【課題】撥水撥油防汚機能に加え、耐摩耗性や耐候性等の耐久性、水滴離水性、撥油性、防汚性が向上した耐摩耗性超撥水撥油防汚性ガラスとその製造方法ならびにそれらを用いたガラス窓、太陽エネルギー利用装置および光学機器を提供する。
【解決手段】複数の金平糖状の突起１１を有するガラス基材１４ａと、金平糖状の突起１１を有するガラス基材１４ａの表面の少なくとも一部を被うように結合形成された撥水撥油防汚性薄膜１５ａとを有し、金平糖状の突起１１が、略半球状の第１の突起１２と、第１の突起１２の表面に形成され、前記第１の突起よりも小さな複数の略半球状の第２の突起１３で構成されていることを特徴とする耐摩耗性超撥水撥油防汚性ガラス１０。 （もっと読む）

【課題】撥水撥油防汚機能に加え、耐摩耗性や耐候性等の耐久性、水滴離水性、撥油性、防汚性が向上した耐摩耗性超撥水撥油防汚性ガラスとその製造方法並びにそれらを用いたガラス窓、太陽エネルギー利用装置、光学機器および表示装置を提供する。
【解決手段】複数の金平糖状の突起１１を有するガラス基材１４と、突起１１を有するガラス基材１４の表面の少なくとも一部に結合した撥水撥油防汚性薄膜１５ａとを有し、金平糖状の突起１１が、略半球状の第１の突起１２と、第１の突起１２の表面に形成され、第１の突起１２よりも底面の直径が小さな複数の円錐状またはタケノコ状の第２の突起１３で構成されていることを特徴とする耐摩耗性超撥水撥油防汚性ガラス１０。 （もっと読む）

【課題】加工対象物のガラス転移温度よりも低い温度雰囲気下にて微細パターン化されたブロック共重合体から成るマスクを介してナノ構造層を形成することができ、微細パターン化技術分野に貢献する。
【解決手段】２種類のポリマー成分から成りガラス転移温度が加工対象物よりも低いブロック共重合体を加工対象物の被ナノ加工面に被覆して被覆層を形成する。この被覆層を、選択的エッチングすることにより微細パターン化されたマスクを形成し、そのマスクを介して加工対象物をエッチングすることによりナノ構造層を形成する。 （もっと読む）

【課題】高い光電変換効率を得るためのダブルテクスチャー構造を有する酸化亜鉛を主成分とする透明導電膜を用いた太陽電池用透明導電性基板、その製造方法、およびこれに用いるターゲットを提供する。
【解決手段】本発明の太陽電池用透明導電性基板は、表面に凹凸（Ａ）を形成した透明基板と、この透明基板の凹凸上に成膜され酸化亜鉛を主成分とした透明導電膜とを備え、この透明導電膜が表面に前記凹凸（Ａ）より小さな凹凸（Ｂ）を有する。 （もっと読む）

【課題】実用に耐えうる耐摩耗性を備えた撥油性膜を持つ撥油性基材を製造することができる成膜方法を提供する。
【解決手段】前照射工程、第１の成膜工程、後照射工程及び第２の成膜工程を順次有する。前照射工程では、基板１０１の表面にエネルギーを持つ粒子を３００〜６００秒の照射時間で照射する。第１の成膜工程では、前照射工程後の基板１０１の粒子照射面にイオンビームを用いたイオンアシスト蒸着法によって第１の膜１０３を３ｎｍ以上の厚みで成膜する。後照射工程では、基板１０１に成膜された第１の膜１０３にエネルギーを持つ粒子を照射する。これにより第１の膜１０３の厚みを０．１〜５００ｎｍとし、かつ第１の膜１０３の表面に特定の表面特性を満足する凹凸を形成させる。第２の成膜工程では、後照射工程後の第１の膜１０３の凹凸面に撥油性を有する第２の膜１０５を成膜する。 （もっと読む）

【課題】剥離帯電を抑制することができ、白ムラや白曇りが生じ難いフラットパネルディスプレイ用のガラス基板を提供する。
【解決手段】ガラス基板を製造するとき、半導体素子が形成されるガラス基板の半導体素子形成面と反対側のガラス表面を洗浄し、洗浄された前記ガラス表面にエッチング処理を施す。前記エッチング処理が施された前記ガラス表面のＲａ（原子間力顕微鏡により測定される表面凹凸の算術平均粗さ）が０．３（ｎｍ）以上１．０（ｎｍ）以下であって、Ｒz−Ｒzjis（Ｒzjisは原子間力顕微鏡により測定される表面凹凸の１０点平均粗さであり、Ｒzは原子間力顕微鏡により測定される表面凹凸の最大高さである）が０．２（ｎｍ）以下になるように前記洗浄処理と前記エッチング処理が行われる。 （もっと読む）

