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Fターム[4G062EA01]に分類される特許
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封着材料及びこれを用いたペースト材料
【課題】低出力のレーザでレーザ封着が可能な封着材料を創案することにより、有機EL素子パッケージを利用した有機ELデバイス等の長期信頼性を高める。
【解決手段】本発明の封着材料は、少なくともSnO含有ガラス粉末、耐火性フィラー、及び顔料を含む封着材料であって、(SnO含有ガラス粉末の平均粒径D50)/(耐火性フィラーの平均粒径D50)比が0.6〜4であり、且つレーザ封着に用いることを特徴とする。
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磁気ディスク用ガラス基板の製造方法
【課題】真円度に優れた磁気ディスク用ガラス基板を効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラス基板Gの製造方法であって、溶融したガラスの塊GGを落下させる落下工程と、前記塊の落下経路の両側から、互いに対向する一対の型121,122の面121a,122aで前記塊GGを同じタイミングで挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材Gを成形するプレス工程と、前記板状ガラス素材Gを加工する加工工程と、を有し、前記塊GGの落下方向の速度成分について、前記一対の型121,122に対する前記塊GGの相対速度を0に近づけるべく、前記プレス工程は、前記塊GGが落下する方向に前記一対の型121,122が移動しながら、前記塊GGを挟み込むことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板Gの製造方法。
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セラミックメタルハライドランプ用ガラスフリット
【課題】セラミックメタルハライドランプにおいて、シール部材であるガラスフリットに発生する気泡が原因となる接合部の折れやリークを抑制するセラミックメタルハライドランプ用ガラスフリットを提供すること。
【解決手段】ガラスフリットの製造工程において、1100℃以上の温度で10時間以上保持する炭素除去工程を設けることにより、シール工程における一酸化炭素や二酸化炭素などのガスの発生を抑え、気泡を抑制する。またガラスフリットに発生した気泡が原因となるリークの発生も抑制する。
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強化板ガラスの製造方法
【課題】ガラス表面の強度を十分に強化することができ、しかも高い製造効率で安定した品位の強化板ガラスを製造するための強化板ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】アルミノシリケートガラスである板ガラスの表面に対して、化学強化による圧縮応力層を形成する圧縮強化処理工程と、該圧縮強化処理工程により化学強化された板ガラスをスクライブ割断して、強化板ガラスを得る分割加工工程とを有すると共に、前記スクライブ割断の際に形成される切り傷の深さが、圧縮応力層厚さより大きく、且つ前記該圧縮強化処理工程により化学強化された板ガラスが内部の引っ張り応力により破壊しないように、前記スクライブ割断を行う。
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ガラス組成物
【課題】鉛を含まず、低いガラス転移点(Tg)並びに高屈折率で、被覆作業後もガラスと蛍光体が反応せず高い蛍光特性と信頼性を有するビスマス系ガラス組成物を提供する。
【解決手段】Bi2O3を含有し、ガラス転移点(Tg)が500℃以下であるガラス組成物。Bi2O3−B2O3−ZnO系ガラスである前記ガラス組成物。酸化物基準のモル%表示で、5〜50%のB2O3、5〜90%のBi2O3、5〜70%のZnOの各成分を含有する前記ガラス組成物。酸化物基準のモル%表示でZnO/B2O3の比の値が0.2以上かつZnO/Bi2O3の比の値が0.2以上であることを特徴とする前記ガラス組成物。
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ガラスペースト、それを用いたプラズマディスプレイパネルの製造方法
【課題】省電力のプラズマディスプレイパネルおよびそれを製造するためのガラスペーストを提供する。
【解決手段】 低軟化点ガラス粉末および有機成分を含むガラスペーストであって、前記低軟化点ガラスは、FeOとFe2O3を重量基準で合計1〜1000ppmの範囲内含み、FeOとFe2O3の含有量の合計に対するFeOの含有量の比が重量基準で0.40〜0.95の範囲内であることを特徴とするガラスペーストとする。
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光学ガラス
