Fターム[4G062CC10]の内容
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Fターム[4G062CC10]に分類される特許
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磁気ディスク用ガラス基板の製造方法
【課題】磁気ディスク用ガラス基板の主表面の研磨のために従来から研磨剤として使用されてきた酸化セリウムよりも、主表面を平らにする点、主表面のスクラッチの生じにくさの点でより優れた研磨剤を使用した磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】
研磨液を用いて磁気ディスク用ガラス基板の主表面を研磨するときに、研磨液として、主表面の算術平均粗さを0.5nm以下とし、かつ主表面のマイクロウェービネス(MW-Rq)を0.5nm以下とすべく、アルミニウム系の研磨剤として粒状のベーマイトおよび/またはギブサイトを含むものを使用する。
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半導体封入用外套管の製造方法及び半導体封入用外套管
【課題】低温で半導体素子を封入可能であり、しかも耐酸性に優れた半導体封入用外套管を製造する方法を提供する。
【解決手段】106dPa・sの粘度に相当する温度が650℃以下であり、B2O3が15.5モル%以上の組成を有するSiO2−B2O3−R2O系無鉛ガラスにてガラス管を作製する工程と、前記ガラス管をpH3〜6の酸性溶液又はpH8〜12のアルカリ性溶液で表面処理する工程とを含む半導体封入用外套管を製造方法を特徴とする。
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被覆アルミナフィラー、ガラスセラミックス組成物、発光素子用基板、および発光装置
【課題】発光素子用基板におけるガラスセラミックスの変色を抑制できるアルミナフィラーを提供すること。
【解決手段】発光素子を搭載する発光素子用基板の製造に用いられるアルミナフィラーであって、アルミナフィラーと、前記アルミナフィラーの表面を被覆し、アルミニウム以外の金属の酸化物からなる被覆層とを有することを特徴とする被覆アルミナフィラー。
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プレス成形用ガラス素材、および該ガラス素材を用いたガラス光学素子の製造方法、並びにガラス光学素子
【課題】易還元成分を含有するガラス素材であっても、表面クラック、クモリ、キズ等が無く、充分な光学性能を有する光学素子を提供するプレス成形用ガラス素材を提供する。表面クラック、クモリ、キズ等が無く、充分な光学性能を有する光学素子とその製造方法を提供する。
【解決手段】多成分系の光学ガラスからなる芯部と、少なくとも前記芯部の光学機能面となる部位を覆う複合表面層とを有するプレス成形用ガラス素材及びガラス光学素子。芯部は、易還元成分を含有し、Pbを含有しない光学ガラスからなり、複合表面層は、芯部上に被覆される第1の表面層と第1の表面層上に被覆される第2の表面層を含み、前記第1の表面層は、ZrO2、Y2O3、及びSc2O3のいずれか一種以上の金属酸化物からなり、膜厚が1nm以上かつ15nm以下のであり、
前記第2の表面層は、炭素(C)からなり、膜厚が1nm以上かつ15nm以下のである。前記光学素子の製造方法。
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光学ガラス、光学素子およびプリフォーム
【課題】異常分散性がより高いことでガラスレンズの色収差を高精度に補正することができ、さらに高屈折率、低分散性(高アッベ数)を備え、加えて、従来のものと同等以上に摩耗度が低く研磨加工を行い易い光学ガラス、光学素子およびプリフォームの提供。
【解決手段】カチオン成分として、P5+、Al3+、Ca2+、Ln3+(Ln3+は、Y3+、La3+、Gd3+、Yb3+およびLu3+からなる群から選ばれる少なくとも1つ)、ならびにMg2+、Sr2+およびBa2+からなる群から選ばれる少なくとも1つを含み、Ln3+の合計含有率がカチオン%表示で1.1%超10.0%以下であり、アニオン成分としてF−を含み、屈折率(nd)≧1.55、アッベ数(νd)≧55である光学ガラス。
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フラットパネルディスプレイ用カバーガラス
【課題】自発的に破壊しにくいフラットパネルディスプレイ用カバーガラスの提供。
【解決手段】フュージョン法により得られたガラスを化学強化して得られるフラットパネルディスプレイ用カバーガラスであって、化学強化前のガラスにおける粒子径が40μm以上の欠点を含まず、内部引張り応力が30MPa以上、且つ厚さが1.5mm以下であるフラットパネルディスプレイ用カバーガラス。
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リチウムイオン二次電池正極材料用前駆体ガラスおよびリチウムイオン二次電池正極材料用結晶化ガラス
