【課題】プラズマ式の蒸着法により蒸着膜を成膜する際、特に蒸着材の昇華が始まる初期段階において、従来よりも低エネルギーでの成膜を実現し得る蒸着材の製造方法及び該方法により製造された蒸着材を提供する。
【解決手段】蒸着材１０の表面に突起１１を１又は２以上形成する第５工程を含み、突起１１の蒸着材１０表面から最大高さが１〜５ｍｍであって、突起１１の蒸着材１０表面から突出する部分の最大幅が１〜５ｍｍであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ＤＣスパッタリングでも高抵抗なＺｎＯ膜を作製可能なＺｎＯターゲットおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 ＺｎＯターゲットが、ＺｎＯを主成分とし、不可避不純物が０．１質量％以下であり、ＺｎＯ粒子の平均粒径が、１５μｍから１００μｍである。このＺｎＯターゲットの作製方法は、ＺｎＯ粉末を、３．０ｇ／ｃｍ^３以上の密度に成形して成形体とする工程と、成形体を、１２００℃から１５００℃の焼結温度で焼成して焼結体とする工程と、を有している。 （もっと読む）

【課題】還元処理を行わなくても比抵抗が低い、酸化物半導体膜形成用のターゲットを提供する。
【解決手段】Ｉｎ，Ｇａ及びＺｎを含み、周囲よりもＩｎの含有量が多い組織と、周囲よりもＧａ及びＺｎの含有量が多い組織を備えている酸化物焼結体からなるスパッタリングターゲット。さらにＩｎ、Ｇａ及びＺｎの原子比が下記の式を満たす、酸化物焼結体からなるスパッタリングターゲット。０．２０≦Ｉｎ／（Ｉｎ＋Ｇａ＋Ｚｎ）≦０．７００．０１≦Ｇａ／（Ｉｎ＋Ｇａ＋Ｚｎ）≦０．５００．０５≦Ｚｎ／（Ｉｎ＋Ｇａ＋Ｚｎ）≦０．６０ （もっと読む）

【課題】長期に渡る成膜を行った際に、得られる薄膜の特性の安定性に優れたスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】Ｉｎ、Ｚｎ、及びＧａを含み、表面と内部の化合物の結晶型が実質的に同一である酸化物焼結体からなり、下記（ａ）〜（ｅ）の工程で製作されたスパッタリングターゲット。（ａ）原料化合物粉末を混合し、調製（ｂ）混合物６．０ｍｍ以上に成形（ｃ）３℃／分以下で昇温（ｄ）１２８０〜１５２０℃で２〜９６時間（ｅ）表面を０．２５ｍｍ以上研削 （もっと読む）

【課題】高さ寸法が比較的高くかつ相対密度が抑制された酸化亜鉛系酸化物ペレットを歩留まりよく量産可能な製造方法を提供する。
【解決手段】原料粉を湿式混合かつ噴霧乾燥して第一造粒粉を製造する第一工程、第一造粒粉を仮焼して仮焼粉を製造する第二工程、仮焼粉と未仮焼原料粉を湿式混合かつ噴霧乾燥して第二造粒粉を製造する第三工程、第二造粒粉を加圧して圧粉体を製造する第四工程、圧粉体を破砕して成形体用粉末を製造する第五工程、成形体用粉末を加圧成形して成形体を製造する第六工程、成形体を焼成して酸化亜鉛系酸化物ペレットを製造する方法であって、第四工程の第二造粒粉に対する加圧条件を50MPa以上150MPa以下に設定して第五工程で製造される成形体用粉末の嵩密度が1.4g/cm³以上2.0g/cm³以下となるようにし、第六工程の成形体用粉末に対する加圧条件が100MPa以上200MPa以下とすることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高い耐久力を有し、湿分、酸およびアルカリに対して不感性であり、放射能が低く、広スペクトル範囲において透明かつ非吸収性であり、溶融および蒸発中に最初の組成を変化させず、低い焼結温度しか必要とせず、それを利用して１．７〜１．８の範囲にその屈折率を特定して設定することができる前記特性を有する中程度屈折率の層を得ることができる、中程度屈折率の光学層の製造のための蒸着材料を提供する。
【解決手段】酸化アルミニウム、ならびに、酸化ガドリニウム、酸化ジスプロシウムおよび酸化イッテルビウムからなる群より選択される少なくとも一つの化合物を含む、中程度の屈折率の光学層を製造するための蒸着材料。 （もっと読む）

