を有する凹凸部３５と、エンボスロールの回転軸線Ｌ１に沿って凹凸部からずれた位置に形成され、凹凸部とは異なる凹凸形状を有する凹凸パターン４０と、を有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、かかる技術的背景に鑑みてなされたものであって、建築物や、鉄道車両、バス等の乗物の出入口部に敷設する凹凸形状のある滑り止めマットにおいて、エンボス加工によって発現しうる基材層の裏面側の凹凸差を無くし、粘着剤層との間に空気が入り込むことがなく、床材との接着強度を確保したオレフィン系樹脂製の滑り止めマットを提供することを目的とする。
【解決手段】オレフィン系樹脂組成物からなる基材層に粘着剤層が積層されてなる滑り止めマットであって、基材層の表面に連続する凹凸エンボスが施され、且つ基材層の裏面の凹凸差が２００μｍ以下で、前記基材層裏面から基材層表面の凸部までの厚さが３．０ｍｍ以下とすることによって、粘着剤層との間に空気が入り込むことがなく、床材との接着強度を確保したオレフィン系樹脂製の滑り止めマットを得る。 （もっと読む）

【課題】マスターから基板に微視的パターンを複製する方法を提供する。
【解決手段】本発明では、マスター上のトポグラフィ構造の複製物が形成され、必要とされるときに、種々の印刷技術又はインプリント技術の１つを用いて、受け基板上に転写され、次いで溶解される。ナノ構造、マイクロデバイス又はその一部の形成を含む付加的な処理工程もまた、転写前に、複製物を用いて行うことができる。次いで、これらの構造もまた、複製物が転写されるときに基板上に転写され、該複製物が溶解されるときには基板に残る。これは、集積回路その他のマイクロデバイスの製造における種々のリソグラフィ処理工程の相補的な工程として、又は置換工程として適用することができる技術である。 （もっと読む）

【課題】樹脂フィルム成形装置の稼働率を低下させることなく、モールドロール外周面のパーティクル付着、樹脂付着に起因する不良品の発生を未然に防止すること。
【解決手段】外周面に粘着剤層４４を有する付着物粘着除去ロール４１を用い、モールドロール１１の外周面に付着物粘着除去ロール４１の粘着剤層４４を押し付けられることにより、モールドロール１１の外周面に付着している付着物ｆを粘着剤層４４に粘着付着させて除去する。 （もっと読む）

この発明は、摩擦的に強化された表面を被加工物上に形成する方法を与える。方法は、スラリまたは溶液を形成するために、摩擦特性を強化するよう作用可能な予め定められた材料と液体とを組合せるステップを含む。方法は、被加工物の表面にスラリ／溶液を塗布するステップを含む。方法はさらに、塗布するステップ後に、予め定められた材料の相をレーザで変換するステップを含む。予め定められた材料の相を変換するステップは、摩擦助剤を被加工物の表面に結合する化学反応を生じさせる。
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【課題】 簡素な方法により、導電性ローラの塗膜層表面粗さを適切にして、トナーの搬送量や帯電量を適正にできる導電性ローラの表面処理方法を提供することを目的とする。【解決手段】 凹凸形成用ローラ１１の表面に微細な凹凸からなるパターン１１ｂを形成するとともに、前記導電性ローラ１と凹凸形成用ローラ１１との相対回転により、前記パターン１１ｂを導電性ローラ１の塗膜層４の表面に押し付けて形成することにより、樹脂から構成される塗料が塗布されて比較的平滑に形成された導電性ローラ１に、微細な凹凸からなるパターン１ｂが容易に刻設され、適度な表面粗さが付与されて、表面形状の最適化により、トナーの搬送量および帯電量が最適となり、最終的に出力される画質の向上が期待される。 （もっと読む）