【課題】ハンドリングが容易な上、微細な貫通孔を形成することが可能な、インターポーザ用のガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも一つの貫通孔を有するインターポーザ用ガラス基板の製造方法であって、（ａ）第１の表面および第２の表面を有し、第１の厚さを有するガラス基板を準備する工程と、（ｂ）前記ガラス基板の前記第１の表面に、前記第１の厚さよりも薄い薄肉部を形成する工程であって、これにより、前記薄肉部と、該薄肉部を取り囲む厚肉部とが形成される工程と、（ｃ）前記薄肉部内の領域に、少なくとも一つの貫通孔を形成する工程と、を含む製造方法。 （もっと読む）

【課題】一方で付加的な部材又は支持要素の組込みを排除し、他方で動的応力及び静的応力に対する略等価な機械的安定性を示す、基板用の軽量構造を提供する。
【解決手段】モノリシック基板１０は、軽量構造を有するためにガラス又はガラスセラミックを含む。軽量構造は、網状構造、例えば四角形又は四つ角を有する形状のポケットを形成する網状構造によって範囲が定められる凹部を含む。該軽量構造に起因して、基板１０の重量が大幅に低減されると同時に、高い剛性が確保され得る。基板１０は好ましくは、ミラー支持体又はミラーとして使用され、地球上及び／又は地球外で利用することができる。 （もっと読む）

【課題】加工が容易でかつ被加工物を安定して保持可能なレーザー加工装置用のテーブルを提供する。
【解決手段】レーザー加工装置において被加工物が載置固定されるテーブルの製造方法が、平板状のガラス板を用意する工程と、ガラス板の一方主面の吸引用溝の形成予定位置に、サンドブラスト処理にて粗溝を形成する工程と、粗溝の表面をエッチングして吸引用溝を得る工程と、を備えるようにする。吸引用溝の形成予定位置は、平面視でハニカム状に配置された領域を含むようにする。 （もっと読む）

【課題】エッチングレートを向上させることによりカバーガラスの生産効率を向上し、さらには、複雑な形状であっても、形状精度の高いカバーガラスを形成することができるカバーガラスの製造方法およびカバーガラスを提供する。
【解決手段】カバーガラスは、ダウンドロー法により成形されたガラス基板をエッチング加工し、かつ、ガラス主表面に圧縮応力層を有するように化学強化したカバーガラスである。前記ガラス基板は、成分としてＳｉＯ_２を５０〜７０質量％、Ａｌ_２Ｏ_３を５〜２０質量％、Ｎａ_２Ｏを６〜３０質量％、および、Ｌｉ_２Ｏを０〜８質量％未満含む。必要に応じて、ＣａＯを０〜２．６質量％含む。前記ガラス基板は、濃度１０質量％のフッ化水素を含む２２℃のエッチング環境で、３．７μｍ／分以上のエッチングレートのエッチング特性を有する。 （もっと読む）

【課題】電子デバイスを形成する過程において薄膜が形成される面への、処理液の付着を抑制できるガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】電子デバイス用のガラス基板の搬送方向に沿って複数の搬送ローラを配置し、搬送ローラの一部はエッチャントに浸漬し、搬送ローラを駆動してガラス基板を搬送する際、搬送ローラに吸収されたエッチャントがガラス基板の一方の面である第１面に付着することによって粗面化することを前提とする。本発明では、電子デバイスの製造過程において薄膜が形成されるガラス基板の他方の面である第２面に、エッチャントが付着することが抑制されるように、搬送ローラに保持されるエッチャント量を調整する。 （もっと読む）

【課題】レーザー誘起背面式の透明基板微細加工方法において、裏面で加工が起こるのに必要なエネルギー値を低減するとともに、加工効率を上げながら未加工部分による加工精度低下を防止する。
【解決手段】透明材料を通過したレーザービームをその裏面で集光させ、該集光点で該透明材料の裏面に接触する流動性物質がレーザービームを吸収し、該透明材料の融点付近まで温度上昇させるとともに高い圧力を発生させることにより、該透明材料の該集光点でのエッチング加工を行うレーザー誘起背面式の透明基板微細加工に使用される流動性物質として、レーザービーム吸収物質、及び該物質を高濃度に溶解して流動性物質とする溶媒に加え、それ自体、レーザービームに対する吸収特性を有していないが、レーザービーム吸収物質の発熱に伴い分解して、加工精度、加工速度を向上させる加工促進物質を添加する。 （もっと読む）

