【課題】二枚の偏光ガラスを張り合わせる高性能のアイソレータ用の偏光ガラスを得る。
【解決手段】均一な方向に配向して分散した延伸金属粒子を含む偏光ガラスの製造方法であって、ハロゲン化金属粒子を内部に析出させた短冊形状のガラス母材を準備する準備工程と、ガラス母材の周囲に配したヒータでガラス母材を過熱し所定の応力を加えながら、ガラス母材の長手方向の外側に設けられた引張手段で引っ張ることにより、ハロゲン化金属粒子を延伸する延伸工程とを備え、延伸工程において、ガラス母材から生成した延伸ガラスの幅を均一に保ちつつ延伸する。 （もっと読む）

【課題】低融点で、しかもＡｇによる着色が生じにくい非鉛ガラスからなるプラズマディスプレーパネル用透明誘電体層の形成方法及びプラズマディスプレーパネル前面ガラス板を提供することである。
【解決手段】本発明のプラズマディスプレーパネル用透明誘電体層の形成方法は、Ａｇ電極上に、少なくともＫ₂Ｏを含むアルカリ含有非鉛ガラス粉末からなる材料を形成し、焼成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 低融点無鉛のガラス組成物であって、PDP等のFPDの背面基板に形成される誘電体層及び隔壁の形成素材として有用なガラス組成物を提供する。
【解決手段】 無鉛低融点ガラス組成物であって、その組成が重量％で、P₂O₅ 5%以上〜20％未満、Al₂O₃5〜15％、B₂O₃ 15〜25％、SiO₂ 0〜10％、ZnO 10〜40％、MgO、CaO、SrO及びBaOからなる群から選ばれる少なくとも1種0〜40％、Li₂O、Na₂O及びK₂Oからなる群から選ばれる少なくとも1種0〜5％、F₂ 0〜3％、La₂O₃0〜5%及びV₂O₅ 0〜5%であることを特徴とするP₂O₅-ZnO-B₂O₃系低融点ガラス組成物。 （もっと読む）

本発明は、熱的に安定な基板又はプレートの製作用のガラス組成物であって、該組成物が、次の成分を次の質量比；ＳｉＯ₂を６７〜７５％、Ａｌ₂Ｏ₃を０．５〜１％、ＺｒＯ₂を２〜７％、Ｎａ₂Ｏを２〜９％、Ｋ₂Ｏを４〜１１％、ＭｇＯを０〜５％、ＣａＯを５〜１０％、ＳｒＯを５〜１２％、ＢａＯを０〜３％、Ｂ₂Ｏ₃を０〜３％、Ｌｉ₂Ｏを０〜２％：含み、次の関係式；Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ＞１０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＞１２％：を有し、そして、該組成物が、８０〜９０×１０^-7／℃の熱膨張係数を有する該ガラス組成物に関する。本発明は、特に発光形ディスプレイ及び耐火性板ガラス向けの、基板製品向けのこれらのガラス組成物の使用にも関する。 （もっと読む）

【課題】紫外線吸収性の良好なフラッシュランプガラス組成を提供する。
【解決手段】基本的には重量％で、５０〜７０％のＳｉＯ_２、０〜２０％のＢ_２Ｏ_３、５〜２２％のＡｌ_２Ｏ_３、１．０％＞のＬｉＯ_２、３．０％＞のＮａ_２Ｏ、１．０％＞のＫ_２Ｏ、０〜８％のＭｇＯ、０〜２０％のＣａＯ、０〜１０％のＳｒＯ、０〜３０％のＢａＯ、０〜１０％のＴｉＯ_２、０〜３％のＺｒＯ_２、０〜１０％のＣｅＯ_２、０〜１％のＦｅ_２Ｏ_３、０〜３％のＷＯ_３、０〜３％のＢｉ_２Ｏ_３、０〜３％のＭｏＯ_３、０〜５％のＺｎＯ、９％未満のＣｓ_２Ｏからなり、ΣＬｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ＜１．０％、ΣＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯが２〜３０％、ΣＳｉＯ_２＋Ａｌ_２Ｏ_３＋Ｂ_２Ｏ_３が５５〜９０％の範囲を満たすガラス組成のフラッシュランプガラス。 （もっと読む）

