【課題】本発明の技術的課題は、レーザ封着の際に、ガス成分が放出され難い封着材料層付きガラス基板を創案することにより、有機ＥＬデバイス等の長期信頼性を高めることである。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板は、封着材料を焼結させた封着材料層を備える封着材料層付きガラス基板において、真空熱処理されてなると共に、レーザ封着に用いることを特徴とする。また、本発明の封着材料は、ガラス粉末を含む封着材料において、真空熱処理されてなると共に、レーザ封着に用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】低出力のレーザでレーザ封着が可能な封着材料層付きガラス基板の製造方法を提案する。
【解決手段】ガラス基板１１を用意する工程と、第一の封着材料ペーストを前記ガラス基板１１上に塗布した後、第一の封着材料膜１２を形成する工程と、第二の封着材料ペーストを前記第一の封着材料膜１２上に塗布した後、第二の封着材料膜１３を形成する工程と、得られた積層膜を焼成して、前記ガラス基板１１上に封着材料層１４を形成する工程とを有すると共に、前記第一の封着材料ペーストが第一の封着材料を含み、且つ前記第二の封着材料ペーストが第二の封着材料を含み、前記第二の封着材料中の耐火性フィラーの含有量が、前記第一の封着材料中の耐火性フィラーの含有量より少ないことを特徴とする封着材料層付きガラス基板１の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明の技術的課題は、低出力のレーザーでレーザー封着が可能な封着材料層付きガラス基板の製造方法を創案することにより、有機ＥＬデバイス等の長期信頼性を高めることである。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板は、封着材料を焼結させた封着材料層を備える封着材料層付きガラス基板において、封着材料が無機粉末と顔料を含み、無機粉末がガラス粉末と耐火性フィラーを含み、無機粉末中の耐火性フィラーの含有量が１０〜３５体積％であり、封着材料層の表面粗さＲａが０．５μｍ未満であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
従来のケイ酸塩系ガラスは熱伝導率が大きく、サーマルヘッドの低消費電力化が図れなかった。
【解決手段】
モル％で、Ｐ_２Ｏ_５を５０〜６８％、ＣｅＯ_２を１５〜３９％、Ｂ_２Ｏ_３を２〜７％、Ｐｒ_６Ｏ_１１を０．２〜０．５％含み、ＣｅＯ_２に対するＰ_２Ｏ_５のモル比が１≦Ｐ_２Ｏ_５／ＣｅＯ_２＜４の関係を満たすリン酸塩系ガラス、またはＰ_２Ｏ_５を５０〜６５％、ＣｅＯ_２を５〜１５％、Ｂ_２Ｏ_３を３〜８％、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜１０％、ＢａＯを０〜９％およびＰｒ_６Ｏ_１１を含み、ＣｅＯ_２に対するＰ_２Ｏ_５のモル比が４≦Ｐ_２Ｏ_５／ＣｅＯ_２の関係を満たすリン酸塩系ガラスは熱伝導率が小さいので、サーマルヘッドのグレーズ層に用いることにより低消費電力化が図れる。また、熱膨張係数がセラミックス基板と等しいので、セラミックス基板との剥離が起こりにくく、耐熱性に優れる。 （もっと読む）

