３次元精密成形に用いられ、かつ強化処理に適する薄リチウムアルミノケイ酸ガラスが提供される。本発明ガラスは、５０ＭＰａ以下の中心引っ張り応力、６００〜１２００ＭＰａの表面圧縮応力、最大で５００ＭＰａまで達する曲げ強度、及び５５０℃以下のガラス転移温度を有する。 （もっと読む）

【課題】ガラスからの成分の揮発が少なく、結晶が析出しにくく、寸法精度に優れ、分相やそれに伴う結晶化が起こりにくい照明用ガラスおよび蛍光ランプ用外套管を提供する。
【解決手段】質量百分率でＳｉＯ_２ ５５〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０．５〜５％、Ｂ_２Ｏ_３ １〜１０％（ただし１０％を含まず）、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯ ０〜１５％、Ｎａ_２Ｏ ０〜１０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１０％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜５％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ５〜１５％、ＺｒＯ_２ ０〜３％、ＴｉＯ_２、ＣｅＯ_２、ＷＯ_３、ＭｏＯ_３、ＳｎＯ_２から選ばれる１種類以上を０．１〜５％含有し、Ａｌ_２Ｏ_３／Ｂ_２Ｏ_３が０．１〜０．５であり、熱膨張係数が４６〜７０×１０^−７／℃であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、微細気泡を有し、保温性及び断熱性に優れたグラスライニング施釉層を形成することができるグラスライニング組成物を提供することにある。
【解決手段】本発明のグラスライニング組成物は、グラスライニング用フリット１００質量部に対してナノメートルオーダーの気泡を有するナノ多孔質（nanoporous）セラミック粒子を１〜５０質量部を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、１．６７＜η_ｄ＜１．７０の屈折率η_ｄ、及び５２．０＜ｖ_ｄ＜５５．０のアッベ数ｖ_ｄをもち、及びガラス転移温度がＴ_ｇ＜５５０℃であって、以下の含有量を特徴とする精密成形用光学ガラスに関する。
ＳｉＯ_２ ５．５〜１５重量％
Ｌｉ_２Ｏ ２．６〜８重量％
Ｂ_２Ｏ_３ ２０〜４０重量％
Ｌａ_２Ｏ_３ ２１．５〜３５重量％
Ｙ_２Ｏ_３ ０．５〜１０重量％
Ｔａ_２Ｏ_５ ０．１〜８重量％
ＺｒＯ_２ ０．１〜５重量％
ＺｎＯ ０．１〜３５重量％
ＳｒＯ ０〜１５重量％
ＢａＯ ０〜２２重量％
Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜１０重量％
Ｎａ_２Ｏ ０〜２重量％
Ｓｂ_２Ｏ_３ ０〜１重量％
ＳｎＯ_２ ０〜１重量％
ＣｅＯ_２ ０〜１重量％ （もっと読む）

【課題】環境への負担が小さくかつ表面電荷密度が大きい半導体被覆用ガラスを提供する。
【解決手段】質量％で、ＺｎＯ ５０〜６５％、Ｂ_２Ｏ_３ １９〜２８％、ＳｉＯ_２ ７〜１５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ３〜１２％、Ｂｉ_２Ｏ_３ ０．１〜５％の組成を含有し、鉛成分を実質的に含有しないことを特徴とする半導体被覆用ガラス。 （もっと読む）

本発明は、光電池、好ましくは薄膜光電池であって、アルミノケイ酸ガラスから作製される基板ガラスを有し、このアルミノケイ酸ガラスは、ＳｉＯ_２およびＡｌ_２Ｏ_３ならびにアルカリ酸化物Ｎａ_２Ｏおよびアルカリ土類酸化物ＣａＯ、ＭｇＯ、およびＢａＯ、ならびに任意にさらなる成分を有するガラス組成物を含み、このガラス組成物は、１０〜１６重量％のＮａ_２Ｏ、＞０〜＜５重量％のＣａＯ、および＞１〜１０重量％のＢａＯを含有し、かつＣａＯ：ＭｇＯの比は、０．５〜１．７の範囲にある光電池、好ましくは薄膜光電池に関する。本発明に従って使用されるアルミノケイ酸ガラスは、ＣａＯ／ＭｇＯ選択された比のため結晶化に対して安定であり、かつ５８０℃を超える転移温度Ｔｇおよび１２００℃未満の加工温度ＶＡを有する。それゆえ、本発明に従って使用されるアルミノケイ酸ガラスは、ソーダ石灰ガラスに対する熱的により安定な代替物となる。また本発明の目的は、光電池用、好ましくは薄膜光電池用、特にＣｄＴｅ、ＣＩＳ、もしくはＣＩＧＳなどの複合型半導体材料に基づく光電池用、好ましくは薄膜光電池用の基板ガラス、スーパーストレート構造ガラス、および／またはカバーガラスとしてのアルミノケイ酸ガラスの使用である。 （もっと読む）