【課題】 熔融ガラスから高品質のガラスを成形するのに適した、さらには精密プレス成形に適した低分散光学ガラスを提供すること。
【解決手段】 必須のカチオン成分として、Ｐ^５＋およびＡｌ^３＋と、Ｍｇ^２＋、Ｃａ^２＋、Ｓｒ^２＋およびＢａ^２＋から選ばれる２価カチオン成分（Ｒ^２＋）を２種以上と、Ｌｉ^＋とを含み、カチオン％表示にて、
Ｐ^５＋ １０〜４５％、
Ａｌ^３＋ ５〜３０％、
Ｍｇ^２＋ ０〜２０％、
Ｃａ^２＋ ０〜２５％、
Ｓｒ^２＋ ０〜３０％、
Ｂａ^２＋ ０〜３３％、
Ｌｉ^＋ １〜３０％、
Ｎａ^＋ ０〜１０％、
Ｋ^＋ ０〜１０％、
Ｙ^３＋ ０〜５％、
Ｂ^３＋ ０〜１５％、
を含有するとともに、
Ｆ^-とＯ^２-の合計量に対するＦ-の含有量のモル比Ｆ^-／（Ｆ^-＋Ｏ^２-）が０．２５〜０．８５であるフツリン酸塩ガラスからなり、屈折率（Ｎ_ｄ）が１．４０〜１．５８、アッベ数（ν_ｄ）が６７〜９０であることを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】低い転移温度（Ｔｇ）を有し、液相温度が低く、さらに液相温度における粘度η（ｄＰａ・ｓ）の対数ｌｏｇηが、精密プレス成形に使用するガラスプリフォーム材、及び精密プレス成形に適したガラス組成物を提供する。
【解決手段】屈折率（ｎｄ）が１．５５以上、アッベ数（νｄ）が５０以上を有し、ＳｉＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−ＲＯ−Ｌｉ_２Ｏ系ガラス組成物であって、ガラス転移温度（Ｔｇ）が５２０℃以下であることを特徴とする該ガラス組成物。 （もっと読む）

【課題】望ましくかつ有利な光学特性（ｎ_ｄ／ｖ_ｄ）と低転移温度を同時に達成でき、さらに環境に対する配慮からＰｂＯ及びＡｓ_２Ｏ_３無含有であり、また好ましくはＧｄ_２Ｏ_３及びフッ素を成分として無含有である光学ガラスを提供する。
【解決手段】光学ガラスを、下記組成（酸化物ベースでの重量％）から成り、１．７５〜１．８３の屈折率ｎ_ｄ及び３４〜４４のアッベ数ｖ_ｄを有する鉛及び砒素無含有光学ガラスとなる組成を構成する。ＳｉＯ_２ ０．５−８，Ｂ_２Ｏ_３ １０−２５，ＺｎＯ １０−２６，Ｌａ_２Ｏ_３ １８−３４，Ｔａ_２Ｏ_５ ＞１５−２５，Ｎｂ_２Ｏ_５ ０．５−１５，Σアルカリ金属酸化物 ０−１０，Σアルカリ土金属酸化物 ０−８，ΣＡｌ_２Ｏ_３，Ｙ_２Ｏ_３，ＷＯ_３，ＴｉＯ_２，ＺｒＯ_２，ＨｆＯ_２，アルカリ土金属酸化物 ０−１５，慣用清澄剤 ０−２ （もっと読む）