【課題】本発明の技術的課題は、低出力のレーザーでレーザー封着が可能な封着材料層付きガラス基板の製造方法を創案することにより、有機ＥＬデバイス等の長期信頼性を高めることである。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板の製造方法は、ガラス基板を用意する工程と、第一の封着材料ペーストを前記ガラス基板上に塗布した後、第一の封着材料膜を形成する工程と、第二の封着材料ペーストを前記第一の封着材料膜上に塗布した後、第二の封着材料膜を形成する工程と、得られた積層膜を焼成して、前記ガラス基板上に封着材料層を形成する工程とを有すると共に、前記第一の封着材料ペーストが第一のガラス粉末を含み、且つ前記第二の封着材料ペーストが第二のガラス粉末を含み、前記第二のガラス粉末の軟化点が、前記第一のガラス粉末の軟化点より低いことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】過度に限定的なガラス組成でなくともビスマスによる赤外発光が得られ、且つ溶融法を利用したガラスの製造時に均質性を確保し易く、しかも耐失透性が良好であり、モールドプレス成形に適した赤外発光ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス全体量を１００モル％とし、酸化物組成として、
（１）Ｐ_２Ｏ_５：４５〜７５モル％、
（２）Ａｌ_２Ｏ_３：３〜２５モル％、
（３）ＲをＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ及びＺｎからなる群から選択される少なくとも１種とし、ＲＯ：５モル％以上３０モル％未満、並びに
（４）Ｂｉ_２Ｏ_３：０．１〜５モル％、
を含有するガラス組成物からなり、励起光の照射により赤外波長域で蛍光発光することを特徴とする赤外発光ガラス。 （もっと読む）

【課題】本発明は、錫リン酸系ガラスの耐水性を改善すると同時に、低酸素雰囲気、特に減圧雰囲気で良好に封着できるとともに、４９０℃以下の低温で封着可能であり、且つ熱的安定性の良好な封着用ガラス組成物および封着材料を得ることを技術課題とする。
【解決手段】本発明の封着用ガラス組成物は、ガラス組成として、下記酸化物換算のモル％表示で、ＳｎＯ ３０〜８０％、Ｐ_２Ｏ_５ １０〜２５％（但し、２５％は含まない）、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜２０％、ＺｎＯ ０〜２０％、ＳｉＯ_２ ０〜１０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜１０％、ＷＯ_３ ０〜２０％、Ｒ_２Ｏ（ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓを指す） ０〜２０％含有し、且つ低酸素雰囲気、特に減圧雰囲気における封着に用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】化学強化用のアルカリおよびアルミニウム高含有ケイ酸塩ガラス組成物の提供。
【解決手段】ガラス組成物は、モル％で、SiO₂が64.5-73、Al₂O₃が6.5-11.5、B₂O₃が0-2、Na₂Oが13-19、K₂Oが0.3-1.2、MgOが3.5-7.2、ZnOが0.05-2.5、TiO₂が0.05-1、Y₂O₃が0-0.6、Ga₂O₃が0-0.4、GeO₂が0-1.2、並びに、SnO₂、Sb₂O₃、Cl及びSO₃からなる群から選択される少なくとも１の成分であって含有量がSnO₂が0-0.15、Sb₂O₃が0-0.1、Clが0-0.5及びSO₃が0-0.3である成分を含む。前記ガラスは、化学強化後、その表面に圧縮応力300MPa以上、厚み40μm以上の圧縮応力層を備え、ディスプレイ製品のスクリーン表面の保護用のガラス材料として用いられうる。 （もっと読む）

【課題】高性能なガラス複合シートの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス複合シート２の製造方法は、ガラス粉末と機能材粉末とを混合して混合粉末１を得る工程と、混合粉末１をロールプレス成形することによりガラス複合シート２を得る成形工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬディスプレイ等の信頼性を高めたレーザー封着に好適な封着材料層付きガラス基板を提供する。
【解決手段】封着材料を焼結させた封着材料層を備える封着材料層付きガラス基板において、封着材料が少なくとも無機粉末を含み、無機粉末がガラス粉末と耐火性フィラーを含み、無機粉末中の耐火性フィラーの含有量が１０〜３５体積％であり、封着材料層の表面粗さＲａが０．５μｍ未満であることを特徴とする封着材料層付きガラス基板。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィー、半導体や液晶の基板洗浄、殺菌、次世代大容量光ディスク、及び医療（眼科治療、ＤＮＡ切断）等に好適に使用できる新たなリチウムガラスからなる真空紫外発光素子及び散乱中性子を１次中性子やＸ線から分離して測定することが可能な中性子検出用シンチレーターを提供する。
【解決手段】リチウムガラス材料２０Ａｌ（ＰＯ_３）_３−８０ＬｉＦに対してＮｄＦ_３又はＥｒＦ_３が添加されたリチウムガラスからなる真空紫外発光素子及び中性子検出用シンチレーター。 （もっと読む）