本発明は、高周波受信機、送信機、およびトランシーバを低温同時焼成セラミック（ＬＴＣＣ）材料から形成する方法に関する。低ｋ厚膜誘電体テープの２つ以上の層、および互いに接触し、および低ｋ厚膜誘電体テープの２つ以上の層、および互いに接触し、高周波トランシーバの経済的な大量生産技術を支援する改善された性質および性能を有する低ｋ高ｋのＬＴＣＣ構造を形成する。本発明は、ＬＴＣＣ受信、送信、およびトランシーバ構造、ならびにそのような構造から製造されたデバイスにも関する。
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【課題】アッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、レンズの色収差をより高精度に補正することのできる光学ガラス、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＮｂ_２Ｏ_５成分を７５．０％未満、及び、Ｐ_２Ｏ_５成分を４０．０％未満含有し、０．６２以上０．６９以下の部分分散比（θｇ，Ｆ）を有し、１５以上２７以下のアッベ数（ν_ｄ）を有する。プリフォーム及び光学素子は、この光学ガラスからなる。 （もっと読む）

【課題】アッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、レンズの色収差をより高精度に補正することができ、且つ着色の少ない光学ガラス、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＮｂ_２Ｏ_５成分を７５．０％未満、Ｐ_２Ｏ_５成分を４０．０％未満、及び、Ｒｎ_２Ｏ成分（式中、ＲｎはＬｉ、Ｎａ、Ｋ及びＣｓからなる群より選択される１種以上）を含有し、０．６２以上０．６９以下の部分分散比［θｇ，Ｆ］を有し、１５以上２７以下のアッベ数（ν_ｄ）を有する。プリフォーム及び光学素子は、この光学ガラスからなる。 （もっと読む）

【課題】高屈折率高分散性を有し、部分分散比が小さく、透過率が良好な光学ガラスの提供。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％で、Ｐ_２Ｏ_５成分を１０．０〜６０．０％、Ｎｂ_２Ｏ_５成分を１０．０〜４５．０％、ＴｉＯ_２成分を０〜３０．０％含有し、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（ν_ｄ）との間で、ν_ｄ≦２５の範囲において（−０．００１６×ν_ｄ＋０．６３４６０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００５６３×ν_ｄ＋０．７５８７３）の関係を満たし、ν_ｄ＞２５の範囲において（−０．００２５×ν_ｄ＋０．６５７１０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００３４×ν_ｄ＋０．７０３００）の関係を満たす光学ガラス。 （もっと読む）

供給原料を、供給原料の少なくとも一部を中空微小球に変換するのに十分な条件下で加熱し、該加熱が真空下で行われる工程を含む、中空微小球を作製するための方法が提供される。本方法を用いて作製される中空微小球も提供される。
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【課題】薄型で機械的強度が高いにもかかわらず、内部引っ張り応力により自己破壊してもガラス片が飛散し難く、しかも長期間の使用により、ディスプレイ等の視認性が低下し難いタッチパネルディスプレイ等の保護部材を創案すること。
【解決手段】本発明の合わせガラスは、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス板と、表面に圧縮応力層を有しない未強化ガラス板とを備える合わせガラスであって、強化ガラス板の板厚が２．０ｍｍ以下であり、且つ未強化ガラス板の板厚が５００μｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】脈理や異物が少なく、優れた耐候性と可視域における優れた透過特性を有する近赤外光吸収ガラス、および近赤外光吸収フィルター、ならびに前記フィルターを備える撮像装置を提供する。
【解決手段】近赤外光吸収ガラスが、Ｃｕ含有のフツリン酸ガラスからなり、Ｐ^５＋の含有量が２０〜４５カチオン％、Ａｌ^３＋の含有量が１〜２５カチオン％、Ｌｉ^＋の含有量が１０〜３０カチオン％、Ｎａ^＋の含有量が０〜１５カチオン％、Ｍｇ^２＋、Ｃａ^２＋、Ｓｒ^２＋およびＢａ^２＋の合計含有量が１４〜５０カチオン％、Ｃｕ^２＋の含有量が０．１〜１０カチオン％、Ｃｅ^４＋およびＳｂ^３＋の外割り合計含有量が０．００５〜２カチオン％、Ｏ^２−の含有量が５０〜７５アニオン％、Ｆ⁻の含有量が２５〜５０アニオン％、Ｃｌ⁻、Ｂｒ⁻およびＩ⁻の外割り合計含有量が０．００１〜１アニオン％である。
である （もっと読む）

