【課題】屈折率ｎｄが2.05を超え、アッベ数νｄが18.5以下の高屈折率高分散特性を持ちながら、高品質のガラスの製造に適した粘性特性を有する光学ガラス、このガラスからなるプレス成形用ガラス素材および光学素子を提供する。
【解決手段】酸化物ガラスであって、
カチオン％表示にて、
Ｐ^５＋を16〜35％、
Ｂｉ^３＋を14〜35％、
Ｎｂ^５＋を10〜33％、
Ｔｉ^４＋を0〜18％、
Ｗ^６＋を0〜20％
含み、
Ｂｉ^３＋、Ｎｂ^５＋、Ｔｉ^４＋およびＷ^６＋の合計含有量が55％以上、
屈折率ｎｄが2.05を超え、アッベ数νｄが18.5以下であることを特徴とする光学ガラス。光学このガラスからなるプレス成形用ガラス素材および光学素子。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、可視光に対する透過率が高く、且つ耐失透性が高いプリフォーム材を得ることが可能な光学ガラスと、プリフォーム材及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＢ_２Ｏ_３成分を１０．０〜５０．０％及びＬａ_２Ｏ_３成分を５．０〜３０．０％含有し、酸化物換算組成のガラス全物質量に対するモル和（ＴｉＯ_２＋Ｎｂ_２Ｏ_５）が２０．０％未満である。プリフォーム材は、この光学ガラスからなる。また、光学素子は、この光学ガラスを母材とする。 （もっと読む）

【課題】Ｐｂ、Ｇｅ、Ｇａ等の酸化物、もしくはフッ素などのハロゲン成分を含まずとも、または、Ｓｎ、Ｃｕの酸化物を多量に含まずとも、耐水性に優れ、封着時またはその後の熱処理においても結晶化しにくく、低い封着温度および所望の熱膨張係数を実現でき、可視光の透過率が高い封止用ガラスを提供すること。
【解決手段】酸化物基準のモル％表示で、３％〜７０％のＢ_２Ｏ_３、４％〜４５％のＺｎＯ、０％〜３０％のＲ_２Ｏ（但し、ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓから選ばれる一種以上）の各成分を含有し、酸化物基準のモル％で表されたＲ_２Ｏ／Ｂ_２Ｏ_３の比の値が０．０１以上１以下であり、ＺｎＯとＲ_２Ｏ成分の合計量が１０％以上７０％以下であることを特徴とするガラス。 （もっと読む）

【課題】組成中のＰ⁵⁺の含有量が少ないフツリン酸ガラスを製造するのに、化学的耐久性と熱的安定性のバランスが取れた組成とすること。
【解決手段】Ｏ^2-／Ｐ⁵⁺≧３．７、Ａ１³⁺が所定量以上、Ｐ⁵⁺が所定量以下のフツリン酸ガラスを製造するのに、Ａｌ₂Ｏ₃の占める割合を１〜５質量％の範囲に制限したＡｌＦ₃を用いてガラス原料を調合し、この原料を溶融してフツリン酸ガラスを製造する。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、プレス成形を行いやすく、且つ耐失透性が高いプリフォーム材を得ることが可能な光学ガラスと、プリフォーム材及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＢ_２Ｏ_３成分を１０．０〜５０．０％、Ｌａ_２Ｏ_３成分を５．０〜３０．０％、及びＬｉ_２Ｏ成分を３．５％より多く２０．０％以下含有する。プリフォーム材は、この光学ガラスからなる。また、光学素子は、この光学ガラスを母材とする。 （もっと読む）

【課題】
活性マトリクス液晶ディスプレイ（ＡＭＬＣＤ）などのフラットパネル・ディスプレイ装置における基板としての用途に望ましい物理的および化学的性質を示す、アルカリを含まないホウアルミノケイ酸ガラス。
【解決手段】
本明細書には、歪み点を有し、それによって良好な寸法安定性を有する無アルカリガラスおよびその製造方法が記載される。歪み点が高いガラスは、熱処理およびそれに続くガラス製造の間の圧縮／収縮に起因するパネルの歪みを妨げることができる。 （もっと読む）