【課題】高い電池容量を得ることが可能なリチウムイオン二次電池正極材料用前駆体ガラスおよびリチウムイオン二次電池正極材料用結晶化ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、モル%で、Li2O 20〜50%、P2O5 20〜40%、Fe2O3 0〜40%、MnO2 0〜60%、Nb2O5 0.1〜2.4%を含有し、かつ、モル比で、(Fe2O3+MnO2/2)/P2O5≧0.85であることを特徴とするリチウムイオン二次電池正極材料用前駆体ガラス。
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イオン伝導性ガラスセラミックス、その製造方法及びそれを含む全固体二次電池
【課題】豊富なナトリウム資源を背景に低コストで提供可能なイオン伝導性ガラスセラミックスを提供することを課題とする。
【解決手段】一般式(I):Na2S−MxSy(MはP、Si、Ge、B、Alから選択され、x及びyは、Mの種類に応じて、化学量論比を与える整数であり、Na2Sが67モル%より大きく、80モル%未満含まれる)で示されるイオン伝導性ガラスセラミックスにより上記課題を解決する。
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高屈折率ガラス
【課題】有機発光素子やITOの屈折率に整合し得る高屈折率ガラスを創案する。
【解決手段】本発明の高屈折率ガラスは、ガラス組成として、モル%で、SiO2+Al2O3+B2O3 20〜70%、SiO2 20〜70%、B2O3 0〜30%、MgO+CaO+SrO+BaO 0〜50%、BaO+La2O3+Nb2O5+ZrO2+TiO2 0〜30%を含有し、モル比B2O3/SiO2が0〜1、モル比SiO2/(MgO+CaO+SrO+BaO+La2O3+Nb2O5)が0.1〜6、モル比(MgO+CaO+SrO+BaO)/(MgO+CaO+SrO+BaO+La2O3+Nb2O5+Gd2O3)が0.1〜0.99であると共に、屈折率が1.55〜2.3であることを特徴とする。
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半導体封入用無鉛ガラス及び半導体封入用外套管
【課題】 低温で半導体素子を封入することが可能であり、しかも耐酸性に優れた半導体封入用無鉛ガラス及び半導体封入用外套管を提供する。
【解決手段】 ガラス組成として、モル%で、SiO2 46〜60%、Al2O3 0〜6%、B2O3 13〜30%、MgO 0〜10%、CaO 0〜10%、ZnO 0〜20%、Li2O 9〜25%、Na2O 0〜15%、K2O 0〜7%、TiO2 0〜8%含有し、Li2O/(Li2O+Na2O+K2O)がモル比で0.48〜1.00の範囲にあることを特徴とすることを特徴とする。
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無アルカリガラス
【課題】CSP等の用途に要求される種々の特性を満足し得る無アルカリガラス、特にSiと整合する熱膨張係数を有する無アルカリガラスを提供する。
【解決手段】本発明の無アルカリガラスは、ガラス組成として、mol%で、SiO2 50〜70%、Al2O3 9〜15%、B2O3 11〜20%、CaO 8〜12%を含有し、モル比(MgO+CaO+SrO+BaO)/Al2O3の値が0.8〜1.2であって、密度が2.37g/cm3以下、102.5dPa・sにおける温度が1600℃以下であることを特徴とする。
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半導体封入用無鉛ガラス及び半導体封入用外套管
【課題】 低温で半導体素子を封入することが可能であり、しかも耐酸性に優れ、またガラス管成形時に結晶が析出し難い半導体封入用無鉛ガラス及び半導体封入用外套管を提供する。
【解決手段】 ガラス組成として、モル%で、SiO2 45〜58%、Al2O3 0〜6%、B2O3 14.5〜30%、MgO 0〜3%、CaO 0〜3%、ZnO 4.2〜14.2%、Li2O 5〜12%、Na2O 0〜15%、K2O 0〜7%、Li2O+Na2O+K2O 15〜30%、TiO2 0.1〜8%含有し、ZnO/Li2Oが0.84〜2の範囲内にあることを特徴とする。
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磁気ディスクおよび情報記録媒体用ガラス基板の製造方法
【課題】高温で磁気記録層を形成できる磁気ディスクの製造方法の提供。
【解決手段】温度が550℃以上であるガラス基板の上に磁気記録層を形成する工程を有する磁気ディスクの製造方法であって、ガラス基板がモル百分率表示で、SiO2を62〜74%、Al2O3を6〜18%、B2O3を7〜15%、MgO、CaO、SrOおよびBaOのいずれか1成分以上を合計で8〜21%含有し、SiO2およびAl2O3の含有量合計が70%以上、上記7成分の含有量合計が95%以上であり、Li2O、Na2OおよびK2Oのいずれか1成分以上を合計で1%未満含有する、もしくはこれら3成分のいずれも含有しないものである磁気ディスクの製造方法。
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基板用ガラスおよびガラス基板
