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Fターム[4G062CC10]の内容

ガラス組成物 (224,797) | 原材料、その処理・製造方法・組成表示 (1,846) | モル%表示 (805)

Fターム[4G062CC10]に分類される特許

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【課題】ガラスを原料として、2種以上の異なる光触媒化合物を必要十分な量で含有し、優れた光触媒活性を有する光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】 焼結体の製造方法は、組成が異なる2種以上のガラス粉粒体を混合して混合物を作製する工程と、混合物を加熱し、光触媒活性を有する結晶を含むガラスセラミックスの焼結体を作製する工程と、を備えている。得られる焼結体は、TiO結晶、WO結晶、ZnO結晶、RnNbO結晶、RnTaO結晶(ここで、Rnはアルカリ金属を意味する)、及びこれらの固溶体からなる群より選択される2種以上の結晶を含むことができる。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、屈折率1.90〜2.10、アッベ数15〜27の範囲の光学定数を有するような高屈折率高分散領域で、部分分散比が小さい光学ガラスを提供することにある。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でB成分を10.0〜50.0%、及びLa成分を5.0〜30.0%、Nb成分を5.0〜30.0%、Ta成分を0.5〜15.0%含有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(ν)との間で、ν≦25の範囲において(−0.00160×ν+0.63460)≦(θg,F)≦(−0.00562×ν+0.75663)の関係を満たし、ν>25の範囲において(−0.00250×ν+0.65710)≦(θg,F)≦(−0.00260×ν+0.68100)の関係を満たす光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】高屈折率で高透明の光学ガラスを提供する。
【解決手段】1.945≦nd≦1.97の屈折率nd、33≦νd≦36のアッベ数νdならびに410nmおよび10mmの厚さで>80%の内部透過率を有する、鉛およびヒ素を含まない光学ガラスであって、前記ガラスはB3+35−46カチオン%、La3+25−35カチオン%、Ta5+6−14カチオン%、W6+6−13カチオン%、Zr4+1−7カチオン%、Gd3+0−5カチオン%、Nb5+0−4カチオン%、Y3+0−4カチオン%、Ba2+0−2カチオン%、Σアルカリ土類酸化物0−2カチオン%を有することを特徴とする光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】低融点特性を有するにもかかわらず、真空焼成によりガラス組成中のビスマスが還元し難いビスマス系ガラスを創案すること。
【解決手段】本発明のビスマス系ガラスは、ガラス組成として、モル%で、Bi 10〜30%、B 25〜45%、ZnO 5〜20%、SiO 1〜15%、SrO 5〜20%、BaO 3〜20%、SrO+BaO(SrO、BaOの合量) 10〜35%を含有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】基材上に優れた光触媒活性を有するとともに耐久性にも優れた光触媒層を設けた複合体を提供する。
【解決手段】複合体は、基材と、この基材上に位置するガラスセラミックス層と、を備えるものであって、前記ガラスセラミックス層は、酸化物基準のモル%で、TiO成分を5.0%以上99.0%以下、並びに、SiO成分、B成分、P成分及びGeO成分からなる群より選択される1種以上を合計で1.0%以上85.0%以下含有し、前記ガラスセラミックス層が結晶相及びガラス相を有しており、前記ガラスセラミックス層の日本工業規格JIS R 1703−2:2007に基づくメチレンブルーの分解活性指数が3.0nmol/L/min以上である。 (もっと読む)


YP−ガラスとY原料物質との反応を含む、YPO4セラミックを製造するための反応性セラミック化方法。本発明は、とりわけ、比較的低温、比較的短時間、および低コストで、純粋相のYPO4セラミック材料を合成するのに用いることができる。本発明は、例えば、大きい寸法のガラスシートを製造するためのフュージョンダウンドロー法におけるアイソパイプに適した大きいYPO4ブロック片の製造に使用することができる。
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本発明は、アルミノケイ酸リチウムガラス及びアルミノケイ酸リチウムガラスを製造する方法に関し、該ガラスは、(mol%で)以下の組成:60〜70 SiO、10〜13 Al、0.0〜0.9 B、9.6〜11.6 LiO、8.2〜<10 NaO、0.0〜0.7 KO、0.0〜0.2 MgO、0.2〜2.3 CaO、0.0〜0.4 ZnO、1.3〜2.6 ZrO、0.0〜0.5 P、0.003〜0.100 Fe、0.0〜0.3 SnO、0.004〜0.200 CeOを有する。以下の比率及び条件:(LiO+Al)/(NaO+KO)>2、0.47<LiO/(LiO+NaO+KO)<0.70、0.8<CaO+Fe+ZnO+P+B+CeO<3(式中、6つの酸化物のうち少なくとも4つが含まれる)が、本発明によるガラスに適用される。このようなアルミノケイ酸リチウムガラスは、少なくとも82GPaの弾性率を有する。その上、それは、540℃未満のガラス転移温度T及び/又は1150℃未満の加工温度を有する。ガラスは、フロートプロセスを用いた成形に好適であり、少なくとも550N/mmの曲げ強度を有し得るように化学的及び/又は熱的に強化することができる。 (もっと読む)


