【課題】
活性マトリクス液晶ディスプレイ（ＡＭＬＣＤ）などのフラットパネル・ディスプレイ装置における基板としての用途に望ましい物理的および化学的性質を示す、アルカリを含まないホウアルミノケイ酸ガラス。
【解決手段】
本明細書には、歪み点を有し、それによって良好な寸法安定性を有する無アルカリガラスおよびその製造方法が記載される。歪み点が高いガラスは、熱処理およびそれに続くガラス製造の間の圧縮／収縮に起因するパネルの歪みを妨げることができる。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、可視光に対する透過率が高く、且つ耐失透性が高いプリフォーム材を得ることが可能な光学ガラスと、プリフォーム材及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＢ_２Ｏ_３成分を１０．０〜５０．０％及びＬａ_２Ｏ_３成分を５．０〜３０．０％含有し、酸化物換算組成のガラス全物質量に対するモル和（ＴｉＯ_２＋Ｎｂ_２Ｏ_５）が２０．０％未満である。プリフォーム材は、この光学ガラスからなる。また、光学素子は、この光学ガラスを母材とする。 （もっと読む）

【課題】石英ガラス基板の両板の対向面にガラスペーストを印刷してリブを形成しても、焼成で熔解により崩壊せずに、高さが５０〜５００μｍの流路形成用ガラス組成物から成る微細流路が形成でき、石英ガラス基板を強固に接合でき、クラックが発生しない線熱膨張係数の小さな、ホウ珪酸塩ガラスを含有する流路形成用ガラス組成物を提供する。
【解決手段】本発明の流路形成用ガラス組成物は、ホウ珪酸塩ガラスのガラスフリット及びβスポジュメン、コーディエライト、熔融シリカ、酸化アルミニウム又は酸化ジルコニウムを含み、該ホウ珪酸塩ガラスのガラスフリットが、Ｂ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２、ＺｎＯ、アルカリ金属酸化物及びアルカリ土類金属酸化物を必須成分として含み、これらの含有量が前記流路形成用ガラス組成物の全重量に対して６８〜８４重量％の範囲にあり、上記βスポジュメン、コーディエライト、熔融シリカ、酸化アルミニウム又は酸化ジルコニウムの含有量が上記全重量に対して４〜２２重量％の範囲にあることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】耐衝撃性に優れた情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ガラス素板の表面を、研磨剤を用いて研磨する研磨工程と、前記研磨工程の後に、研磨されたガラス素板の表面を、化学強化処理液を用いて強化する化学強化工程とを備え、前記ガラス素板として、そのガラス組成が、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｂ_２Ｏ_３、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏ、ＺｒＯ_２、ＣｅＯ_２、ＳｉＯ_２とＡｌ_２Ｏ_３とＢ_２Ｏ_３との合計、Ｌｉ_２ＯとＮａ_２ＯとＫ_２Ｏとの合計、ＭｇＯとＣａＯとＢａＯとＳｒＯとＺｎＯとの合計がそれぞれ所定量であるものを用い、前記研磨剤として、希土類酸化物を含み、ＣｅＯ_２の含有量が、前記希土類酸化物の含有量に対して９９〜９９．９９９９質量％であり、アルカリ土類金属の含有量が、前記研磨剤全量に対して１０ｐｐｍ以下であるものを用いる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を用いる。 （もっと読む）

【課題】表面に点スクラッチおよび穴のような損傷が発生することに対して優れた耐性を有するガラスを提供する。
【解決手段】組成中に０．３％以上のアルカリ土類酸化物と０．１〜４％の燐酸を有するアルミノシリケートグラスであって、フロート法により成形され、該成形時にフロートバス上に１０００℃以上の温度で少なくとも１０分間維持することにより、その表面に特有の配置でアルカリ土類リン酸塩の析出物を持つガラスとする。 （もっと読む）