【課題】加湿しなくても、２００〜５００℃の中温域で良好なイオン伝導性を有し、成形性や長期安定性に優れたイオン伝導性薄膜材料、特にプロトン伝導性薄膜材料を創案すること。
【解決手段】本発明のイオン伝導性薄膜材料は、組成として、モル％表示で、Ｐ₂Ｏ₅ １５〜８０％、ＳｉＯ₂ ０〜７０％、Ｒ₂Ｏ（Ｌｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、Ｋ₂Ｏ、Ｒｂ₂Ｏ、Ｃｓ₂Ｏ、及びＡｇ₂Ｏの合量） ５〜３５％を含有すると共に、薄板形状を有し、その厚みが１〜５００μｍであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】電気素子パッケージの設計の自由度を確保しつつ、ガラスフリットの溶着時に加えられるレーザ光の照射熱によって、電極や電気素子が損傷するという事態を可及的に低減する。
【解決手段】有機ＥＬ層２を内部空間に気密封止した有機ＥＬ素子パッケージ１であって、有機ＥＬ層２が配置された素子基板３と、素子基板３の有機ＥＬ層２側の表面に間隔を置いて対向する封止基板４と、有機ＥＬ層２の周囲を囲むように素子基板３と封止基板４との間の隙間を気密封止するガラスフリット５と、素子基板３とガラスフリット５の間に配置され且つガラスフリット５を溶着する際に照射されるレーザ光を反射する反射膜として機能する誘電体多層膜８とを有する。この誘電体多層膜８は、低屈折率誘電体層と高屈折率誘電体層とを交互に積層したものから形成される。 （もっと読む）

【課題】本発明の技術的課題は、加湿しなくても、２００〜５００℃の中温域で良好なイオン伝導性を有し、成形性や長期安定性に優れたイオン伝導性材料、特にプロトン伝導性材料を創案することである。
【解決手段】本発明のイオン伝導性材料は、組成として、モル％表示で、Ｐ₂Ｏ₅ １５〜８０％、ＳｉＯ₂ ０〜７０％、Ｒ₂Ｏ（Ｌｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、Ｋ₂Ｏ、Ｒｂ₂Ｏ、Ｃｓ₂Ｏ、及びＡｇ₂Ｏの合量） ５〜３５％を含有すると共に、Ｒ₂Ｏ成分（Ｌｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、Ｋ₂Ｏ、Ｒｂ₂Ｏ、Ｃｓ₂Ｏ、Ａｇ₂Ｏ）の内、少なくとも２種以上を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】Ｐｂ、Ｇｅ、Ｇａ等の酸化物、もしくはフッ素などのハロゲン成分を含まずとも、または、Ｓｎ、Ｃｕの酸化物を多量に含まずとも、耐水性に優れ、封着時またはその後の熱処理においても結晶化しにくく、低い封着温度および所望の膨張係数を実現でき、Ｔｇが４５０℃以下の封着等に適したガラスを提供する。
【解決手段】 酸化物基準のモル％表示で、３０％〜５５％のＰ_２Ｏ_５、１０％〜４０％のＺｎＯ、０．０１％〜３０％のＡｌ_２Ｏ_３、０％〜３０％のＲ_２Ｏ（但し、ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓから選ばれる一種以上）の各成分を含有し、酸化物基準のモル％で表されたＡｌ_２Ｏ_３／ Ｐ_２Ｏ_５の比の値が０．０１以上１以下であることを特徴とするガラス。 （もっと読む）