【課題】SiAlONなどの窒化物蛍光体を分散することができ、また蛍光体の失活を防止した蛍光体分散用ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス網目を形成する少なくとも1種類の酸化物と、組成比が60mol%以下の二価の酸化物と、アルカリ金属酸化物を含むガラス。ガラス網目を形成する酸化物はTeO2及びB2O3からなるグループから選ばれ、二価の酸化物はZnO及びアルカリ土類金属の酸化物からなるグループから選ばれる。該ガラスを粉砕して窒化物蛍光体とともに二次溶融することにより窒化物蛍光体を分散したガラスの製造。 (もっと読む)


【課題】金属粉末およびガラスフリットを含有するペーストの使用下に、ガラスおよび琺瑯鋼支持体上に、導電性被膜を製造することのできる方法を呈示する。
【解決手段】本発明は、スクリン印刷可能なアルミニウムペーストの使用下にガラスおよび琺瑯鋼上に導電性被膜を製造する方法に関し、使用すべきペーストはアルミニウム粉末40〜80質量%、殊に50〜75質量%、400〜700℃、殊に420〜580℃の軟化開始温度を有するガラスフリット5〜40質量%、殊に9〜25質量%、液状または熱可塑性の媒体10〜35質量%および焼結助剤0〜10質量%を含有する。ペーストで塗布された支持体は、500〜750℃、殊に590〜690℃で焼付けられる。支持体上の被膜は、100μオーム・cmより小さい、殊に10〜70μオーム・cmの範囲内の低い抵抗率および良好な接着により優れている。 (もっと読む)


【課題】 光学ガラスに求められる要求特性を全て満足し、しかも、金型や金属製ホルダーに近似した熱膨張係数と高い屈折率と高い硬度を兼ね備えた光学ガラスを提供することである。
【解決手段】 本発明の光学ガラスは、モル百分率で、B 10〜30%、ZnO 5〜30%、La 5〜15%、TeO 10〜45%、Nb 5〜20%、TiO 0〜10%、WO 2〜10%、SiO 0〜5%、Al 0〜5%、CaO 0〜7%、BaO 0〜7%、SrO 0〜7%、LiO 0〜5%、NaO 0〜5%、KO 0〜5%を含有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、安価な単体原料を用いて、組成を制御することにより、未反応のLiSが残存しにくく、Liイオン伝導性に優れた硫化物固体電解質材料を得ることができる硫化物固体電解質材料の製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明においては、硫化リチウム(LiS)、単体硫黄(S)および単体リン(P)を含有し、S元素とP元素との総モル比:S/Pが、4以下であり、Li元素とP元素との総モル比:Li/Pが、3以下となるように原料組成物を調製する原料組成物調製工程と、上記原料組成物に対して、メカニカルミリングを行い、硫化物ガラスを合成するガラス化工程とを有することを特徴とする硫化物固体電解質材料の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】鉛フリーで、かつ半導体やガラス基板中に移動して抵抗値を変化させる成分を含まない、ガラス組成物を結合剤として含む高導電性ペースト組成物を提供する。
【解決手段】アルカリ金属を含まないビスマス系導電ガラス(A)を結合剤として含み、さらに、導電性金属粉末および金属含有化合物(B)、高分子物質(C)、及び(C)を溶解もしくは分散させることのできる溶剤もしくは液状物質(D)を含む高導電性ペースト組成物とする。 (もっと読む)


【課題】
近年においては、鉛フリー化が求められ、Bi系のフリットガラスを用いるように なってきた。しかし、Bi系のフリットガラスは、アルカリ金属を添加して、低融点
化されているが、アルカリ金属は半導体やガラス基板中に移動し、抵抗値を変化させ るため、アルカリ金属を含まない組成物にする事が好ましい。また従来のガラス組成 物は、絶縁ガラス組成物であり、導電性は有していなかった。
【解決手段】
本発明者は、ガラスペースト組成物中のガラス組成物として、バナジウム系の導電ガ
ラス組成物を用いることにより、導電性を付与し、さらに、鉛フリーであり、アルカリ
金属を含有しない低温焼成型の導電性ガラスペースト組成物を発明した。本発明は、導
電ガラス組成物を結合剤として、また機能性フィラーとして機能するように設計した。 (もっと読む)