【課題】従来の要求特性を満たすと共に、エッチングにより複数の強化ガラス片に分断し易い強化ガラスを提供する。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する強化ガラスであって、ガラス組成として、モル％で、ＳｉＯ_２４５〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３３〜１５％、Ｌｉ_２Ｏ０〜１２％、Ｎａ_２Ｏ０．３〜２０％、Ｋ_２Ｏ０〜１０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ１〜１５％を含有し、モル比（Ａｌ_２Ｏ_３＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｐ_２Ｏ_５）／ＳｉＯ_２が０．１〜１、モル比（Ｂ_２Ｏ_３＋Ｎａ_２Ｏ）／ＳｉＯ_２が０．１〜１、モル比Ｐ_２Ｏ_５／ＳｉＯ_２が０〜１、モル比Ａｌ_２Ｏ_３／ＳｉＯ_２が０．０１〜１、モル比Ｎａ_２Ｏ／Ａｌ_２Ｏ_３が０．１〜５であると共に、強化処理後にエッチングにより切断され、表面又は端面はエッチングされてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 耐電圧、耐摩耗性、熱伝導率、および耐スクラッチ性が一層高い絶縁膜や保護層(以下、絶縁膜等という)を形成し得る絶縁膜組成物を提供する。
【解決手段】 ガラスを主成分とする厚膜絶縁ペーストには、アルミナ粉末が含まれているため、定着ヒータの絶縁膜やサーマルプリントヘッドの保護層に好適で、硬度が高く延いては耐摩耗性や耐スクラッチ性が高く、且つ熱伝導率や耐電圧が高い絶縁膜等を得ることができる。アルミナ粉末のアスペクト比が1.2以下と小さいことから充填密度が得られるので絶縁膜の硬度等の改善効果が一層高められる。アルミナ粉末の体積比率が25(％)以上と大きいことから、硬度や熱伝導率等の改善効果が一層高められ、体積比率が60(％)未満に留められていることから、強固な絶縁膜等を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、誘電加熱により化学強化ガラスを切断する速度を上昇させて、ガラス板の生産効率を向上することを課題とする。
【解決手段】本発明は、下記工程（１）および（２）を含むガラス板の製造方法に関する。
（１）Ａｌ_２Ｏ_３を３モル％以上含有し、Ｌｉ_２ＯおよびＮａ_２Ｏの少なくとも一方を含有し、アルカリ金属の酸化物の総含有量Ｒ_２Ｏに対するＬｉ_２ＯまたはＮａ_２Ｏの含有量のモル比Ｌｉ_２Ｏ／Ｒ_２ＯまたはＮａ_２Ｏ／Ｒ_２Ｏが、０．９以上であるアルミノシリケートガラスを化学強化して化学強化ガラス板を得る工程
（２）工程（１）で得られた化学強化ガラス板の所定領域に交番電界を印加することによって、該所定領域を徐冷点以下の温度で誘電加熱し、化学強化ガラス板の表面上の切断予定線に沿って交番電界を印加する領域を移動させることで、該化学強化ガラス板を切断する工程 （もっと読む）

【課題】質量分析用途に用いる成形用セラミックスを提供する。
【解決手段】ＲＦ部材のオーバーモールドに適した、アルカリ土類金属酸化物、例えばＳｒＯを含むガラスセラミックは、良好なＲＦ応答および良好な機械的強度を提供する。具体的には、ＳｒＯは、ＲＦおよび機械的性能を維持しながら、セラミックの流動温度を低下させる。得られるガラス配合物は、１０〜５０モル％のＳｒＯ、５〜３０モル％のＡｌ_２Ｏ_３および２０〜６０モル％のＢ_２Ｏ_３を含有する。 （もっと読む）