【課題】基板として強酸性液を用いる洗浄を行っても表面荒れが起こりにくい基板に用いられるガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル%表示で、SiO2を62.5〜69%、Al2O3を9〜15.5%、Li2Oを8〜16%、Na2Oを0〜8%、K2Oを0〜7%、ZrO2を0〜3.5%含有し、SiO2−Al2O3が53.3%以上、Li2O+Na2O+K2Oが17〜24%、上記6成分の含有量の合計が97%以上である基板用ガラス。
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情報記録媒体用基板に供するためのガラス、情報記録媒体用基板および情報記録媒体とそれらの製造方法
【課題】高記録密度化に対応した情報記録媒体用基板を提供する。
【解決手段】mol%表示にて、SiO2とAl2O3を合計で70〜85%(ただし、SiO2の含有量が50%以上)、Al2O3の含有量が3%以上、Li2O、Na2OおよびK2Oを合計で10%以上、CaOとMgOを合計で1〜6%(ただし、CaOの含有量がMgOの含有量よりも多い)、ZrO2、HfO2、Nb2O5、Ta2O5、La2O3、Y2O3およびTiO2を合計で0%を超えて4%以下含み、SiO2、Al2O3、ZrO2、HfO2、Nb2O5、Ta2O5、La2O3、Y2O3およびTiO2の合計含有量に対するLi2O、Na2OおよびK2Oの合計含有量のmol比が0.28以下、である、情報記録媒体用基板に供するためのガラスとする。
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封着材料及びこれを用いたペースト材料
【課題】レーザ封着に好適な封着材料を創案することにより、有機ELディスプレイ等の信頼性を高める。
【解決手段】本発明の封着材料は、SnO含有ガラス粉末を含む無機粉末 99〜99.95質量%と、顔料 0.05〜1質量%を含有する封着材料であって、顔料の一次粒子の平均粒径が1〜100nmであり、且つレーザ封着に用いることを特徴とする。
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アルミノリン酸ガラス組成物
【課題】固体レーザ媒質としての使用に好適な、アルミノリン酸塩をベースとした物理学的特性及びレーザ特性を改善させガラス組成物を提供する。
【解決手段】SiO2及びB2O3を或る特定量添加すること等を通じて、アルミナも含有する、リン酸塩をベースとするガラス組成物の物理学的特性及びレーザ特性を改善させ、固体レーザ媒質としての使用に好適な、アルミノリン酸塩をベースとしたガラスに関する。該レーザガラスは、FOMTM及びFOMlaserに関する望ましい性能指数値を有する。
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光学ガラス
【課題】低分散でありながら屈折率が高く、優れたガラス安定性を有し、着色の少ない光学ガラスを提供する。
【解決手段】酸化物ガラスであって、カチオン%表示で、Si4+0〜30%、B3+10〜55%、Li+、Na+およびK+を合計で5%未満、Mg2+、Ca2+およびSr2+を合計で5%未満、Ba2+0〜8%、Zn2+0.1〜15%、La3+10〜50%、Gd3+0〜20%、Y3+0〜15%、Yb3+0〜10%、Zr4+0〜20%、Ti4+0.1〜22%、Nb5+0〜20%、Ta5+0〜8%、W6+0〜5%、Ge4+0〜8%、Bi3+0〜10%、Al3+0〜10%、B3+の含有量に対するSi4+の含有量のカチオン比Si4+/B3+が1.0未満、酸化物に換算してNb2O5とTa2O5の合計含有量が14質量%未満、屈折率ndが1.966〜2.2、アッベ数νdが25〜45であることを特徴とする光学ガラス。
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光学ガラス、プレス成形用ガラス素材および光学素子
【課題】屈折率ndが2.05を超え、アッベ数νdが18.5以下の高屈折率高分散特性を持ちながら、高品質のガラスの製造に適した粘性特性を有する光学ガラス、このガラスからなるプレス成形用ガラス素材および光学素子を提供する。
【解決手段】酸化物ガラスであって、
カチオン%表示にて、
P5+を16〜35%、
Bi3+を14〜35%、
Nb5+を10〜33%、
Ti4+を0〜18%、
W6+を0〜20%
含み、
Bi3+、Nb5+、Ti4+およびW6+の合計含有量が55%以上、
屈折率ndが2.05を超え、アッベ数νdが18.5以下であることを特徴とする光学ガラス。光学このガラスからなるプレス成形用ガラス素材および光学素子。
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素地隠蔽性に優れた釉薬層を有する衛生陶器
【課題】 乳濁剤を用いずに素地を良好に隠蔽することができ、また汚れが付着しにくい釉薬層を有する便器、洗面器などの衛生陶器の提供。
【解決手段】 衛生陶器素地上に形成された1層からなる釉薬層を、唯一の釉薬層として有する衛生陶器であって、前記釉薬層が、主として、非晶質の分相ガラスからなり、前記釉薬層表面の表面粗さRaが、0.07μm以下であることを特徴とする衛生陶器とする。これにより衛生陶器素地を良好に隠蔽でき、好ましい態様にあっては良好な白色を衛生陶器に付与できる。
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