【課題】 １．７０〜１．８２の屈折率且つ４０〜５５のアッベ数を有し、モールド成形が容易で、成形中に金型に付着することがなく、かつ対失透性の改善された光学ガラスを提供する。
【解決手段】 光学ガラスであって、次の成分、
ＳｉＯ₂ ・・・１〜８重量％、
Ｂ₂Ｏ₃ ・・・１６〜４０重量％
（但し、Ｂ₂Ｏ₃＋ＳｉＯ₂ ・・・２０〜４２重量％）、
Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ ・・・０〜４重量％、
ＺｎＯ ・・・１０〜３０重量％、
Ｌａ₂Ｏ₃ ・・・２０〜４０重量％、
Ｙ₂Ｏ₃ ・・・６．５〜１２重量％、
Ｇｄ₂Ｏ₃ ・・・０〜１０重量％、
Ｙｂ₂Ｏ₃ ・・・０．０５〜３重量％
（但し、Ｙ₂Ｏ₃＋Ｌａ₂Ｏ₃＋Ｙｂ₂Ｏ₃＋Ｇｄ₂Ｏ₃ ・・・２５〜５０重量％）、
ＺｒＯ₂ ・・・０〜８重量％、及び
Ｔａ₂Ｏ₅ ・・・０〜８重量％、
を含んでなり、屈折率が１．７０〜１．８２、アッベ数が４０〜５５であることを特徴とする、光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】高い消光比を広い帯域で有する偏光ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス中に分散し配向した延伸金属粒子を含む偏光ガラスの製造方法において、熱処理後の母材ガラスをプリフォームとして、プリフォームをガラスの粘度が１×１０^８ポイズから１×１０^１４ポイズとなる温度で加熱し、プリフォームを１０ｍｍ／分以下の送り速度で電気炉内を移動させながら、プリフォームに２００Ｋｇ／ｃｍ^２から７００Ｋｇ／ｃｍ^２の大きさの応力を加え、プリフォームに含まれるハロゲン化金属粒子を２：１から１００：１のアスペクト比となる延伸シートに１５０ｍｍ／分以下の引取り速度で延伸する延伸工程と、延伸シートを母材ガラスの歪点温度より高く、母材ガラスの転移点温度より低い温度で、ハロゲン化金属粒子の少なくとも一部を金属粒子にするのに十分な時間還元する還元工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】 薄型化、軽量化を実現する高強度ガラス材を用いた平面型画像表示装置を提供する。
【解決手段】 二枚の基板ＳＵＢ１とＳＵＢ２、該二枚の基板の間に設けられた発光部ＰＭＧを有し、少なくとも一枚の基板がＳｉＯ₂を主成分とし、Ｌａ、Ｓｃ、Ｙ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕより選ばれた少なくとも一種を１〜２０重量％含有するガラス材で構成した。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイパネルに代表される電子材料基板開発で、銀反応による黄変が抑制され、かつ可視光透過率の高い無鉛低融点ガラスが望まれている。
【解決手段】重量％でＳiＯ_２を０〜５、Ｂ_２Ｏ_３を１５〜３５、ＺｎＯを１０〜２５、Ｂi_２Ｏ_３を２０〜６０、ＢaＯを５〜２０、Ｒ_２Ｏ（Ｌi_２Ｏ＋Ｎa_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）を０〜１０、ＲＯ（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ）を０〜１０、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜８、ＣｕＯを０〜２、Ｌa_２Ｏ_３を０〜３、ＣｅＯ_２を０〜２、ＣｏＯを０〜１、ＭｎＯ_２を０〜１かつ（ＣｕＯ＋Ｌa_２Ｏ_３＋ＣｅＯ_２＋ＣｏＯ＋ＭｎＯ_２）を０．１〜３含むことを特徴とするＳiＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−ＺｎＯ−ＢａＯ−Ｂi_２Ｏ_３系無鉛低融点ガラス。
重量％で、Ｂ_２Ｏ_３/ＺｎＯの比が、１以上であり、３０℃〜３００℃における熱膨張係数が（６５〜９５）×10^−７／℃、軟化点が５００℃以上６００℃以下である特徴も有す。 （もっと読む）