【課題】高屈折率高分散性を有し、部分分散比が小さく、透過率が良好な光学ガラスの提供。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%で、P成分を10.0〜60.0%、Nb成分を10.0〜45.0%、TiO成分を0〜30.0%含有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(ν)との間で、ν≦25の範囲において(−0.0016×ν+0.63460)≦(θg,F)≦(−0.00563×ν+0.75873)の関係を満たし、ν>25の範囲において(−0.0025×ν+0.65710)≦(θg,F)≦(−0.0034×ν+0.70300)の関係を満たす光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】精密プレス成形法によって高品質なガラス光学素子を得ることが可能なプレス成形用ガラス素材を提供すること。
【解決手段】光学ガラスからなる芯部と、少なくとも前記芯部の光学機能面となる部位を覆う厚み15nm未満の珪素酸化物膜とを有し、かつ、三液法によって測定される表面自由エネルギーが75mJ/m以下であるプレス成形用ガラス素材。光学ガラスからなる芯部と、少なくとも芯部の光学機能面となる部位を覆う厚み15nm未満の珪素酸化物膜とを有するプレス成形用ガラス素材の製造方法。SiOからなる成膜材料を用いて、不活性ガスと酸素との混合ガス雰囲気であって、酸素含有率が5体積%以上20体積%未満の範囲である雰囲気下で成膜処理を行うことにより前記珪素酸化物膜を前記芯部の前記部位上に形成する。 (もっと読む)


【課題】屈折率の低下を招くことなしに、ガラスの耐失透性を改善した光学ガラスを提供する。
【解決手段】モル%で、B:60%超え、75%以下、Bi:24%以上、39%以下、La:7%以下、Gd:7%以下およびZrO:7%以下の組成からなり、ガラス転移点(Tg)が500℃以下であり、屈折率(nd)が1.85以上で、かつ、アッベ数(νd)が15.0〜30.0の光学恒数を有することを特徴とする (もっと読む)


固体酸化物セラミックは、イットリア安定化ジルコニア(YSZ)、チタン酸ランタンストロンチウム(LST)、マンガン酸ランタンストロンチウム(LSM)および酸化ニッケル−YSZ複合材料からなる群から選択される少なくとも1つの材料を含む、1つの表面を画定する基板を含む。固体酸化物セラミックはさらに、表面の少なくとも一部分をコーティングし、サンボルナイト(BaO・2SiO)結晶相、ヘキサセルシアン(BaO・Al・2SiO)結晶相および残留ガラス相を含み、前記表面において基板の熱膨張係数以下の熱膨張係数を有するシールを含む。ガラス組成物のガラス結晶化温度とガラス転移温度の差は、約20℃/分の加熱速度で約200℃〜約400℃の範囲内であり得る。
(もっと読む)


【課題】脈理や異物が少なく、優れた耐候性と可視域における優れた透過特性を有する近赤外光吸収ガラス、および近赤外光吸収フィルター、ならびに前記フィルターを備える撮像装置を提供する。
【解決手段】近赤外光吸収ガラスが、Cu含有のフツリン酸ガラスからなり、P5+の含有量が20〜45カチオン%、Al3+の含有量が1〜25カチオン%、Liの含有量が10〜30カチオン%、Naの含有量が0〜15カチオン%、Mg2+、Ca2+、Sr2+およびBa2+の合計含有量が14〜50カチオン%、Cu2+の含有量が0.1〜10カチオン%、Ce4+およびSb3+の外割り合計含有量が0.005〜2カチオン%、O2−の含有量が50〜75アニオン%、Fの含有量が25〜50アニオン%、Cl、BrおよびIの外割り合計含有量が0.001〜1アニオン%である。
である (もっと読む)


【課題】耐候性に優れた情報記録媒体用ガラス基板の提供。
【解決手段】アルカリアルミノシリケート系ガラスからなり、β‐OH値が0.20mm−1以上である情報記録媒体用ガラス基板。アルカリアルミノシリケート系ガラスが下記酸化物基準のモル%表示で、SiOを64〜67%、Alを8〜10%、LiOを10〜13%、NaOを9〜12%、KOを0〜2%、ZrOを2〜4%含有し、LiO、NaOおよびKOの含有量の合計が21〜25%である前記情報記録媒体用ガラス基板。 (もっと読む)


【課題】本発明は、硫化水素発生量が極めて少ない硫化物固体電解質材料の製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、LiS、および第14族または第15族の元素の硫化物を、両者の合計に対するLiSの割合が、オルト組成を得るLiSの割合未満となるように混合してなる原料組成物を、第一ガラス化処理によりガラス化することにより、LiSを有さず、架橋硫黄を有する中間体を形成する第一ガラス化工程と、上記中間体に、上記架橋硫黄の結合を切断する結合切断用化合物を混合してなる中間体含有組成物を、第二ガラス化処理によりガラス化することにより、上記架橋硫黄を消失させる第二ガラス化工程と、を有することを特徴とする硫化物固体電解質材料の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


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