【課題】耐汚損性と長期にわたる耐電圧特性とを兼ね備える小型のスパークプラグ、及び、このスパークプラグの製造方法を提供すること。
【解決手段】先端側に脚長部３０を有する絶縁体２と中心電極３と係合凸部５６で絶縁体２を保持する主体金具１とを備え、係合凸部５６の内径Ｄ_ＩＮ、係合凸部５６の内周面５９に対面する脚長部３０の最大外径ｄ_ＯＵＴ、その内径ｄ_ＩＮ及び絶縁体２の誘電率εが下記条件を満足するスパークプラグ１００、並びにＡｌ化合物粉末とＳｉ化合物粉末とＭｇ化合物粉末及びＢａ化合物粉末を含む２種類以上の第２族元素化合物粉末と０．５〜４．０質量％の希土類化合物粉末とを含有する原料粉末を加圧成形後に焼結して絶縁体２を製造する工程を含むスパークプラグ１００の製造方法。条件：（Ｄ_ＩＮ−ｄ_ＯＵＴ）／２≦０．４０(mm)、（ｄ_ＯＵＴ−ｄ_ＩＮ）／２≦１．６５(mm)及びε≧９．４（F/m）） （もっと読む）

【課題】イオン化チューブ及びこれを備えるイオン化生成装置の提供。
【解決手段】本発明のイオン化生成チューブは、中空のチューブ構造を有するものであって、チューブはセラミック及び放射性物質の混合によって形成され、放射性物質はチューブの長さ方向全体にわたって分布する。よって、本発明に係るイオン化生成チューブは、アルファ粒子が放出される面積を増加させることができるため、イオン化率を高めることができる。 （もっと読む）

【課題】可視光領域だけでなく赤外領域においても透過性に優れ、耐熱性の高い酸化物透明導電膜、その膜を成膜しうるスパッタリングターゲット、そのターゲットに使用しうる複合酸化物焼結体を提供する。
【解決手段】主として、亜鉛、アルミニウム、マグネシウム及び酸素から構成される複合酸化物焼結体であって、
・焼結体中の元素の原子比が、Ａｌ／（Ｚｎ＋Ａｌ＋Ｍｇ）＝０．００５〜０．１、Ｍｇ／（Ｚｎ＋Ａｌ＋Ｍｇ）＝０．００１〜０．０５であり、
・焼結体が酸化亜鉛を含有し平均粒径が１０μｍ以下の六方晶系ウルツ型構造を有する粒子（ａ）と、アルミニウムを含有し平均粒径が５μｍ以下のスピネル構造を有する粒子（ｂ）からなる
焼結体から成るスパッタリングターゲットを用いて成膜する。 （もっと読む）

【課題】高温下であっても破損することがなく、かつ遠赤外線効果に優れる耐熱材の製造方法を提供する。
【解決手段】粘土、コンクリート、アスファルトのいずれかを２０〜８０重量％、７０〜９０メッシュのペタライトを８０〜２０重量％の割合で混練し第１混練物を生成し、炭素粒子と珪酸化合物の混練体と、第１混練物とを混練して第２混練物を生成し、該第２混練物を加圧成形し成形物を生成し、乾燥後の成形物を９５０℃〜１２５０℃の温度で焼成して耐熱材を生成する。 （もっと読む）

【課題】穿孔ビットの穿孔能力に応じた出鋼口スリーブの選定方法及び出鋼口スリーブを提供することによって、穿孔ビットの刃体の損耗を抑制しつつ、解体時間の短縮を図る。
【解決手段】溶融金属容器に取り付けられた出鋼口スリーブの解体に使用される穿孔機に装着される穿孔ビット先端部の直径をＤ（ｍｍ）、出鋼口スリーブの周方向に作用する穿孔ビットの最大トルクをＴ（Ｎ・ｍ）とすると、出鋼口スリーブは、Ｃ≦（Ｔ／Ｄ×１０００＋２０００）／３００及び１０≦Ｃ≦１２０を満たす圧縮強さＣ（ＭＰａ）を有している。また、穿孔ビットの刃体と出鋼口スリーブとの接触面積をＳ（ｃｍ^２）、出鋼口スリーブの軸方向に作用する穿孔ビットの最大打撃エネルギーをＩＥ（Ｊ）とすると、出鋼口スリーブは、Ｍ≦（ＩＥ／Ｓ×１００００−２０００）／３０００及び２≦Ｍ≦１８を満たす曲げ強さＭ（ＭＰａ）を有している。 （もっと読む）