【課題】本発明の技術的課題は、ファイアスルー性が良好であり、またファイアスルーの際にシリコン太陽電池の光電変換効率を低下させ難く、しかも低温で焼結可能なビスマス系ガラスを創案することにより、シリコン太陽電池の光電変換効率を高めることである。
【解決手段】本発明の電極形成用ガラスは、ガラス組成として、質量％で、Ｂｉ_２Ｏ_３ ６５．２〜９０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜５．４％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯ＋ＣｕＯ＋Ｆｅ_２Ｏ_３＋Ｎｄ_２Ｏ_３＋ＣｅＯ_２＋Ｓｂ_２Ｏ_３（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｎＯ、ＣｕＯ、Ｆｅ_２Ｏ_３、Ｎｄ_２Ｏ_３、ＣｅＯ_２、及びＳｂ_２Ｏ_３の合量） ０．１〜３４．５％を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】材料内部における物性の均一性や、異なる製造ロット間での物性の再現性に優れた結晶化ガラス、および、そのような結晶化ガラスを高い歩留まりで容易に低コストで製造する方法を提供すること。
【解決手段】結晶化ガラスの製造方法であって、原ガラスの屈伏点をＡｔ（℃）とする時、原ガラスをＡｔ（℃）から（Ａｔ＋１２０）℃の温度範囲で熱処理する結晶化前工程と、結晶化前工程の後、前記結晶化前工程より高い温度で熱処理する結晶化工程と、を少なくとも含む結晶化ガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】従来技術の欠点を有さない透明なガラスセラミックスを提供する。
【解決手段】以下の組成：ＳｉＯ₂：６５〜７２、Ａｌ₂Ｏ₃：１８〜２４、Ｌｉ₂Ｏ：２〜５、ＭｇＯ：０〜４、ＺｎＯ：０〜４、ＺｎＯ＋ＭｇＯ：＜２．２、ＺｒＯ₂：１〜５、ＳｎＯ₂：＞０．５〜４、Ｎａ₂Ｏ：０〜１．５、Ｋ₂Ｏ：０〜１．５、ＢａＯ：０〜４、Ｆｅ₂Ｏ₃：０〜４を有する透明なガラスセラミックスを提供することによって解決される。 （もっと読む）

【課題】環境への負担が小さくて表面電荷密度が大きく、かつ化学耐久性に優れた半導体被覆用ガラスを提供する。
【解決手段】組成として質量％で、ＺｎＯ ４０〜６０％、Ｂ_２Ｏ_３ ５〜２５％、ＳｉＯ_２ １５〜３５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ３〜１２％を含有し、鉛成分を実質的に含有しないことを特徴とする半導体被覆用ガラス、および当該半導体被覆用ガラスからなるガラス粉末を含むことを特徴とする半導体被覆用材料。 （もっと読む）

【課題】従来技術の欠点を有さない透明なガラスセラミックスを提供する。
【解決手段】少なくとも以下の組成：ＳｉＯ₂：６０〜７６；Ａｌ₂Ｏ₃：１８〜２４；Ｌｉ₂Ｏ：２〜５；ＭｇＯ：０〜１．５；ＺｎＯ：＞４〜８；ＺｒＯ₂：１〜５；ＳｎＯ₂：＞０．５〜４；Ｎａ₂Ｏ：０〜１；Ｋ₂Ｏ：０〜１；ＢａＯ：０〜４；Ｆｅ₂Ｏ₃：０〜０．１；Ａｓ₂Ｏ₃：０〜＜０．５（酸化物ベースに基づき質量％で記載）を有する透明なガラスセラミックスを提供することによって解決される。 （もっと読む）

【課題】封着材料層のコーナー部へのレーザ照射に起因するガラス基板や封着層のクラックや割れ、また封着ガラスの発泡による気密性の低下等を抑制することを可能にした封着材料層付きガラス部材およびそれを用いた電子デバイスを提供する。
【解決手段】ガラス基板３は封止領域５を備える。ガラス基板３の封止領域７上には、封着ガラスと低膨張充填材とレーザ吸収材とを含有する封着材料からなる封着材料層７が設けられている。枠状の封着材料層７は直線部７ａとコーナー部７ｂとで構成されている。封着材料層７はコーナー部７ｂの幅Ｌ₁₂が直線部７ａの幅Ｌ₁₁より広い。 （もっと読む）

