【課題】環境に優しい液体噴射ヘッド及び液体噴射装置並びに圧電素子を提供する。
【解決手段】ペロブスカイト構造を有する鉄酸マンガン酸ビスマスを主成分とするペロブスカイト型化合物及びＳｉＯ_２を含む圧電材料からなる圧電体層と、前記圧電体層に設けられた電極とを具備する圧電素子を有する液体噴射ヘッドとする。 （もっと読む）

【課題】スパッタリングよる酸化物半導体膜の堆積速度の向上と堆積された酸化物半導体膜のエッチング速度の向上を可能にするターゲットとしての導電性酸化物を提供する。
【解決手段】導電性酸化物は、結晶質Ｉｎ_２Ｇａ_{２（１−ｍ）}Ｚｎ_１−ｑＯ_７−ｐ（０≦ｍ＜１、０≦ｑ＜１、０≦ｐ≦３ｍ＋ｑ）と結晶質Ｇａ_２ＺｎＯ_４とを含む。 （もっと読む）

【課題】せり割れの発生を抑制できる金属ファイバー含有耐火れんがとそのライニング構造を提供すること。
【解決手段】対向する３組の側面を有する六面体形状を有し、溶融金属に接触する稼働面とこの稼働面に対向する背面とを除く４つの側面のうち、その表面から深さ１ｍｍまでに含まれる金属ファイバーの平均含有量が最も多い側面の金属ファイバーの平均含有量をａ質量％、最も少ない側面の金属ファイバーの平均含有量をｂ質量％としたときに、ｂ／ａ≦０．９および０．５≦ａ≦３０を満足する金属ファイバー含有耐火れんがである。 （もっと読む）

【課題】高周波領域で使用するための誘電体、特に誘電体共振器、電子周波数フィルタ素子、またはアンテナ素子として特に適するガラスセラミックを提供する。
【解決手段】ガラスセラミックは、酸化物基準のモル％で、少なくとも、５〜５０％のＳｉＯ_２と、０〜２０％のＡｌ_２Ｏ_３と、０〜２５％のＢ_２Ｏ_３と、０〜２５％のＢａＯと、１０〜６０％のＴｉＯ_２と、５〜３５％のＲＥ_２Ｏ_３とを構成成分として有する。ここで、Ｂａは部分的にＳｒ、Ｃａ、Ｍｇで置換でき、ＲＥはランタニドまたはイットリウムであり、Ｔｉは部分的にＺｒ、Ｈｆ、Ｙ、Ｎｂ、Ｖ、Ｔａで置換できる。 （もっと読む）

【課題】静水圧プレスにおいて真空包装に用いる可撓性包装材の破れを防止でき、信頼性の向上を図ることができる積層電子部品の製造方法及びプレス用治具を提供する。
【解決手段】積層電子部品の製造方法では、セラミック積層体Ｃを静水圧プレスする際に用いるプレス用治具１において蓋部５を備えている。この蓋部５は、第２成形型２と第１成形型２及び枠体４の間とを一体的に覆う。そのため、第２成形型３と枠体４との間の継目や第１成形型２及び枠体４の間の継目が蓋部５にて覆われるため、パッキングフィルム２５にてプレス用治具１を包装したときに、継目を起点としてパッキングフィルム２５が破損することを防止できる。その結果、パッキングフィルム２５内に水分が入ることを防止できるため、セラミック積層体Ｃの水分に起因する基板の割れを防止でき、信頼性の向上を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】配向性の良好な配向性酸化物セラミックスの製造方法を提供する。
【解決手段】酸化物結晶Ａを還元処理して、前記酸化物結晶Ａと同じ結晶系を有する酸化物結晶Ｂを得る工程と、前記酸化物結晶Ｂを含むスラリーを得る工程と、前記酸化物結晶Ｂに磁場を印加するとともに前記酸化物結晶Ｂの成形体を得る工程と、前記成形体を酸化処理して酸化物結晶Ｃからなる配向性酸化物セラミックスを得る工程を有する配向性酸化物セラミックスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】安定して成膜でき、割れやアーキングが生じ難いスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】相対密度９９％以下の酸化亜鉛焼結体からなり、スパッタリングの雰囲気に曝される主面１１ａにおいて、面内の明度差ΔＬ＊が５以下であることを特徴とするスパッタリングターゲット１１。平均粒径が１５μｍ以下であり、前記主面１１ａの最大高さＲｚが平均粒径の１／２以下である。また、成形時の外形から少なくとも１０ｍｍを生加工代として加工除去してなるＣＩＰ成形体を焼結してなる酸化亜鉛焼結体からなる。 （もっと読む）

