【課題】ガラス基板と封着層との接合界面に生じる残留応力を緩和することによって、ガラス基板間の封着信頼性を高めることを可能にしたレーザ封着用封着材料を提供する。
【解決手段】レーザ封着用封着材料は、低融点ガラスからなる封着ガラスと、質量割合で５〜２５％の範囲の低膨張充填材と、１〜１０％の範囲のレーザ吸収材と、０．５〜７％の範囲の中空ビーズとを含有する。封着材料はガラス基板３の封止領域に焼き付けられ、これにより封着材料層６が形成される。ガラス基板３はガラス基板２と封着材料層６を介して積層される。封着材料層６にレーザ光７を照射して溶融させることによって、ガラス基板２、３間が封着される。 （もっと読む）

【課題】 揮発性および侵蝕性が低減されたフツリン酸ガラスを提供する。
【解決手段】 リン成分をＰ^５＋に換算して３カチオン％超３０カチオン％以下含み、核磁気共鳴スペクトルにおける^３１Ｐの基準周波数近傍に生じる共鳴ピークの強度Ｉ^（０）に対する前記共鳴ピークの一次のサイドバンドピークの強度Ｉ^（１）の比Ｉ^（１）／Ｉ^（０）が０．０８以下であることを特徴とするフツリン酸ガラスである。 （もっと読む）

【課題】 フツリン酸ガラス固有の揮発性と侵蝕性を抑制するとともに、フィーダー外周へのガラス融液の濡れ上がりも抑制することにより、高品質のフツリン酸ガラスを提供する。
【解決手段】 ガラス成分として、リン、酸素およびフッ素を含むフツリン酸ガラスにおいて、塩素、臭素およびヨウ素の中から選ばれる１種以上のハロゲン元素を含み、Ｐ^５＋の含有量に対するＯ^２−の含有量のモル比Ｏ^２−／Ｐ^５＋が３．５以上であることを特徴とするフツリン酸ガラスである。 （もっと読む）

【課題】ソーダ石灰ガラスと同等の熱膨張係数を有するとともに、高歪点であり、且つ生産性に優れるガラス基板を作製すること。
【解決手段】本発明のガラス基板は、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ４０〜６０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜１５％、Ｂ_２Ｏ_３ ３．５〜１５％（但し、３．５％は含まない）、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯの合量） １０〜３０％、ＢａＯ ０．１〜１５％、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ（Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏの合量） １〜２５％、Ｎａ_２Ｏ ０〜１５％、Ｋ_２Ｏ ０〜１５％、ＺｒＯ_２ ０．１〜１５％を含有し、歪点が５７０℃以上６２５℃未満であり、且つ３０〜３８０℃における熱膨張係数が６０〜９０×１０^−７/℃であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高屈折率高分散性を有し、部分分散比が小さく、透過率が良好な光学ガラスの提供。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％で、Ｐ₂Ｏ₅成分を２５．０〜６０．０％、Ｎｂ₂Ｏ₅成分を５．０〜３５．０％、ＴｉＯ₂成分を０〜３０．０％含有し、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（ν_d）との間で、ν_d≦２５の範囲において（−０．００１６×ν_d＋０．６３４６０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００５６３×ν_d＋０．７５８７３）の関係を満たし、ν_d＞２５の範囲において（−０．００２５×ν_d＋０．６５７１０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００３４×ν_d＋０．７０３００）の関係を満たす光学ガラス。 （もっと読む）

本発明は、シリコン半導体デバイスおよび光起電力セルの導電性ペースト中に有用なガラス組成物に関する。
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【課題】フッ化物を含有しないリン酸塩系ガラスであってもフツリン酸塩系ガラスと同等程度に耐候性が高く、かつガラスが失透し難く生産性が良好である近赤外線カットフィルタガラスを提供すること。
【解決手段】モル％表示で、Ｐ_２Ｏ_５ ３０〜５０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ２〜１５％、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ７〜４０％、ＣｕＯ ０．１〜２５％、ＢａＯ ２〜４０％、ＲＯ＋ＺｎＯ １０〜４０％（ただし、ＲＯは、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯの合計量）を含有し、実質的にＬｉ_２Ｏを含有しないことを特徴とする近赤外線カットフィルタガラスである。 （もっと読む）

【課題】長期間の使用であっても腐食が少ない耐アルカリ性に優れた液面計の液位観察窓用ガラスを提供する。
【解決手段】液面計の液位観察窓用ガラスは、液柱により液位を示し、液位観察窓を介して視認される前記液柱によって前記液位を観察する液面計の液位観察窓用ガラスであって、ＳｉＯ_２を２０〜３０ｗｔ％、Ａｌ_２Ｏ_３を１５〜２０ｗｔ％、Ｙ_２Ｏ_３を２５〜３０ｗｔ％、Ｌａ_２Ｏ_３を１５〜２０ｗｔ％、ＴｉＯ_２を４〜１０ｗｔ％、ＺｒＯ_２を５〜１０ｗｔ％含有することを特徴とする液面計の液位観察窓用ガラス。 （もっと読む）