【課題】乾燥時間を大幅に短縮した上で、歪み、亀裂、爆裂等を抑えることが可能なセラミックスの製造方法を提供する。
【解決手段】火山ガラス発泡体が添加されたセラミックス素地を準備する工程と、前記セラミックス素地を成形して、成形体とする工程と、前記成形体を焼成して、焼結体とする工程とを含むセラミックスの製造方法であって、焼成前の成形体の含水率が10〜30質量％であることを特徴とするセラミックスの製造方法である。火山ガラス発泡体としては、発泡パーライト、発泡松脂岩、発泡黒曜石、発泡シラス等が好ましい。 （もっと読む）

【課題】容易に低コストで高品質のスピネルセラミックス構造体を形成する製造方法、および当該製造方法を用いて形成したスピネルセラミックス構造体を提供する。
【解決手段】透光性スピネルセラミックス２０の製造方法には、Ｍｇ、Ｚｎからなる群から選択される少なくとも１種を含むＡｌ合金の基板を準備する工程と、上記基板を陽極酸化処理により、上記基板の一方の主表面上に酸化物層が形成された積層体を形成する工程と、上記積層体から上記酸化物層を取り出すために上記基板を除去する工程と、上記基板が除去された上記酸化物層を熱処理する工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】真空蒸着法に用いられる酸化物焼結体タブレットを歩留まりよく安定して量産できる製造方法を提供すること。
【解決手段】原料粉を湿式混合しかつ噴霧乾燥して造粒粉を製造する第一工程と、造粒粉を加圧して圧粉体を製造する第二工程と、圧粉体を破砕して成形体用粉末を製造する第三工程と、成形体用粉末を金型中で加圧成形して成形体を製造する第四工程と、成形体を焼成して酸化物焼結体タブレットを製造する方法であって、第二工程の造粒粉に対する加圧条件を５０ＭＰａ以上２００ＭＰａ以下に設定して第三工程で得られる成形体用粉末のタップ密度が理論密度の２５％以上４５％以下となるように調整し、かつ第四工程において上記タップ密度に調整された金型中の成形体用粉末に対する加圧条件を５０ＭＰａ以上２００ＭＰａ以下に設定して所定形状の成形体を製造することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】蛍石と同程度の高いアッベ数を有すると共に、蛍石より高い屈折率を有するＣａ−Ｇｄ−Ｆ系材料を、透光性セラミックスとして提供する。
【解決手段】ＣａＦ_２微粒子と、該ＣａＦ_２微粒子とは別に作製されたＧｄＦ_３微粒子とを混合して微粒子混合物を調整し、前記微粒子混合物を焼結し、透明化することで透光性セラミックスを製造する。 （もっと読む）

【課題】低抵抗かつ高屈折率の透明導電酸化物膜を直流スパッタリング法により工業的に生産可能な酸化インジウムスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】酸化インジウムを主原料とし、酸化タンタルおよび酸化チタンを合計量で５．２〜９．２質量％含有し、酸化チタン／酸化タンタルの質量比が０．０２２〜０．１６０である酸化物からなる成形体を、酸素含有雰囲気下、１５３０〜１６３０℃で焼結することにより、相対密度が９７％以上で、比抵抗が５×１０^-4Ω・ｃｍ以下であり、成膜により比抵抗が５×１０^-4Ω・ｃｍ以下、可視光領域における光の屈折率が２．０以上、透過率が９６％以上の透明導電酸化物膜を得られる、スパッタリングターゲットを得る。 （もっと読む）