【課題】低屈折率、低反射率、耐熱性、耐光性を有し、レンズ、光学部品、発光若しくは吸光電子デバイス部品又は表示デバイス部品等の光学用途に適した焼成体を提供する。
【解決手段】アルカリ条件下でトリアルコキシシラン化合物を加水分解、縮合して得たシルセスキオキサン化合物５〜６０重量部とシリカ９５〜４０重量部とを混合した組成物を３００〜７００℃、０．１〜１０時間焼成してなり、６３３ｎｍ光に対する屈折率が１．３３以下である透明焼成体。 （もっと読む）

【課題】溶鋼時の溶損を防止するために耐熱性を向上するだけではなく、同時に、ルツボ自体の耐水性を向上して強度を確保して、ルツボの移動や傾動作業に際して亀裂が発生しにくい金属溶解用ルツボを得ることができる製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】真空溶解炉で使用される酸化カルシウム（ＣａＯ）を主成分とする金属溶解用ルツボの製造方法において、原料となる前記ＣａＯの粉体を液状のジルコニウムキレートと液状のアルミニウムキレーと樹脂バインダのポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）を混練し、その後、混練された混合物を成形型内に充填し、その後成形されたルツボ成形体を焼成して製造することを特徴とする。 （もっと読む）

深海において生地体を等圧圧縮する工程を含む大形ブロックの作製方法。この方法により、非常に大形のブロックを比較的低コストで作製することができる。深海は等圧圧縮に必要な高圧を提供する。 （もっと読む）

【課題】ＳｉＯ_２系酸化物を含む材料を採用するとともに、隣接する反射層、記録層の劣化が生じ難く、密着性が良好で、尚且つ高速成膜可能であるスパッタリングターゲット及びその製造方法並びに光情報記録媒体用薄膜（特に保護膜としての使用）及びその製造方法を提供する。
【解決手段】酸化錫相（１１０）のピーク強度Ｉ１と酸化錫以外の酸化物あるいは複合酸化物相のＸ線回折図における２θ＝１５〜４０°の範囲に存在する最大ピーク強度Ｉ２がＩ２／Ｉ１＝０.１〜１であることを特徴とする酸化錫と酸化亜鉛と３価以上の元素の酸化物を主成分としたスパッタリングターゲット及びその製造方法並びに前記スパッタリングターゲットを用いた光情報記録媒体用薄膜（特に保護膜としての使用）及びその製造方法。 （もっと読む）

技術的セラミック製造のための粉砕予備混合物、およびそれから製造されたセラミック体であって、予備混合物はセルロース系成分およびアルミナ源からなり、セラミック体は、粉末無機成分を含む粉砕された予備混合物をバッチ混合物に配合し、このバッチ混合物に液体を加えて、可塑性バッチを形成し、可塑性バッチを成形体に形成し、成形体を加熱して、セラミック体を形成することによって、形成される。
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【課題】溶融金属に対する濡れ性が小さい材料を含む厚い複合層を表面に有する溶融金属用セラミックス部材の製造方法を提供する。
【解決手段】母材セラミックスの原料粉末を加圧成形することにより圧粉体を作製する第１の加圧成形工程（Ｓ５）と、この圧粉体の表面の少なくとも一部の領域と成形型との間に、溶融金属に対する濡れ性が母材セラミックスよりも低い材料である低濡れ性材料の粉末と母材セラミックスの原料粉末との混合粉末を充填させる第２の型充填工程（Ｓ６）と、加圧成形することにより成形体を作製する第２の加圧成形工程（Ｓ７）と、当該成形体を焼結する焼結工程（Ｓ１０）と、を含む。 （もっと読む）