【課題】分相性を適正に制御し得る抵抗体形成用ガラスを創案することにより、（１）ホットプレス工程で、緻密に焼結すること、（２）ホットプレス工程で、容易に変形すること、（３）ホットプレス工程後に、抵抗体の抵抗値がばらつく不具合を防止できること等の要求特性を満たすこと。
【解決手段】本発明の抵抗体形成用ガラスは、ガラス組成として、モル％で、ＳｉＯ_２ ４９．０〜５７．９％、Ｂ_２Ｏ_３ ２６．８〜４０．６％、ＢａＯ ２．８〜７．５％、Ｌｉ_２Ｏ ７．６〜１２．３％、ＢａＯ＋Ｌｉ_２Ｏ（ＢａＯ、Ｌｉ_２Ｏの合量） １０．４〜１５．２％（但し、１５．２％は含まず）を含有し、且つモル比ＳｉＯ_２／Ｂ_２Ｏ_３の値が１．８３以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】固体レーザー利得媒質としてのリン酸塩系ガラスの使用の開示。
【解決手段】リン酸レーザーガラスであって、Ｐ_２Ｏ_５３５〜６５、ＳｉＯ_２０〜２０、Ｂ_２Ｏ_３０〜１５、Ａｌ_２Ｏ_３＞０〜１０、Ｎｂ_２Ｏ_５０〜１０、ＴｅＯ_２０〜５、ＧｅＯ_２０〜５、ＷＯ_３０〜５、Ｂｉ_２Ｏ_３０〜５、Ｌａ_２Ｏ_３０〜５、Ｌｎ_２Ｏ_３＞０〜１０（Ｌｎ＝周期表の元素５８〜７１のレーザー発振イオン）、Ｒ_２Ｏ１０〜３０（Ｒ＝Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ）、ＭＯ１０〜３０（Ｍ＝Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ）、Ｓｂ_２Ｏ_３０〜５の組成（ｍｏｌ％）を有し、ＳｉＯ_２、Ｂ_２Ｏ_３、ＴｅＯ_２、Ｎｂ_２Ｏ_５、Ｂｉ_２Ｏ_３、ＷＯ_３及び／又はＧｅＯ_２が各々、＞０ｍｏｌ％〜約１５ｍｏｌ％で存在し、それらの合計が少なくとも１ｍｏｌ％である、リン酸レーザーガラス。 （もっと読む）

【課題】Ｌｉイオン伝導性が高い硫化物固体電解質ガラスを提供する。
【解決手段】ＧａＳ_３^３−構造を主成分とするイオン伝導体と、ＬｉＩとを有することを特徴とする硫化物固体電解質ガラス。ＬｉＩ（ＬｉＩ成分）を有するため、Ｌｉリッチとなり、Ｌｉイオン伝導性が高い硫化物固体電解質ガラスとすることができる。また、ＧａＳ３３−構造は、水（水分を含む）と接触しても、その構造が変化しないため、水に対する安定性が高い。 （もっと読む）

【課題】Ｂｉ_２Ｏ_３を成分として含有しながらも、低い屈伏点を有し、且つ広い範囲の屈折率、高屈折率をもつ光学ガラスの提供を課題とする。
【解決手段】Ｂｉ_２Ｏ_３、Ａｇ_２Ｏ、Ｐ_２Ｏ_５からなる３成分の各１００モル％をそれぞれ正三角形の頂点とする３元系成分組成図上において、前記３成分が下記Ａ〜Ｇの７点を結ぶ線で囲まれる領域にある。Ａ：（Ｂｉ_２Ｏ_３、Ａｇ_２Ｏ）＝（２．５モル％、６０．０モル％）、Ｂ：（Ｂｉ_２Ｏ_３、Ａｇ_２Ｏ）＝（１２．５モル％、５０．０モル％）、Ｃ：（Ｂｉ_２Ｏ_３、Ａｇ_２Ｏ）＝（１２．５モル％、４２．５モル％）、Ｄ：（Ｂｉ_２Ｏ_３、Ａｇ_２Ｏ）＝（３２．５モル％、２．５モル％）、Ｅ：（Ｂｉ_２Ｏ_３、Ａｇ_２Ｏ）＝（１７．５モル％、２．５モル％）、Ｆ：（Ｂｉ_２Ｏ_３、Ａｇ_２Ｏ）＝（１７．５モル％、１０．０モル％）、Ｇ：（Ｂｉ_２Ｏ_３、Ａｇ_２Ｏ）＝（２．５モル％、２５．０モル％）。 （もっと読む）