【課題】 キュリー温度が高く、絶縁抵抗性・機械品質係数に優れ、圧電特性に優れたタングステンブロンズ構造の化合物を提供する。
【解決手段】 そのために、下記一般式（１）で表されるタングステンブロンズ構造酸化物を含む化合物。
ｘ（ＢａＢ_２Ｏ_６）−ｙ（ＣａＢ_２Ｏ_６）−ｚ｛（Ｂｉ_１／２Ｃ_１／２）Ｂ_２Ｏ_６｝（式中、ＢはＮｂとＴａのうちの少なくとも１種の元素である。ＣはＮａ、Ｋのうちの少なくとも１種の元素である。ｘ＋ｙ＋ｚ＝１であり、ｘは０．２≦ｘ≦０．８５、ｙは０≦ｙ≦０．５、ｚは０＜ｚ≦０．８の数値を表す。）を提供する。 （もっと読む）

アルミナ及びジルコニアに基づく焼結製品
最小粒径と最大粒径の比が０．６超であり、以下の化学分析を有する焼結粒子
重量百分率として：
・ＣｅＯ_２とＹ_２Ｏ_３で部分的に安定化されたＺｒＯ_２：１００％への残部；
・Ａｌ_２Ｏ_３：１０〜６０％；
・ＣａＯ、酸化マンガン、Ｌａ_２Ｏ_３，ＳｒＯ、ＢａＯ及びそれらの混合物から選択される添加剤：０．２％〜６％；
・ただしＣａＯの量は２％より少ない；
・不純物：＜２％；
・ジルコニアはＣｅＯ_２とＹ_２Ｏ_３で安定化されており、ＣｅＯ_２とＹ_２Ｏ_３は、ＺｒＯ_２とＣｅＯ_２とＹ_２Ｏ_３の合計に基づくモル百分率で
・ＣｅＯ_２：６モル％〜１１モル％；及び
・Ｙ_２Ｏ_３：０．５モル％〜２モル％；
となるようなモル量で含まれる；
・該粒子は１３００℃より高い焼結温度にて焼結することによって得られ、該焼結温度は、添加剤がＣａＯである、又は、ＣｅＯ_２モル含有量が１０％〜１１％の範囲にあれば、１４００℃より高い。

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【課題】、有害物であるＰｂを含まず、水溶性のアルカリイオンを含まず、配向した焼結性の良好な圧電材料を提供する。
【解決手段】少なくともＢａ，Ｂｉ，Ｃａ，Ｎｂの金属元素を含み、前記金属元素がモル換算で以下の条件を満たすタングステンブロンズ構造金属酸化物からなり、前記タングステンブロンズ構造金属酸化物がｃ軸配向を有する圧電材料。Ｂａ／Ｎｂ＝ａ：０．３６３＜ａ＜０．３９９、Ｂｉ／Ｎｂ＝ｂ：０．０１１０＜ｂ＜０．０６５０、Ｃａ／Ｎｂ＝ｃ：０．００５＜ｃ＜０．１０５。前記タングステンブロンズ構造金属酸化物が、（１−Ｘ）・Ｃａ_１．４Ｂａ_３．６Ｎｂ_１０Ｏ_３０−Ｘ・Ｂａ_４Ｂｉ_０．６７Ｎｂ_１０Ｏ_３０（０．３０≦ｘ≦０．９５）からなることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】目標とする組成が精度良く得られるホウ素を含有するＺｎＯ系焼結体の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明では、ホウ素を含有するＺｎＯ系焼結体の製造方法において、ホウ素源としてＢ_２Ｏ_３に換えてＨ_３ＢＯ_３を用いる。特にＺｎＯ粉末とＨ_３ＢＯ_３粉末を混合し、仮焼きして得た仮焼き粉末を焼結原料として用いることが好ましい。また、仮焼き粉末の組成は、Ｂ_２Ｏ_３／（ＺｎＯ＋Ｂ_２Ｏ_３）×１００として、０．８〜４５ｍａｓｓ％が好ましく、仮焼き温度は、１００℃以上、５００℃以下とすることが好ましい。また、焼結温度は、９００℃以上、１１５０℃以下とすることが好ましく、焼結雰囲気は、酸素濃度２１ｖｏｌ％以下とすることが好ましい。 （もっと読む）