【課題】高記録密度化に好適な割れにくい基板用ガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ_２を６６〜７７％、Ａｌ_２Ｏ_３を７〜１７％、Ｂ_２Ｏ_３を０〜７％、Ｌｉ_２Ｏを０〜９％、Ｎａ_２Ｏを０〜８％、Ｋ_２Ｏを０〜３％、ＭｇＯを０〜１３％、ＣａＯを０〜６％、ＴｉＯ_２を０〜５％、ＺｒＯ_２を０〜５％含有し、ＳＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３およびＢ_２Ｏ_３の含有量の合計ＳｉＯ_２＋Ａｌ_２Ｏ_３＋Ｂ_２Ｏ_３が８１〜９２％、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏの含有量の合計Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏが３〜９％、ＭｇＯおよびＣａＯの含有量の合計ＭｇＯ＋ＣａＯが４〜１３％、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２ＯおよびＣａＯ含有量の合計Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ＋ＣａＯが０〜１０％、ＴｉＯ_２およびＺｒＯ_２の含有量の合計ＴｉＯ_２＋ＺｒＯ_２が０〜５％である基板用ガラス。 （もっと読む）

【課題】本発明は、Ａｌ−Ｓｉ合金層とＡｌドープ層を適正に形成し得ると共に、ブリスターやＡｌの凝集を発生させ難く、しかも熱水による電極の耐劣化性が良好な電極形成用ガラスを創案することを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の電極形成用ガラスは、ガラス組成として、モル％で、Ｂｉ_２Ｏ_３ １〜３０％、Ｂ_２Ｏ_３ １０〜６６％、ＣａＯ ０．１〜２５％を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】Ｌｉイオン伝導性の高い硫化物固体電解質材料を提供する。
【解決手段】Ｌｉ、Ａ（Ａは、Ｐ、Ｓｉ、Ｇｅ、ＡｌおよびＢの少なくとも一種である）、Ｘ（Ｘはハロゲンである）、Ｓを有し、ガラスセラミックスであり、ＣｕＫα線を用いたＸ線回折測定において、２θ＝２０．２°、２３．６°にピークを有することを特徴とする硫化物固体電解質材料を提供する。該硫化物固体電解質材料はＬｉ、Ａ（Ａは、Ｐ、Ｓｉ、Ｇｅ、ＡｌおよびＢの少なくとも一種である）、およびＳを有するイオン伝導体と、ＬｉＸ（Ｘはハロゲンである）とから構成されている。 （もっと読む）

【課題】ディスプレイ用の基板ガラスとしての特性に優れており、かつ耐還元性に優れており、フロート法による成形に適した無アルカリガラス基板の提供。
【解決手段】モル％表示で実質的に、
モル％表示で実質的に、
ＳｉＯ₂ ６０〜６４％
Ａｌ₂Ｏ₃ ０〜１２％、
Ｂ₂Ｏ₃ ５〜１０％
ＭｇＯ １〜１８％、
ＣａＯ ０〜１８％、
ＳｒＯ ０〜１８％、
ＢａＯ ０〜２％、
ＣａＯ＋ＳｒＯ １２〜２５％、
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ １５．５〜３０％
よりなり、アルカリ金属酸化物を実質的に含有せず、ガラス粘度がｌｏｇη＝２となる温度Ｔ₂ が１５８０℃ 以下である無アルカリガラス基板。 （もっと読む）

【課題】紫外スペクトルにより環境中の有害細菌を有効的に抑制又は殺滅する方法。
【解決手段】類地紫外スペクトル自体放出のガラスセラミックス材を利用して抗菌する新方法であり、前記ガラスセラミックスは電源を要らずに地球自然環境中の赤外線、可視光線又は紫外線により励起され、自体から類地紫外スペクトルを放出するものであることを特徴とする方法を提供する。 （もっと読む）