【課題】無アルカリガラスのリサイクルを促進するとともに、ガラスバッチの溶解性に優れたガラス板の製造方法を創案し、無アルカリガラスのリサイクル率を高めつつ、高歪点のガラス板の生産コストを低廉化すること。
【解決手段】本発明のガラス板の製造方法は、ガラス原料を調合し、ガラスバッチを作製した後、該ガラスバッチをガラス溶融窯で溶融し、ガラス板に成形するガラス板の製造方法において、ガラス原料の一部に無アルカリガラスを用いるとともに、ガラス板が、ガラス組成として、下記酸化物換算の質量％で、ＳｉＯ_２ ４０〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３ １〜１８％、Ｂ_２Ｏ_３ ０．１〜１２％、ＲＯ ５〜３０％、ＭｇＯ ０〜１０％、ＣａＯ ０〜２０％、ＳｒＯ ０〜１５％、ＢａＯ ０〜１５％、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ０〜２５％を含有するように、ガラス原料を調合することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高屈折率高分散性を有し、部分分散比が小さく、透過率が良好な光学ガラスの提供。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％で、Ｐ₂Ｏ₅成分を１０．０〜４０．０％、Ｎｂ₂Ｏ₅成分を１０．０〜４５．０％、ＴｉＯ₂成分を０〜３０．０％含有し、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（ν_ｄ）との間で、ν_ｄ≦２５の範囲において（−０．００１６×ν_ｄ＋０．６３４６０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００５６３×ν_ｄ＋０．７５８７３）の関係を満たし、ν_ｄ＞２５の範囲において（−０．００２５×ν_ｄ＋０．６５７１０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００３４×ν_ｄ＋０．７０３００）の関係を満たす光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】マスキング層の厚さを薄くしても、十分な吸光度や光遮蔽性を得ることができるマスキングインク用ガラス組成物とマスキングインクを提供する。
【解決手段】ガラス組成物は、下記成分基準のモル％表示で、１８〜５５％のＳｉＯ₂、１〜３０％のＺｎＯ、１〜３０％のＢ₂Ｏ₃、０〜１０％のＢｉ₂Ｏ₃、８〜２５％のＬｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、及びＫ₂Ｏから選ばれる少なくとも１種、０〜１０％のＣｕＯ、０〜８％のＡｌ₂Ｏ₃、０〜３％のＺｒＯ₂、ＳｎＯ₂、及びＣｅＯ₂から選ばれる少なくとも１種、１％以下のＦｅ₂Ｏ₃、及び０．５％未満のＴｉＯ₂から本質的になる。マスキングインクは、ガラス組成物４０〜８０質量％と耐熱顔料２０〜４０質量％と耐火物フィラー０〜３０質量％とを含有する固形成分組成物を、ビヒクルに混合・分散させてなり、マスキング層４の形成に用いられる。 （もっと読む）

【課題】耐衝撃性に優れ、かつディスク形状の安定化を両立するデータ記憶媒体用ガラス基板及びその製造方法の提供。
【解決手段】酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ_２を５８〜６６％、Ａｌ_２Ｏ_３を９〜１５％、Ｌｉ_２Ｏを７〜１５％、Ｎａ_２Ｏを２〜９％含有し、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏが１３〜２１％であるガラスからなる基板用ガラスを混合溶融塩に浸漬し、該基板用ガラスの表面及び裏面に圧縮層を形成する化学強化処理工程を含むデータ記憶媒体用ガラス基板の製造方法であって、前記混合溶融塩が質量百分率表示で、硝酸リチウムを１〜７．５％、硝酸ナトリウムを２８〜５５％、硝酸カリウムを４０〜６９％含有するデータ記憶媒体用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

下表の範囲の組み合わせの一つに入る着色剤部分を有するソーダ石灰シリカガラスである。このガラスは太陽熱透過率が低く、また可視光透過率が低い。これは太陽光制御ガラスまたはプライバシーガラスとして用いることができ、特に車両用の天窓、即ちサンルーフ及び屋根窓に適している。このガラスは、フロートガラス法により製造してもよい。