【課題】本発明は、一段階の簡略な工程で加熱することなく結晶化ガラス状の硫化物固体電解質材料を得ることが可能な硫化物固体電解質材料の製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明においては、少なくとも硫黄（Ｓ）元素および第１３族〜第１５族の元素を含有する原料組成物を用い、室温での高エネルギーメカノケミカル処理を行う合成工程のみにより、結晶化ガラス状の硫化物固体電解質材料を得ることを特徴とする硫化物固体電解質材料の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】非酸化雰囲気(減圧雰囲気、不活性雰囲気等)であっても、４５０〜８００℃の中温度域で金属材料等を良好に封着可能なＳｎＯ−Ｐ_２Ｏ_５系ガラスを含むガラスタブレットを創案することにより、長期間に亘って、封着部分の気密性を確保すること。
【解決手段】本発明の封着用ガラスタブレットは、少なくともＳｎＯ−Ｐ_２Ｏ_５系ガラスを含む封着用ガラスタブレットにおいて、ＳｎＯ−Ｐ_２Ｏ_５系ガラスが、ガラス組成として、モル％表示で、ＳｎＯ １５〜３０％（但し、３０％を含まず）、Ｐ_２Ｏ_５ ２０〜４０％、ＷＯ_３ ５〜２０％（但し、５％を含まず）、ＺｎＯ ６〜３０％（但し、３０％を含まず）を含有し、モル比ＳｎＯ／ＺｎＯが１以上、４．５以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、非酸化雰囲気(減圧雰囲気、不活性雰囲気等)であっても、４５０〜８００℃の中温度域で金属製被封止物を良好に封止可能なＳｎＯ−Ｐ_２Ｏ_５系ガラスからなる封止用ガラスを創案することにより、長期間に亘って、封止部分の気密性を確保することを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の封止用ガラスは、金属製被封止物を封止するための封止用ガラスであって、ガラス組成として、モル％表示で、ＳｎＯ １５〜３０％（但し、３０％を含まず）、Ｐ_２Ｏ_５ ２０〜４０％、ＷＯ_３ ５〜２０％（但し、５％を含まず）、ＺｎＯ ３．４〜３０％（但し、３０％を含まず）を含有し、モル比ＳｎＯ／ＺｎＯが１以上４．５以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】減圧雰囲気であっても、５００〜８００℃の中温度域で金属製二重容器を良好に封止可能なＳｎＯ−Ｐ_２Ｏ_５系ガラスからなる封止ガラスを創案することにより、長期間に亘って、金属製二重容器の気密性を確保すること。
【解決手段】本発明の封止ガラスは、ガラス組成として、モル％表示で、ＳｎＯ １５〜３０％（但し、３０％を含まず）、Ｐ_２Ｏ_５ ２０〜４０％、ＷＯ_３ ５〜２０％（但し、５％を含まず）、ＺｎＯ ３．４〜３０％（但し、３０％を含まず）を含有し、モル比ＳｎＯ／ＺｎＯが１以上４．５以下であると共に、金属製二重容器の封止に用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】封着材料層のコーナー部へのレーザ照射に起因するガラス基板や封着層のクラックや割れ、また封着ガラスの発泡による気密性の低下等を抑制することを可能にした封着材料層付きガラス部材およびそれを用いた電子デバイスを提供する。
【解決手段】ガラス基板３は封止領域５を備える。ガラス基板３の封止領域７上には、封着ガラスと低膨張充填材とレーザ吸収材とを含有する封着材料からなる封着材料層７が設けられている。枠状の封着材料層７は直線部７ａとコーナー部７ｂとで構成されている。封着材料層７はコーナー部７ｂの幅Ｌ₁₂が直線部７ａの幅Ｌ₁₁より広い。 （もっと読む）

【課題】原料を微粒子化するために用いるニトリル溶媒と同一の溶媒中で固体電解質ガラスを製造できる方法を提供する。
【解決手段】リチウム（Ｌｉ）元素、リン（Ｐ）元素及び硫黄（Ｓ）元素を含む固体電解質ガラスであって、ニトリル化合物を含み、熱量計測定装置の１５０℃までの重量減少量が５重量％以下である固体電解質ガラス。 （もっと読む）