【課題】所望の光学特性を有し、かつ、耐失透性に優れ量産性に優れた光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率(nd)が1.75〜1.95、アッベ数(νd)が15〜35のSiO2−Nb2O5−TiO2系ガラスからなり、作業温度範囲(ΔT)=(100.5ポイズでの温度−液相温度)が20℃以上であることを特徴とする光学ガラス。ガラス組成として、質量%で、SiO2 15〜45%、Nb2O5 15〜40%(ただし、40%を含まない)、TiO2 1〜30%を含有することが好ましい。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】光学素子の色収差の補正に有用であり、且つ、研磨時や運搬時等に傷や割れが発生し難い光学ガラスと、これを用いたプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成でBi2O3成分、SiO2成分及び/又はB2O3成分並びにF成分を含有し、「JOGIS09−1975光学ガラスのヌープ硬さの測定方法」に準じた測定方法において、250以上のヌープ硬さ(Hk)を有し、部分分散比[θg,F]が0.63以上、アッベ数[νd]が27以下であり、部分分散比[θg,F]>−0.0131×[νd]+0.9000を満たす。
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ガラス組成物及びその用途
【課題】ガラスの失透を抑え、ガラスの成形を良好に行うことができるとともに、ポリカーボネート樹脂に配合されるガラスフィラーとして好適に用いられ、屈折率及びアッベ数をポリカーボネート樹脂のそれらに近づけてポリカーボネート樹脂成形体の透明性を向上させることができるガラス組成物及びその用途を提供する。
【解決手段】ガラス組成物は、必須成分として二酸化珪素(SiO2)、酸化アルミニウム(Al2O3)及び酸化チタン(TiO2)を含有し、さらに酸化リチウム(Li2O)、酸化ナトリウム(Na2O)及び酸化カリウム(K2O)の少なくとも1種を含有する。各成分の含有量は質量%で表して、45≦SiO2≦65、0.1≦Al2O3≦15、9≦(Li2O+Na2O+K2O)≦25及び15≦TiO2≦25である。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】光学素子の色収差の補正に有用であり、且つ、研磨時や洗浄時等にガラス表面に曇りが発生し難い光学ガラスと、これを用いたプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成でBi2O3成分、SiO2成分及び/又はB2O3成分並びにF成分を含有し、粉末法による化学的耐久性(耐水性)がクラス1〜5であり、部分分散比[θg,F]が0.63以上、アッベ数[νd]が27以下であり、部分分散比[θg,F]>−0.0131×[νd]+0.9000を満たす。
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光学ガラス、プレス成形用プリフォーム、光学素子およびそれらの製造方法
【課題】フツリン酸塩ガラスからなる光学ガラスを作製したり、得られたガラスを熔融状態でパイプから流出してガラス成形体に成形する場合に、ガラス成分の揮発を抑制し、ガラス組成の変動に伴う品質のばらつきを抑制し得る低分散の光学ガラスを提供する
【解決手段】アッベ数(νd)が70を超え、P5+の含有量に対するO2-の含有量のモル比O2-/P5+が3.5以上であるフツリン酸塩ガラスからなる光学ガラスである。
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液晶表示装置用ガラス基板の製造方法
【課題】 液晶表示装置用ガラス基板として、微量のアルカリ金属酸化物を含むガラス板を製造するに際し、アルカリ金属酸化物による清澄効果(気泡低減効果)を向上させる。
【解決手段】 ガラス原料を熔融して熔融ガラスを生成する工程と、熔融ガラスをガラス板へと成形する工程とを含み、ガラス板が、SiO2、Al2O3およびR2O(R:Li、Na、Kから選ばれる少なくとも1種であって少なくともその一部がNa)を含むとともに、R2Oの含有率が0.01〜2.0質量%であってNa2Oの含有率が0.01〜0.15質量%であるガラス組成物からなり、ガラス原料が、Al2O3の原料として、Na2Oを0.1〜0.6質量%の範囲で含有するアルミニウム酸化物(アルミナ)を含む、液晶表示装置用ガラス基板の製造方法とする。
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生体溶解性無機繊維
【課題】耐火性、生体溶解性を有する繊維を提供する。
【解決手段】以下の組成を有する無機繊維。SiO271〜80重量%、CaO18〜27重量%、MgO0〜3重量%、Al2O31.1〜3.4重量、但し、ZrO2、R2O3(RはSc,La,Ce,Pr,Nd,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb,Lu,Y又はこれらの混合物から選択される)はそれぞれ0.1重量%以下であり、アルカリ金属酸化物は0.2重量%以下であり、SiO2、CaO、MgO、Al2O3の合計は99重量%以上である。
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強化ガラス及び強化ガラス板
【課題】携帯電話の表示部に要求される表面品位を達成可能であると共に、エッチングレートを高めることが可能であり、しかも機械的強度が高い強化ガラスを創案する。