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【解決手段】硫黄をドープしたチタニアドープ石英ガラス部材。
【効果】本発明によれば、ＥＵＶリソグラフィの実用機に適したゼロ膨張となる温度を有し、広い低熱膨張温度域を有する、硫黄を共添加したチタニアドープ石英ガラス部材、その製造方法、及びこの硫黄を共添加したチタニアドープ石英ガラス部材からなるＥＵＶリソグラフィ用フォトマスク基板等のＥＵＶリソグラフィ用光学部材を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】フッ酸等の薬液を使用しなくても、結晶化ガラスの表面に微細な窪みや突起等を形成することができ、且つ使用環境の温度差が大きくても、熱衝撃により破損し難い結晶化ガラスの製造方法を創案すること。
【解決手段】本発明の結晶化ガラスの製造方法は、結晶性ガラスの一部に、Ｘ線、電子線、レーザーのいずれかを照射した後、結晶性ガラスを結晶化させて結晶化ガラスを作製することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】環境汚染物質である鉛を含有しなくとも、Ｘ線が照射された後にも光の伝送に好ましく用いることができ、且つ高い屈折率を有する光学ガラスを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＳｉＯ_２成分を１．０％以上６０．０％以下含有し、Ｌａ_２Ｏ_３成分、ＺｒＯ_２成分、ＴｉＯ_２成分、Ｎｂ_２Ｏ_５成分及びＴａ_２Ｏ_５からなる群より選択される１種以上を必須成分として含有し、１．５０以上の屈折率（ｎ_ｄ）を有し、線量２．５ＧｙのＸ線を照射した後のガラスにキセノンランプの光を１１時間照射したときの光量回復率が４５％以上である。 （もっと読む）

【課題】基材上に優れた光触媒活性を有するとともに耐久性にも優れた光触媒層を設けた複合体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】複合体は、基材と、この基材上に位置するガラスセラミックス層と、を備える複合体であって、前記ガラスセラミックス層が結晶相及びガラス相を有しており、前記ガラスセラミックス層は、酸化物基準のモル％で、ＴｉＯ_２成分を５．０〜７０．０％、並びに、ＳｉＯ_２成分、Ｂ_２Ｏ_３成分、Ｐ_２Ｏ_５成分及びＧｅＯ_２成分からなる群より選択される１種以上を合計で５．０〜９０．０％含有する。 （もっと読む）

【課題】低いガラス転移温度（Ｔｇ）及び高屈折率低分散性を有し、化学的耐久性、特に表面法耐候性に優れ、精密モールドプレス成形に適した光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率（ｎ_d）が１．７５〜１．８５、アッベ数（ν_d）が３５〜４５の範囲の光学定数を有し、必須成分としてＳｉＯ₂、Ｂ₂Ｏ₃、を含有し、Ｂ_２Ｏ_３の含有量は２２質量％以下であり、かつ、ＺｒＯ₂、Ｎｂ₂Ｏ₅、Ｔａ₂Ｏ₅、ＷＯ₃、からなる群より選択される１種以上の成分を含有し、さらに１０質量％以下のＧｄ₂Ｏ₃を含有し、ガラス転移点（Ｔｇ）が５８０℃以下、表面法耐候性が級１または級２であることを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】実質的にＰｂＯを含まないにもかかわらず、封入温度が低く、且つ実用上、十分な化学的耐久性、特に耐酸性を有する半導体封入用ガラスを創案すること。
【解決手段】本発明の半導体封入用ガラスは、ガラス組成として、アルカリ金属酸化物（Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏ）の２種以上、Ｂ_２Ｏ_３およびＢｉ_２Ｏ_３を含み、且つ実質的にＰｂＯを含まないことを特徴とし、１０^６ｄＰａ・ｓおける温度が６６０℃以下であり、且つ３０〜３８０℃における熱膨張係数が８５〜１０５×１０^−７／℃であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】生理食塩水に対する溶解性に優れると共に、収縮率が小さく、アルミノシリケート耐火煉瓦と反応しない無機繊維を含む断熱材を提供する。
【解決手段】以下の組成：
７２重量％＜ＳｉＯ₂＜８６重量％
ＭｇＯ＜１０重量％
１４重量％＜ＣａＯ＜２８重量％
Ａｌ₂Ｏ₃≦０．２９重量％若しくは０．３５重量％≦Ａｌ₂Ｏ₃＜２重量％であり、且つＺｒＯ₂＜３重量％、又はＺｒＯ₂≦０．７０重量％若しくは０．７３重量％≦ＺｒＯ₂＜３重量％であり、且つＡｌ₂Ｏ₃＜２重量％
Ｂ₂Ｏ₃＜５重量％
Ｐ₂Ｏ₅＜５重量％
９５重量％＜ＳｉＯ₂＋ＣａＯ＋ＭｇＯ＋Ａｌ₂Ｏ₃＋ＺｒＯ₂＋Ｂ₂Ｏ₃＋Ｐ₂Ｏ₅
を有する繊維を含む断熱材とする。 （もっと読む）