本発明はディスプレイの分野に関係する。
本発明の対象の一つは電界放出ディスプレイ用の基材を製造するためのガラス組成であり、これは光源Ｄ_６５の下での全体的な透過率ＴＬ_{（Ｄ６５）}を有し、２．８ｍｍのガラス厚の場合に測定すると、この値が４５〜８０％で変化し、そして好ましくは７２％又はそれより小さく、かつこのガラス組成は以下の色座標によって定義される青−灰色着色を有する：
ａ＊＝−４〜＋１、好ましくは−２〜０；及び
ｂ＊＝−６〜＋３、好ましくは−２〜０。
得られた基材は都合よく１０Ｃｄ／ｍ^２未満の反射輝度（Ｒ）を有する。 （もっと読む）

【課題】 抵抗体のための焼成工程を追加することなく、抵抗体をガラスセラミック配線基板と同時焼成したとしても、抵抗体が導体及びガラスセラミック配線基板の表面に強固に接合された高寸法精度のガラスセラミック配線基板及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 ガラスセラミックスから成る絶縁基体の表面に配線導体と配線導体に接続された抵抗体とが形成されたガラスセラミックス配線基板において、抵抗体は１５乃至６５質量％のガラスと３５乃至８５質量％の酸化錫とからなり、酸化錫の平均粒径が０．９乃至１．４μｍである。 （もっと読む）

【課題】アッベ数（νｄ）が５０〜５９であって、プレス成形型と反応しにくい性質、低温軟化性、優れたガラス安定性、高屈折率特性を有し、精密プレス成形に適した光学ガラスを提供する。
【解決手段】モル％表示で、Ｂ_２Ｏ_３とＳｉＯ_２の合計含有量（Ｂ_２Ｏ_３＋ＳｉＯ_２）が４５〜７０％、Ｂ_２Ｏ_３含有量に対するＳｉＯ_２含有量のモル比率（ＳｉＯ_２／Ｂ_２Ｏ_３）が０．１〜０．５であり、Ｌａ_２Ｏ_３ ５〜１５％、Ｇｄ_２Ｏ_３ ０．１〜８％、Ｙ_２Ｏ_３ ０〜１０％、Ｌｉ_２Ｏ ３〜１８％、ＺｎＯ ０．１〜１５％、ＣａＯ ２〜２０％、ＢａＯ ０〜５％ＳｒＯ ０〜５％、ＭｇＯ ０〜５％、およびＺｒＯ_２ ０〜５％を含み、かつ式（１） νｄ≧３０８．５−１５０×ｎｄ（ただし、５０≦νｄ≦５９） …（１）の関係を満たす屈折率（ｎｄ）及びアッベ数（νｄ）を有する光学ガラスである。 （もっと読む）

【課題】耐電圧が高く、しかも透明性に優れた誘電体層を形成することが可能なプラズマディスプレーパネルの誘電体形成用ガラス粉末を提供する。
【解決手段】５０％粒子径Ｄ₅₀が２．８μｍ以下であるプラズマディスプレーパネルの誘電体形成用ガラス粉末であって、重量百分率でガラス粉末６０〜８０％、セラミック粉末０〜１０％、熱可塑性樹脂５〜３０％、可塑剤０〜１０％で構成される誘電体形成用グリーンシートの構成成分として使用されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高プロトン導電性を維持しつつ、且つ、水分雰囲気に対する耐久性を高めるのに有利な高プロトン導電性ガラス、これを製造できる製造方法を提供する。
【解決手段】アルカリ土類金属の酸化物、Ｐ₂Ｏ₅系を主要成分とすると共にプロトン導電性をもつ高プロトン導電性ガラスであって、Ａｌ及びシリカのうちの少なくとも１種を外付け添加割合で０．０２〜８モル％含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】白色フリットの熱膨張率を素地ガラスのそれと実質的に一致させ、色筋部分と素地ガラスの界面にほとんど残留応力を生じさせない。
【解決手段】素地ガラスよりも熱膨張率の小さな白色フリットと大きな白色フリットの２種類の白色フリットを製造し、この２種類の白色フリットを素地ガラスの熱膨張率に適合させるように混合して素地ガラスに混入することにより、熱膨張率を素地ガラスにほぼ完全に一致させることができ、色筋部分と素地ガラスの界面にほとんど残留応力が生じない。 （もっと読む）