【課題】 面から深さ方向に遠くなるほど空孔率が小さくなっている多孔質ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】 ホウケイ酸塩ガラスを主成分とする母材ガラスに、銀イオンとカリウムイオンとリチウムイオンのうちから選ばれた１種類以上のイオン種を接触させて加熱して、表面から深さ方向に遠くなるほど前記イオン種の濃度が減少しているイオン濃度分布を有するガラス体を形成する工程と、前記ガラス体を加熱して相分離させて相分離ガラスを形成する工程と、前記相分離ガラスをエッチングして、表面から深さ方向に遠くなるほど空孔率が小さくなっている多孔質ガラスを形成する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】 孔質構造の形成を幅広く制御することができる多孔質ガラスを提供する。
【解決手段】 本発明の多孔質ガラスの製造方法は、酸化ケイ素、酸化ホウ素、アルカリ金属酸化物を含有する母体ガラス上に、ホウ素化合物およびアルカリ金属化合物を主成分として含有する表層を設ける第１工程と、前記母体ガラスおよび前記表層を加熱処理して、相分離された相分離ガラスを形成する第２工程と、前記相分離ガラスを酸処理して孔を有する多孔質ガラスを形成する第３工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】低反射率を実現すると共に、防汚性を備え、耐環境性、耐候性、長期安定性に優れた微細構造積層体を提供すること。
【解決手段】無機基材１１と、無機基材１１の一主面上に設けられ、無機基材１１とは反対側の表面に微細凹凸構造１３を有し、機能性微粒子が分散されたゾルゲル材料の硬化物層１２と、を備え、硬化物層１２において、無機基材１１側から微細凹凸構造１３側にかけて機能性無機微粒子の濃度が増大するように機能性無機微粒子が分散されたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】透明導電膜での光線の吸収を減少させ、光電変換効率を向上させることができる透明導電膜基板およびその製造方法、ならびにこの基板を用いた太陽電池を提供する。
【解決手段】ガラス基板１８上に第一酸化物構造層１２、第二酸化物層１４及び導電性酸化物層１６がその順に形成された光電変換デバイス用透明導電膜基板であって、第一酸化物構造層１２には、ガラス基板１８の面から突出した複数の凸部が設けられ、前記凸部のガラス基板１８の面からの高さは２００ｎｍ以上２０００ｎｍ以下であり、第二酸化物層１４は、ＳｉとＳｎとの混合酸化物で構成され、該混合酸化物における、ＳｉとＳｎとの合計に対するＳｎのモル比（Ｓｎ／（Ｓｉ＋Ｓｎ））が０．０５〜０．３であり、第二酸化物層１４の膜厚は２〜１０ｎｍであり、導電性酸化物層１６は、Ｆを含有したＳｎＯ₂で構成されている。 （もっと読む）

【課題】ガラス自体の強度を損なわず、建築材その他の用途に一般的に用いられている透光性板ガラスの表面を加工して、装飾性に優れた発光装飾ガラスおよび装飾ガラスを提供する。
【解決手段】４〜２５ｍｍの厚さの透光性板ガラス１の表面に、０．０１〜３．０ｍｍの径の大きさの放射状の亀裂７を打刻により多数設け、この亀裂７のドットにより任意の文字または図柄を構成して装飾ガラスを作製する。発光装飾ガラスは、この装飾ガラスと、透光性板ガラス１の四方側面の何れかの方向から、指向性のある照射光が透光性板ガラス１内部に入射するように配置された光源とを備える。 （もっと読む）

【課題】工程のスループットに優れ、ナノメーターオーダーのパターンを簡便に形成できる方法を提供する。
【解決手段】ポリスチレン誘導体とシルセスキオキサンを含むポリメタクリレート誘導体とを有するコポリマーを含有するパターン形成材料からなる膜を形成する工程と、前記膜中にミクロ相分離構造を形成する工程と、前記シルセスキオキサンを含むポリマー鎖の相をマスクとして前記基板をエッチングして前記基板にミクロ相分離構造のパターンを転写する工程とを具備したことを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】有機材料の優れた加工性と、無機材料が持つ優れた耐候性、耐熱性及び硬度などの、有機−無機両方の利点を合わせ持つ成形体及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】酸化物部位と有機架橋部位とを含有し、少なくとも表層が無機ガラス状物質である、酸化物成形体。 （もっと読む）

【課題】高強度と視域制御機能を両立し得るガラス板を創案することにより、３Ｄディスプレイの高精細化、高輝度化、低消費電力化に寄与すること。
【解決手段】本発明のガラス板は、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ４０〜８０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜３０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１５％、アルカリ金属酸化物（Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏの一種又は二種以上） ０〜２５％、アルカリ土類金属酸化物（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯの一種又は二種以上） ０〜１５％を含有し、且つ二次元ディスプレイの一部又は全部を覆う視域制御部材に用いることを特徴とする。 （もっと読む）