【解決手段】本発明の強化ガラスは、表面に圧縮応力層を有する強化ガラスであって、ガラス組成として、モル%で、SiO2 45〜75%、Al2O3 3〜15%、Li2O 0〜12%、Na2O 0.3〜20%、K2O 0〜10%、MgO+CaO 1〜15%を含有し、モル比(Al2O3+Na2O+P2O5)/SiO2が0.1〜1、モル比(B2O3+Na2O)/SiO2が0.1〜1、モル比P2O5/SiO2が0〜1、モル比Al2O3/SiO2が0.01〜1、モル比Na2O/Al2O3が0.1〜5であると共に、強化処理前に表面の一部又は全部がエッチングされてなることを特徴とする。
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絶縁パターンの形成方法および電子部品の製造方法
【課題】多数回の重ね塗りを行っても厚膜高精細パターンが実現可能な絶縁パターンを形成する方法を提供すること。
【解決手段】絶縁ペーストを基板上にパターン印刷して露光する工程を2回以上繰り返した後、焼成する工程を含む絶縁パターンの形成方法であって、絶縁ペーストが絶縁性の無機粉末および感光性有機成分を含み、該絶縁ペースト中の有機溶剤の含有量が5質量%以下であることを特徴とする絶縁パターンの形成方法とする。
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フッ化リン酸ガラス
【課題】フィルターガラスとして用いられるフッ化リン酸ガラスは、耐候性が悪くしばしば非常に高いフッ素含有率のために製造が難しいという欠点がある。この問題点を解決するフッ化リン酸ガラスを提供する。
【解決手段】ガラスマトリックス中に少なくとも68%の架橋度のリン酸成分を有するガラスで、39%モル量までのO2−イオンがFで置換されているフッ化リン酸ガラス。着色成分として酸化銅を含み、融液中のレドックス比の調整のために、酸素を含むガス(特に酸素)バブリング工程を含む方法で得られる。
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カバーガラスの製造方法及びカバーガラス
【課題】エッチングレートを向上させることによりカバーガラスの生産効率を向上し、さらには、複雑な形状であっても、形状精度の高いカバーガラスを形成することができるカバーガラスの製造方法およびカバーガラスを提供する。
【解決手段】カバーガラスは、ダウンドロー法により成形されたガラス基板をエッチング加工し、かつ、ガラス主表面に圧縮応力層を有するように化学強化したカバーガラスである。前記ガラス基板は、成分としてSiO2を50〜70質量%、Al2O3を5〜20質量%、Na2Oを6〜30質量%、および、Li2Oを0〜8質量%未満含む。必要に応じて、CaOを0〜2.6質量%含む。前記ガラス基板は、濃度10質量%のフッ化水素を含む22℃のエッチング環境で、3.7μm/分以上のエッチングレートのエッチング特性を有する。
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ガラス、発光装置用のガラス被覆材および発光装置
【課題】400℃以下の被覆処理温度での被覆が可能であるとともに、熱膨張係数が低く、さらに良好な耐候性を有するガラス。
【解決手段】酸化物基準のmol%表示で、29%〜33%のP2O5、43%〜58%のSnO、11%〜25%のZnO、0.1%〜2%のGa2O3、0.5%〜5%のCaO、ならびに0〜1%のSrOを含み、酸化物基準のmol%表示で、ZnO、Ga2O3、およびCaOの総和Xが13%〜27%の範囲である、ガラス。
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強化ガラス及び強化ガラス板
【課題】カレットとしてLCD、PDP用ガラス基板が使用可能であると共に、高い機械的強度を有する強化ガラスを創案する。
【解決手段】本発明の強化ガラスは、表面に圧縮応力層を有する強化ガラスであって、ガラス組成として、質量%で、SiO2 50〜75%、Al2O3 5〜20%、B2O3 0〜8%、Na2O 5〜20%、K2O 0.1〜10%、MgO 0.1〜15%、SrO+BaO 0.001〜5%を含有し、質量比(MgO+CaO+SrO+BaO)/(MgO+ZrO2)が0.3〜1.5であることを特徴とする。
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低粘度押出成形および射出成形のためのカルコゲナイドガラス
【課題】押出および射出成形を含む様々なポリマー成形プロセスに使用するのに適したガラスからなる精密光学要素を提供する。
【解決手段】微細または超微細いずれかの微小構造を有するカルコゲナイドガラス体を有してなり、このカルコゲナイドガラスは、一般化学式YZを有し、ここで、YはGe,As,Sbまたはこれら2つ以上の混合物であり、ZはS,Se,Teまたはこれら2つ以上の混合物であり、原子または元素パーセントで表して、Yは15〜70%の範囲にあり、Zは30〜85%の範囲にあり、GeがAsおよびSbの内の一方または両方と混合された場合には、Geの量は、0<Ge<25%の範囲にあり、また、このカルコゲナイドガラスは、500℃以下で10,000ポアズ以下の粘度を有し、1000〜10,000s-1の範囲の剪断速度下で結晶化に耐性である。
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