【課題】Ｓｂ_２Ｏ_３を含有せず、硝酸塩等の酸化剤の添加量が必要最小限であっても、低温で清澄作用を発揮するとともに、低温封入性を有し、しかも金属線との接着性が高い半導体素子用ガラスを創案すること。
【解決手段】本発明の半導体封入用ガラスは、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ １０〜４５％、ＰｂＯ ４０〜７５％、ＣｅＯ_２ ０．０１〜３％、Ｋ_２Ｏ ０．５〜１０％を含有することを特徴とし、好ましくはＳｉＯ_２ ２０〜４５％、ＰｂＯ ５５〜６５％、ＣｅＯ_２ ０．０５〜２％、Ｋ_２Ｏ ０．５〜１０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜４％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１０％を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、二ケイ酸リチウム系を基本成分とするガラスセラミックであって、結晶化の中間段階で容易に機械加工することができて、完全に結晶化した後には高強度で高度に半透明性、かつ化学的に安定なガラスセラミックに関する。さらに、本発明はこのガラスセラミックを製造するための方法に関する。本発明に係るガラスセラミックは歯科用材料として用いられる。 （もっと読む）

【課題】高屈折率高分散性を有し、部分分散比が小さく、透過率が良好な光学ガラスの提供。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％で、Ｐ₂Ｏ₅成分を２５．０〜６０．０％、Ｎｂ₂Ｏ₅成分を５．０〜３５．０％、ＴｉＯ₂成分を０〜３０．０％含有し、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（ν_d）との間で、ν_d≦２５の範囲において（−０．００１６×ν_d＋０．６３４６０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００５６３×ν_d＋０．７５８７３）の関係を満たし、ν_d＞２５の範囲において（−０．００２５×ν_d＋０．６５７１０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００３４×ν_d＋０．７０３００）の関係を満たす光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】高屈折率高分散性を有し、部分分散比が小さく、透過率が良好な光学ガラスの提供。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％で、Ｐ₂Ｏ₅成分を１０．０〜４０．０％、Ｎｂ₂Ｏ₅成分を１０．０〜４５．０％、ＴｉＯ₂成分を０〜３０．０％含有し、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（ν_ｄ）との間で、ν_ｄ≦２５の範囲において（−０．００１６×ν_ｄ＋０．６３４６０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００５６３×ν_ｄ＋０．７５８７３）の関係を満たし、ν_ｄ＞２５の範囲において（−０．００２５×ν_ｄ＋０．６５７１０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００３４×ν_ｄ＋０．７０３００）の関係を満たす光学ガラス。 （もっと読む）

本発明は、シリコン半導体デバイスおよび光起電力セルの導電性ペースト中に有用なガラス組成物に関する。
（もっと読む）

【課題】マスキング層の厚さを薄くしても、十分な吸光度や光遮蔽性を得ることができるマスキングインク用ガラス組成物とマスキングインクを提供する。
【解決手段】ガラス組成物は、下記成分基準のモル％表示で、１８〜５５％のＳｉＯ₂、１〜３０％のＺｎＯ、１〜３０％のＢ₂Ｏ₃、０〜１０％のＢｉ₂Ｏ₃、８〜２５％のＬｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、及びＫ₂Ｏから選ばれる少なくとも１種、０〜１０％のＣｕＯ、０〜８％のＡｌ₂Ｏ₃、０〜３％のＺｒＯ₂、ＳｎＯ₂、及びＣｅＯ₂から選ばれる少なくとも１種、１％以下のＦｅ₂Ｏ₃、及び０．５％未満のＴｉＯ₂から本質的になる。マスキングインクは、ガラス組成物４０〜８０質量％と耐熱顔料２０〜４０質量％と耐火物フィラー０〜３０質量％とを含有する固形成分組成物を、ビヒクルに混合・分散させてなり、マスキング層４の形成に用いられる。 （もっと読む）

【課題】基材上に優れた光触媒活性を有するとともに耐久性にも優れた光触媒層を設けた複合体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】複合体は、基材と、この基材上に位置するガラスセラミックス層と、を備える複合体であって、前記ガラスセラミックス層が結晶相及びガラス相を有しており、前記ガラスセラミックス層は、酸化物基準のモル％で、ＴｉＯ_２成分を５．０〜７０．０％、並びに、ＳｉＯ_２成分、Ｂ_２Ｏ_３成分、Ｐ_２Ｏ_５成分及びＧｅＯ_２成分からなる群より選択される１種以上を合計で５．０〜９０．０％含有する。 （もっと読む）