【課題】酸化ビスマスを含有する光学ガラスにおいて、石英ガラス坩堝溶解で坩堝が結晶化する現象を抑制する製造方法を提供する。
【解決手段】石英ガラス坩堝にて原料を溶融することにより、酸化物基準の質量％でＢｉ_２Ｏ_３成分を１０％以上含有する光学ガラスを製造する方法であって、ガラス原料にＲｎ_２Ｏ成分（ＲｎはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓからなる群より選択される１種以上）を０．１％以上（ただし、Ｎａ_２ＯとＫ_２Ｏの合計量は０％を超える）添加することを特徴とする前記製造方法。前記Ｒｎ_２Ｏ成分におけるＫ_２Ｏ成分及び／又はＮａ_２Ｏ成分の割合が全Ｒｎ_２Ｏ成分１００％とした場合、４０％以上であることを特徴とする前記製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は酸化ビスマスを含有するガラスにおいて、良好な透過率を有する光学ガラスを製造する方法を提供する。
【解決手段】Ｂｉ_２Ｏ_３を含有する光学ガラスの原料混合物中に、熱分解して酸化性ガスとなる原料及び／又はその他のガスを放出させる事ができる原料を含有させ、攪拌による酸化効果、酸化性ガスによる酸化効果によってガラスの透過率を向上させる。酸化物基準の質量％でＢｉ_２Ｏ_３成分を１０％以上含有する原料混合物を溶融成形し、光学ガラスを製造する方法であって、前記原料混合物において、総質量の３％以上がガラス構成成分として残留しない成分を含有することを特徴とする前記製造方法。 （もっと読む）

【課題】厚み１ｍｍでの波長５．５μｍの光の透過率が５０％以上、波長７．０μｍの光の透過率が１０％以下である基板用ガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル％表示で、Ｂｉ_２Ｏ_３を１０〜５５％、ＧｅＯ_２を２０〜８５％、Ｇａ_２Ｏ_３を０〜１９％、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜１５％含有し、Ｂｉ_２Ｏ_３＋ＧｅＯ_２が５０％以上であり、ＭｇＯを含有する場合Ｇａ_２Ｏ_３＋ＭｇＯが２０％以下である基板用ガラス。Ｂｉ_２Ｏ_３含有量が１５％以上、ＧｅＯ_２含有量が８０％以下、Ｇａ_２Ｏ_３＋Ａｌ_２Ｏ_３が２〜３０％である前記基板用ガラス。ＧｅＯ_２＋Ａｌ_２Ｏ_３が６０％以上である前記基板用ガラス。ガラス転移点が４００℃以上である前記基板用ガラス。 （もっと読む）

【課題】屈折率が１．５５〜１．９であり、屈伏温度が低く（５２０℃以下）、且つ、耐失透性が良好な、モールドプレス成形に適した光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス全体量を１００重量％とし、酸化物組成として、ＳｉＯ_２：６〜３７重量％、Ｂ_２Ｏ_３：７重量％より多く２６重量％以下及びＡｌ_２Ｏ_３：１５重量％以下であって、ＳｉＯ_２、Ｂ_２Ｏ_３及びＡｌ_２Ｏ_３の合計量として１９〜６６重量％を含有し、Ｂｉ_２Ｏ_３：１８〜７３重量％を含有し、屈折率が１．５５〜１．９であり、且つ、屈伏温度が５２０℃以下であることを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】ガラスフリット、シーリング材形成用の組成物及び発光装置を提供する。
【解決手段】第１基板と、第２基板と、第１基板と第２基板との間に備わった発光素子と、及び第１基板と第２基板とを接着させ、発光素子を密封させるシーリング材を具備した発光装置であって、シーリング材はＶ^＋４イオンを含む発光装置、該発光装置を得るためのガラスフリット、シーリング材形成用の組成物、及び該シーリング材形成用の組成物を利用した発光装置の製造方法である。これにより、該発光装置のシーリング材は、塗布法及び電磁波照射によって簡単に形成でき、製造コストが安く、シーリング材の形成時に発光素子の劣化も実質的に防止され、また、シーリング材のシーリング特性にもすぐれ、高寿命性を有する発光装置を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】背面誘電体乾燥膜上にサンドブラスト法で未焼成隔壁が形成でき、背面誘電体層と隔壁を同時に焼成して形成できる誘電体用ペーストの提供。
【解決手段】ガラス基板１の電極２を被覆するように誘電体用ガラスペーストを塗布、乾燥して第１の乾燥膜３とし、その上に隔壁用ガラスペーストを塗布、乾燥して第２の乾燥膜４Ａとし、それを隔壁形状に加工後焼成する隔壁付きガラス基板の製造で用いる誘電体用ガラスペーストであって、軟化点が６５０℃以下であるガラス粉末、酢酸セルロースおよび溶剤を含有し、ガラス粉末の質量を１００部としたときに、酢酸セルロースの質量が７〜１５部である誘電体用ガラスペースト。 （もっと読む）

【課題】長期間保管しても、ペースト粘度が不当に上昇することなく、平滑で均一な膜厚を形成できるガラスペーストを得ることにより、表面精度が良好な誘電体層等を形成すること。
【解決手段】本発明のガラスペーストは、ガラス粉末とビークルを含有するガラスペーストであって、ガラスペースト中の塩化物の含有量が６０ｐｐｍ以下、好ましくは４０ｐｐｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ディスプレーまたはスクリーンの背景照明のためのシステムにおいて、簡易に製造できて、照明密度の経時的低下に対して、より修復し易いバックライトシステムを提供する。
【解決手段】少なくとも１つのカバーガラス付き照明体１１０およびその上に配置された透明素子１３０を持ち、該素子の少なくとも１つの面に、少なくとも部分的には平面状に蛍光層１２０が付与されている。 （もっと読む）