【課題】高い強度を有するＩＴＯ燒結体、スパッタリングターゲット及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のＩＴＯ焼結体は、酸化スズを８〜１２重量％、並びに元素の周期表の２ａ族及び４ａ族元素のうちの少なくとも１種の元素の酸化物を０．００１〜０．１重量％含み、残部が酸化インジウムからなる。このＩＴＯ燒結体からなるターゲット。これらの酸化物を上記量で配合し、成形した後焼成してＩＴＯスパッタリングターゲットを得る。 （もっと読む）

【課題】傾斜機能材料を構成する一部の素材溶湯を作製することなしに傾斜機能材料を製造する。
【解決手段】比重の大きいおよび／または粒径の大きな高速移動粒子と、比重の小さなおよび／または粒径の小さな低速移動粒子の２種類以上の粒子を含むスラリーを用い、このスラリーを遠心力場で沈降させ、その後、液相部分を取り除いて、組成傾斜を有するグリーン体を作製し、このグリーン体を焼結することによって固化し、傾斜機能材料を得る。 （もっと読む）

【課題】ナノカーボン被覆耐火原料を使用した耐火物において、とくにその熱間強度を向上させること。
【解決手段】耐火原料粒子の表面の少なくとも一部にカーボンナノファイバーおよび／またはカーボンナノチューブが被覆されたナノカーボン被覆耐火原料を含む耐火原料配合物に有機樹脂を添加して混練し、得られた坏土を成形後熱処理して製造される耐火物であって、有機樹脂から得られる残炭量が耐火原料配合物全体の質量に対して１．２質量％以上１０．０質量％以下であるナノカーボン被覆耐火原料を使用した耐火物。 （もっと読む）

【課題】薄肉化されても十分な耐熱衝撃性を発揮するスパークプラグ用絶縁体及びその製造方法、並びに、十分な耐熱衝撃性を有する小型のスパークプラグを提供すること。
【解決手段】アルミナ基焼結体で形成されたスパークプラグ用絶縁体２であって、その脚長部２ｉのうち０．９５ｍｍ以下の肉厚を有する部分の表面をＸ線回折分析したときに、アルミナの（１１３）面のピーク強度とムライトの（１２１）面のピーク強度との合計ピーク強度に対する前記ムライトの前記ピーク強度が１５％以上であるスパークプラグ用絶縁体２、１４００℃以上の温度で前記成形体に与える熱量が１２００ｋＪ以上となる焼成条件で焼成するスパークプラグ用絶縁体２の製造方法、並びに、前記スパークプラグ用絶縁体２を備えたスパークプラグ１００。 （もっと読む）

【課題】耐食性、耐スポーリング性に優れ、十分な耐久性を有するマグネシア質耐火物を提供する。
【解決手段】マグネシア６０〜９０重量％、ジルコニア５〜２０重量％、アルミナ５〜２０重量％からなる配合物を焼成してなるマグネシア質耐火物。 （もっと読む）

【課題】硝酸塩や溶媒としてのＰＲＴＲ対象物質を使用せず且つ廃液も生じさせずに製造できる鉛を含有しない圧電セラミックス膜形成用組成物、圧電素子及び液体噴射ヘッド並びに液体噴射装置を提供する。
【解決手段】Ｂｉ^３＋、Ｆｅ^３＋及びＭｎ^３＋を含み、溶媒としてアセチルアセトン及び２−エチルヘキサン酸を含む圧電セラミックス膜形成用組成物とする。 （もっと読む）

固体酸化物セラミックは、イットリア安定化ジルコニア（ＹＳＺ）、チタン酸ランタンストロンチウム（ＬＳＴ）、マンガン酸ランタンストロンチウム（ＬＳＭ）および酸化ニッケル−ＹＳＺ複合材料からなる群から選択される少なくとも１つの材料を含む、１つの表面を画定する基板を含む。固体酸化物セラミックはさらに、表面の少なくとも一部分をコーティングし、サンボルナイト（ＢａＯ・２ＳｉＯ_２）結晶相、ヘキサセルシアン（ＢａＯ・Ａｌ_２Ｏ_３・２ＳｉＯ_２）結晶相および残留ガラス相を含み、前記表面において基板の熱膨張係数以下の熱膨張係数を有するシールを含む。ガラス組成物のガラス結晶化温度とガラス転移温度の差は、約２０℃／分の加熱速度で約２００℃〜約４００℃の範囲内であり得る。
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