【課題】ディスプレイパネル用のガラス基板に反りを生じることなく積層される緻密な誘電体膜、及び鉛などの有害物を含有しない環境負荷が小さいガラス組成物を用いて形成される誘電体膜の製造方法を提供。
【解決手段】ガラス基板の反りを抑制することのできる、２以上の誘電体層を有する誘電体膜であって、ガラス基板上に設けられる最下層の誘電体層（Ａ）は、酸化物換算で、ＳｉＯ_２を１〜１５ｍｏｌ％、Ｂ_２Ｏ_３を１０〜５０ｍｏｌ％、ＺｎＯを３０〜５０ｍｏｌ％、及び一般式：Ｒ_２Ｏ（式中、Ｒは、Ｋ、Ｎａ又はＬｉから選ばれる少なくとも１種のアルカリ金属元素を示す。）で表されるアルカリ金属の酸化物を０〜１２ｍｏｌ％含むガラス組成物から形成され、かつそのガラス転移点は、４８０℃〜５４０℃であり、一方、最下層の上に設けられる誘電体層（Ｂ）を形成するガラス組成物のガラス転移点は、４３０℃〜４８０℃である誘電体膜などにより提供。 （もっと読む）

【課題】 強化しなくても割れや破壊の起こりにくいガラスを提供する。
【解決手段】 質量百分率で、ＳｉＯ₂ ５５〜７２％、Ａｌ₂Ｏ₃ １１〜２０％、Ｂ₂Ｏ₃ ０〜１５％、ＭｇＯ ０〜１２％、ＣａＯ ０〜１２％、ＢａＯ ０〜１２％、ＳｒＯ ０〜１２％、Ｎａ₂Ｏ ６〜１５％、Ｋ₂Ｏ １〜１５％、Ｌｉ₂Ｏ ２〜１５％、ＺｎＯ ０〜１０％含有し、且つＬｉ₂Ｏ／（Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ）の値がモル比で０．３〜２の範囲にあることを特徴とする。 （もっと読む）

ガラス材料を均一に溶融することができ、また清澄プロセスを短縮若しくは不要とすることができるガラス溶融装置及びガラス溶融方法を提供する。ガラス溶融装置２００は、内部に２８ＧＨｚの高周波を発振するジャイロトロン２０２を有する発振機２０１と、発振機２０１からのミリ波を伝送する円形導波管２０３と、セラミックス製の窯１１１を内部に設置するアプリケータ２０４と、窯１１１内で溶融ガラスの温度を測定する熱電対２０６及び発振機２０１に電源を供給する電源盤２０７を制御するＣＰＵ２０５とを備える。窯１１１は、調合されたガラス材料（以下「バッチ」という。）を投入するバッチ投入口１１２をその上部に備え、また、窯１１１の内部で誘電加熱により均一に溶融されたバッチをバス１２１に落下させる出口端１１３をその下部に備える。
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本発明は、ガラス、ガラスセラミック材料、ランプリフレクタおよびその製造方法に関する。ガラス材料は、全組成の重量基準で、５６〜６７％のＳｉＯ₂、１９〜２２％のＡｌ₂Ｏ₃、３．４〜３．８％のＬｉ₂Ｏ、１．８〜２．６％のＺｎＯ、１．５〜２．５％のＭｇＯ、３．３〜５％のＴｉＯ₂、０〜２．５％のＺｒＯ₂、１．５〜３％のＢ₂Ｏ₃、０〜６％のＰ₂Ｏ₅、０〜０．６％のＦ、５００ｐｐｍ未満のＦｅ、および少なくとも一種類の清澄剤の効果的な量から生じる成分を有してなる組成を有する。本発明のガラスセラミック材料は、主結晶相としてβ石英固溶体を含有し、これはガラスセラミック材料の適切な熱処理によって得ることができる。このガラスセラミック材料は、７５ｎｍ未満の高い表面粗さＲａ、２０から３００℃の間で１０×１０^-7Ｋ^-1未満の低ＣＴＥ、および３ｍｍの厚さで８０％を超える約１０５０ｎｍでのＩＲ透過率を必要とする耐熱性ランプリフレクタに特に適している。
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【課題】 プラズマディスプレイパネル、蛍光表示管、あるいはフィールドエミッションディスプレイの誘電体又は隔壁形成に用いられ、有害物を含有せず環境負荷が小さいガラス組成物、およびこのガラス組成物を用いることで基板の反りを大幅に低減させることができるガラスペースト組成物を提供する。
【解決手段】 Ｐｂ、及びＢｉを実質的に含有せずにガラス転移点が４３０℃〜５４０℃であるガラス組成物であって、酸化物換算で、ＳｉＯ_２を１〜１５ｍｏｌ％、Ｂ_２Ｏ_３を１０〜５０ｍｏｌ％、ＺｎＯを３０〜５０ｍｏｌ％、アルカリ金属の酸化物：Ｒ_２Ｏ（式中、Ｒは、Ｋ、Ｎａ又はＬｉから選ばれる少なくとも１種のアルカリ金属元素を示す）を０〜１２ｍｏｌ％、及びＢａＯを３〜２０ｍｏｌ％含むことを特徴とするガラス組成物によって提供。 （もっと読む）