【課題】高屈折率低分散性を有し、さらに高い転移温度（Ｔｇ）を有し、精密プレス成形に使用するガラスプリフオーム材、及び精密プレス成形に適した光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率（ｎｄ）が１．９以上、アッベ数（νｄ）が２５以上を有し、ＳｉＯ_２、Ｂ_２Ｏ_３及びＧｅＯ_２からなる群より選択される１種又は２種以上、並びにＬａ_２Ｏ_３、Ｎｂ_２Ｏ_５、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｌｉ_２Ｏ及びＺｎＯを含有する光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】 充分な強度を備える画像表示装置用スペーサとこのスペーサを備えた画像表示装置を提供すること。
【解決手段】 ＳｉＯ_２を１０〜３５質量％、ＲＯ（但し、Ｒはアルカリ土類金属を示す）を２０〜６０質量％、Ｂ_２Ｏ_３を９〜３０質量％、及びＡｌ_２Ｏ_３を０〜１０質量％、Ｓｂ_２Ｏ_３を０．０１〜５質量％含有するガラス基材を有するスペーサ。 （もっと読む）

第一に、不純物が少なく且つ天然石英ガラスと同等以上の高温粘度特性を有し、高温環境下にあっても変形し難い合成石英ガラスの製造方法、特に発泡が無く緻密な高耐熱性合成石英ガラスの製造方法を提供する。第二に、本発明の製造方法により容易に得られる高耐熱性合成石英ガラス体、特に、発泡が無く緻密、赤外線吸収率及び放出率が高い、またアルカリ金属拡散防止効果が極めて高い透明又は黒色石英ガラス体を提供する。
２４５ｎｍの吸収係数が０．０５ｃｍ^−１以上である高耐熱性石英ガラス体を製造する方法であって、シリカ多孔質体を、還元処理した後、焼成して緻密なガラス体とするようにした。
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【課題】耐破砕性を格段に向上した、薄型・軽量化に適用可能な高強度ガラス材を提供する。
【解決手段】Ｐｒ，Ｎｄ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｌｕの群から選ばれた少なくとも一種の希土類元素を含み、さらに少なくともＳｉ元素とアルカリ金属元素を含有する酸化物系ガラスの表面部に圧縮応力層を形成した。希土類元素は、酸化物換算で１〜１０重量％、圧縮応力層はアルカリ金属イオン交換による化学強化によって形成される。酸化珪素とアルカリ酸化物からなるガラスの中に希土類酸化物を添加して高強度ガラス素材ＨＩＧとし、これに化学強化を施してガラス表面に化学強化層ＣＳＬを形成する。 （もっと読む）

【課題】結晶を容易に配向させて、これにより、結晶が配向された結晶化ガラスを簡便に製造する。
【解決手段】原ガラスを所定の温度で熱処理して結晶化ガラスを製造する結晶化ガラスの製造方法であって、熱処理の際に、析出されるフレスノイト型結晶を配向させるように原ガラスに０．５テスラ［Ｔ］以上の磁場を印加する。 （もっと読む）

【課題】プラスイオンの抑制効果と、マイナスイオンを増幅効果で該イオンを多量かつ持続的に発生し、同時に遠赤外線を放射するガラス組成物を提供する。
【解決手段】ガラス基材と極微細な放射線を放出する稀有元素類を含む鉱物と、トルマリン若しくは遠赤外線セラミックのいずれか一方の混合物を、溶融し成形したガラス組成物とし、プラスイオンを抑制減少し、マイナスイオンを増幅し多量かつ持続的に発生し、同時に遠赤外線も増幅し、持続的に放射させることができる構成とする。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）のコントラストの向上が可能となり得るプラズマディスプレイパネル前面基板の製造方法の提供。
【解決手段】透明電極が形成されているガラス基板がガラス層によって被覆されているプラズマディスプレイパネル前面基板の製造方法であって、ガラス層とガラス基板が接している部分の色がＬ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系で表して−５＜ａ^＊＜−１．２かつ−６＜ｂ^＊＜０となるようなガラス層によって前記ガラス基板を被覆するＰＤＰ前面基板の製造方法。ガラス層が質量百分率表示で、ＰｂＯ ３５〜５５％、Ｂ_２Ｏ_３ １５〜３０％、ＳｉＯ_２ ２〜１５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜１５％、ＢａＯ ０〜２５％、ＣｕＯ ０．２〜１％、ＣｏＯ ０．３〜０．９％、ＣｅＯ_２ ０〜２％、から本質的になり（Ｂ_２Ｏ_３＋ＳｉＯ_２）が１７〜４４％であるガラスからなる前記ＰＤＰ前面基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 薄型・軽量化に適用可能な高強度ガラス材を提供する。
【解決手段】 Ｐｒ，Ｎｄ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｌｕの内の少なくとも１種類の希土類元素を含有するガラス材の表面部に、超短パルスレーザーを照射することにより、前記希土類元素を少なくとも含む結晶質の異質相を形成し、薄型・軽量化しても耐破砕性が要求される各種構造部材、磁気デイスク材、ＦＰＤ材料、食器、窓ガラス等に利用できる。 （もっと読む）