【課題】生産性（特に耐失透性）に優れると共に、ガラス封止材の熱膨張係数に整合し、しかも歪点が高い無アルカリガラスを創案することにより、ガラス板の製造コストを低廉化しつつ、有機ＥＬディスプレイ内部の気密性を確保し、且つｐ−Ｓｉ・ＴＦＴの製造工程におけるガラス板の熱収縮を低減すること。
【解決手段】本発明の無アルカリガラスは、実質的にアルカリ金属酸化物を含有せず、歪点が６８０℃より高く、３０〜３８０℃の温度範囲における平均熱膨張係数が４０〜５５×１０^−７／℃であり、液相温度が１２００℃より低いことを特徴とする。また、本発明の無アルカリガラスは、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ５５〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３ １０〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０．１〜４．５％、ＭｇＯ ０〜１％、ＣａＯ ５〜１５％、ＳｒＯ ０．５〜５％、ＢａＯ ５〜１５％を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 Ａｓ_２Ｏ_３やＳｂ_２Ｏ_３を清澄剤として使用しなくても、泡品位に優れたＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶化ガラスとその製造方法を提供する。
【解決手段】 Ａｓ_２Ｏ_３、Ｓｂ_２Ｏ_３を実質的に含有しないＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶化ガラスであって、Ｃｌを含有するとともに、Ｓ含有量がＳＯ_３換算で１０ｐｐｍ以下、β−ＯＨ値が０．２／ｍｍ以上であることを特徴とする。なおＣｌの含有量は５０〜１５００ｐｐｍであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】高強度と視域制御機能を両立し得るガラス板を創案することにより、３Ｄディスプレイの高精細化、高輝度化、低消費電力化に寄与すること。
【解決手段】本発明のガラス板は、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ４０〜８０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜３０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１５％、アルカリ金属酸化物（Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏの一種又は二種以上） ０〜２５％、アルカリ土類金属酸化物（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯの一種又は二種以上） ０〜１５％を含有し、且つ二次元ディスプレイの一部又は全部を覆う視域制御部材に用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ６００℃以下の温度で焼成することができ、焼成時に分相せず、Ａｇ電極との反応による黄変が少なく、高い透過率と低い誘電率を有する誘電体層を得ることが可能なプラズマディスプレイパネル用誘電体材料及びそれを用いて形成された誘電体層を備えてなるプラズマディスプレイパネル用ガラス板を提供することである。
【解決手段】 本発明のプラズマディスプレイパネル用誘電体材料は、Ｂ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系ガラス粉末からなるプラズマディスプレイパネル用誘電体材料であって、該ガラス粉末が、実質的にＰｂＯを含まず、モル百分率で、Ｂ_２Ｏ_３ ２６〜４５％、ＳｉＯ_２ ４２超〜５７％、Ａｌ_２Ｏ_３ １〜８％、Ｎａ_２Ｏ ０〜１０％、Ｋ_２Ｏ １〜１５％、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ４〜２０％、ＺｎＯ ０〜５％、ＣｕＯ＋ＭｏＯ_３＋ＣｅＯ_２＋ＭｎＯ_２＋ＣｏＯ ０〜６％含有するガラスからなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 外観検査の自動化が容易であり、しかも清澄性及び半導体素子の封入性に優れた無鉛半導体封入用ガラスを創案することを技術的課題とする。
【解決手段】 １０^６ｄＰａ・ｓの粘度の温度が６７０℃以下であり、ガラス組成として、ＣｅＯ_２の含有量が０．０１〜６質量％であり、且つＳｂ_２Ｏ_３の含有量が０．１質量％以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、部分分散比（θｇ，Ｆ）が小さく、且つ可視光に対する透明性が高められた光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、ＳｉＯ_２成分と、Ｔａ_２Ｏ_５成分、Ｎｂ_２Ｏ_５成分、Ｎａ_２Ｏ成分及びＢａＯ成分からなる群から選択される１種以上と、を含有し、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（ν_ｄ）との間で、ν_ｄ≦２５の範囲において（−０．００１６０×ν_ｄ＋０．６３４６０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００５６３×ν_ｄ＋０．７５５７３）の関係を満たし、ν_ｄ＞２５の範囲において（−０．００２５０×ν_ｄ＋０．６５７１０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００３４０×ν_ｄ＋０．７００００）の関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、耐失透性が高いプリフォーム材をより安価に得られる光学ガラスと、プリフォーム材及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＢ_２Ｏ_３成分を１０．０〜５０．０％、Ｌａ_２Ｏ_３成分を５．０〜３０．０％を含有し、Ｔａ_２Ｏ_５成分の含有量が５．０％以下である。プリフォーム材は、この光学ガラスからなる。また、光学素子は、この光学ガラスを母材とする。 （もっと読む）

【課題】原料コストや溶融コストを低下できると共に、低温で焼成可能であり、しかも焼成後の表面精度を向上し得る天然大理石様結晶化ガラスの製造方法を創案することにより、安価な天然大理石様結晶化ガラス及び天然大理石様結晶化ガラス物品を得る。
【解決手段】本発明の天然大理石様結晶化ガラスは、組成として、ＳｉＯ_２を４５質量％以上、ＣａＯを７．５質量％以上、ＺｎＯを０．０５質量％以上、ＭｇＯ＋ＳｒＯ＋ＺｒＯ_２を０．１質量％以上含み、主結晶としてβ−ウォラストナイト結晶が析出していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 Ａｓ_２Ｏ_３やＳｂ_２Ｏ_３を清澄剤として使用しなくても、泡品位に優れたＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶化ガラスとその製造方法を提供する。
【解決手段】 Ａｓ_２Ｏ_３、Ｓｂ_２Ｏ_３を実質的に含有しないＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶化ガラスであって、Ｃｌ、ＣｅＯ_２及びＳｎＯ_２の少なくとも１種を含有するとともに、Ｓ含有量がＳＯ_３換算で１０ｐｐｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）