【課題】従来よりも低い温度で溶射可能であり、蓄光材料の使用量を抑えつつ輝度を確保した蓄光材を提供する。
【解決手段】蓄光性材料及びガラス材料を蓄光性材料：ガラス材料＝１：１〜１：１０の重量比で混合した蓄光ガラス粉末材、又はその蓄光ガラス粉末材を加熱処理した加熱処理材からなり、最低溶射可能温度が２３１〜１０００℃である溶射用ガラス粉末材料を製造する。 （もっと読む）

【課題】 環境汚染を防ぐために、絶縁層を形成するガラス組成物中にＰｂＯを含まない絶縁層形成用のガラスフリットを提供する。
【解決手段】
ガラス組成がＳｉＯ₂ ：１６〜３２ｍｏｌ％、Ａｌ₂ Ｏ₃ ：４〜８ｍｏｌ％、Ｂ₂ Ｏ₃ ：２０〜３５ｍｏｌ％、Ｌｉ₂ Ｏ＋Ｎａ₂ Ｏ＋Ｋ₂ Ｏの２種以上を含み合計が８〜１４ｍｏｌ％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＢａＯ＋ＳｒＯの合計が３〜１６ｍｏｌ％、ＺｎＯ：６〜３３ｍｏｌ％、Ｃｕ₂ Ｏ：０．０１〜３ｍｏｌ％、Ａｇ₂ Ｏ：０．０１〜１ｍｏｌ％、前記Ｂ₂ Ｏ₃ とＺｎＯの組成比が、ＺｎＯ／Ｂ₂ Ｏ₃ ＝０．２７〜１．３、を基本組成とする無鉛硼珪酸塩ガラスで、平均粒径１〜５μｍで、最大粒径が２０μｍ以下に粒度調整されたガラスフリットであり、ガラス転移点が５００℃以下、平均線膨張係数が６５〜８０×１０⁻⁷ ／℃、耐水減量値０．１ｍｇ／ｃｍ² 以下で耐水性に優れたもので絶縁層を形成するための無鉛硼珪酸塩ガラスフリットである。 （もっと読む）

【課題】チタン含有ガラス基材の表面形状を制御する。
【解決手段】チタン含有ガラス基材の表面に設定された加工対象面に、１パルス当たりの照射エネルギが、チタン含有ガラス基材表面がアブレーションまたは蒸発可能な値から２Ｊ／ｃｍ^２の範囲、１パルス当たりの照射時間が１〜１００ｎｓｅｃ、パルス数が１〜１００００のレーザ光を照射して、加工対象面にレーザ光の照射部分に形成される照射形状と異なる微細構造を形成させることにより表面微細加工チタン含有ガラス基材を製造する。 （もっと読む）