【課題】 信頼性の高い抵抗体を実現する。
【解決手段】 原料混合粉末を溶融した後急冷することにより、ＡＯ（Ａはアルカリ土類金属元素を表す。）、Ｂ_２Ｏ_３及びＳｉＯ_２を含有する抵抗体ペースト用ガラス組成物を製造する抵抗体ペースト用ガラス組成物の製造方法であって、原料混合粉末がＡＳｉＯ_３又はＡＢ_２Ｏ_４の少なくとも一方を含有する。または、原料混合粉末を溶融した後急冷することにより、ＡＯ（Ａはアルカリ土類金属元素を表す。）、Ｂ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２及び第４の酸化物成分を含有する抵抗体ペースト用ガラス組成物を製造する抵抗体ペースト用ガラス組成物の製造方法であって、原料混合粉末がＡＳｉＯ_３、ＡＢ_２Ｏ_４、第４の酸化物成分を構成する酸素以外の元素とＡとの複合酸化物から選ばれる少なくとも１種を含有する。ＡはＣａ、Ｓｒ、Ｂａから選ばれる少なくとも１種である。 （もっと読む）

【課題】 環境問題になっている鉛を含んだハンダ及びフィラの使用が困難になってきているがガラス等の接着に無鉛金属を使用する有効な接着方法が開発されていない。
【解決の手段】一液加熱硬化型アルカリ−ケイ酸系ガラス１２〜２８質量％に純アルミニュームの含有量が５２〜６０質量％、純銀の含有量が１６〜２２質量％であるコーティング材を用い、その素地面にニッケル鍍金銀鍍金又は銅鍍金施したものを重ね合わせ、２２０〜３００℃まで加熱、銀−錫ハンダによりシーリングしたガラス容器。 （もっと読む）

【課題】ＵＶ領域以下の短波長の露光に用いられる反射型フォトマスク用Ｔｉドープ低熱膨張石英ガラス基板につき、平坦度≦１００ｎｍ、表面の自乗平均平方根粗さ≦０．１５ｎｍＲＭＳを同時に満足する加工法を提供する。
【解決手段】不活性ガスと反応ガスとの混合ガス中にガラス基板を配し、ガラス基板に対向して設けた電極に高周波電圧を印加して生成した局所的なプラズマによって反応ガスのラジカルを生成し、ガラス基板とラジカルとを化学反応させて生成する反応生成物の揮発量を、予め測定したガラス基板の表面形状データを基に制御してガラス基板表面を高平坦化する方法において、ガラス基板がＴｉドープ低熱膨張石英ガラスであり、混合ガス全量に対して酸素系ガスの存在が０．０１ｖｏｌ％以下で加工を行なう。 （もっと読む）

高シリカ純度で、形状と粒子径が均斉のとれたシリカマイクロスフィアを提供する。外径５０〜１２５μｍ、好ましくは６０〜９０μｍ、壁厚１μｍ以上、好ましくは１〜３μｍ、および密度０．３〜０．７ｇ/ｃｍ^３を有し、シリカマイクロスフィア(Ｍ)全重量に対してシリカを９５重量％以上、好ましくはシリカマイクロスフィア(Ｍ)全重量に対してシリカを９９重量％以上含むシリカマイクロスフィア(Ｍ)である。 （もっと読む）

【課題】 鉛フリーで、例えば１０ｋΩ／□以下の低い抵抗値を有する抵抗体において、ＴＣＲ特性を改善する。
【解決手段】 導電性材料及びガラス組成物を含有し、これらが有機ビヒクルと混合されてなる抵抗体ペーストであって、前記導電性材料としてＲｕＯ_２を含有するとともに、希土類元素と、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｍｇから選ばれる少なくとも１種との複合酸化物は、Ｒ_{（２−ｘ）}Ａ_（ｘ）Ｒｕ_２Ｏ_７（Ｒは元素番号５７〜７１の希土類元素から選ばれる少なくとも１種であり、ＡはＣａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｍｇから選ばれる少なくとも１種である。また、０＜ｘ≦１．０である。）である。ＲはＮｄ、Ｓｍ、Ｇｄ、Ｄｙ、Ｅｒ、Ｌｕから選ばれる少なくとも１種類である。ガラス組成物は、ＣａＯ、Ｂ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２及びＭｎＯを含有する。 （もっと読む）

【課題】耐熱性と耐結晶化性に優れ、希土類の熔解が可能で光安定性に優れるカルコゲナイドガラスを提供する。
【解決手段】ＲＳ−Ｇａ_２Ｓ_３系（Ｒはアルカリ土類金属）で、ＲＳとＧａ_２Ｓ_３のモル比が1以上であり、さらにＧｅＳ_２を１〜４０モル％を添加したＲＳ−Ｇａ_２Ｓ_３−ＧｅＳ_２系ガラス。耐熱性を表すガラス転移温度が５００℃以上、耐結晶化性を表す結晶化開始温度とガラス転移温度の差が１５０℃以上で、希土類の熔解が可能であり、さらに光安定性に優れた硫化物ガラスが得られる。 （もっと読む）