【課題】高屈折率で、低アッベ数の光学特性を有すると共に、人体に有害な酸化鉛を含まず、しかもガラス転移温度やガラス屈伏点が低く、かつ精密モールドプレス成形時に白濁が生じにくい、低コストの光学ガラスを提供すること。
【解決手段】ガラス組成として、重量％で
Ｐ₂Ｏ₅：１８〜３２％、Ｂ₂Ｏ₃：０〜６％、ＧｅＯ₂：０．１〜５％、Ａｌ₂Ｏ₃：０．１〜６％、ＺｎＯ：０．１〜５％、ＴｉＯ₂：０〜１０％、Ｎｂ₂Ｏ₅：１６〜５０％、ＷＯ₃：１〜１６％、Ｂｉ₂Ｏ₃：３〜３６％、Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ：２〜１５％（但し、Ｌｉ₂Ｏ：０．１〜６％，Ｎａ₂Ｏ：０．１〜１２％，Ｋ₂Ｏ：０．１〜６％）、ＢａＯ：０．１〜８％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ：０．１〜８％（但し、ＭｇＯ：０〜５％，ＣａＯ：０〜５％，ＳｒＯ：０〜５％）を含んでなることを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】透明性に優れるとともに、比較的長波長の励起光によっても発光強度に優れる酸化スズ含有ガラスを提供する。
【解決手段】酸化ケイ素、および所望によりホウ酸を含んでなる透明ガラス母体に、ＳｎＯが添加されてなる酸化スズ含有ガラスであって、前記ＳｎＯが、ガラス中に３〜３５ｍｏｌ％含有されている、ことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】環境にやさしく、半導体電子部品が、常用で１０００℃以上の耐熱性を有する半導体封止用ガラスセラミックス及び半導体電子部品を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の半導体封止用ガラスは、半導体とリード線の一部を被覆封止する半導体封止用ガラスであって、該ガラスが、封止することで結晶相を析出し、且つ、結晶相の割合が５０体積％以上となる性質を有する結晶性ガラス粉末からなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】Ａｌ_４Ｂ_２Ｏ_９の結晶の析出を十分に防止しながらチタン酸化物を選択的に結晶化でき、しかも十分に高い光触媒機能を発揮できる結晶化ガラスを効率よく製造することができる材料として好適に使用することが可能な透明性を有するガラス、そのガラスを用いて得られるチタン酸化物の結晶が析出した結晶化ガラス及びその結晶化ガラスの製造方法、並びに、光触媒部材を提供すること。
【解決手段】チタン酸化物５〜２５モル％、ビスマス酸化物３〜１５モル％、ホウ素酸化物４５〜７５モル％、アルミニウム酸化物５〜２５モル％及びアルカリ土類金属の酸化物２〜１５モル％を含有し、且つ前記チタン酸化物の結晶が析出したものであることを特徴とする結晶化ガラス。 （もっと読む）

【課題】酸化ビスマスを含有し光学ガラスにおいて、脱泡性に優れた光学ガラスを提供する。
【解決手段】質量％で、Ｂｉ_２Ｏ_３成分を１０％以上９０％未満含有する光学ガラスにおいて、かつＴｅＯ_２成分及び／又はＳｅＯ_２成分を０．１％以上含有させることにより、「ＪＯＧＩＳ１２−１９９４光学ガラスの泡の測定方法」に準じた測定方法において、４級から１級の級を有する光学ガラスを製造できる。さらに、アルカリ土類金属酸化物、アルカリ金属酸化物等の調整により、清澄工程を短時間・低温で完了することが可能である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高屈折率光学ガラスであり、非常に低いガラス転移点（Ｔｇ）を有し、かつ化学的耐久性に優れ、精密プレス成形に適した光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率（ｎｄ）が１．９以上およびアッベ数（νｄ）が１５以上であり、ガラス転移点（Ｔｇ）が３００℃以下であり、Ｐｂ及び／又はＡｓ化合物を含まず、ＴｅＯ_２成分を５０ｍｏｌ％以上含有することを特徴とする光学ガラス。Ｒ_２Ｏ（ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓからなる群より選択される１種以上）成分、ＺｎＯ成分、Ｂｉ_２Ｏ_３成分を含有し、さらにＡｌ_２Ｏ_３及び／又はＧａ_２Ｏ_３成分を含有する前記光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、例えば、焼成温度が５００℃よりも高い場合であっても、焼成時に表層がビスマス系ガラスに溶け込み難いコーディエライト粉末を作製することにより、焼成時に熱膨張係数が上昇しないとともに、流動性が損なわれない封着材料を提供することである。
【解決手段】ビスマス系ガラス粉末とコーディエライト粉末を含有する封着材料において、コーディエライト粉末が固相反応によって作製されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】平面表示装置で最適な気密容器の構成、特に支持枠の材料構成、平面表示装置の信頼性向上、製品コストの低廉化に関する。
【解決手段】ガラス粉末を含有する粉末材料を焼結させた支持枠を介し一対のガラス基板を備えた平面表示装置で、（１）ガラス粉末が、非晶質であり、（２）ガラス粉末が、下記酸化物換算の質量％表示で、ガラス組成として、Ｂｉ₂Ｏ₃ ２０〜７５％、Ｂ₂Ｏ₃ ８〜３５％、ＺｎＯ ０〜２０％、ＳｉＯ₂ ０〜１５％、Ｒ₂Ｏ ０〜２０％（但し、Ｒ₂Ｏは、Ｌｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、Ｋ₂Ｏ、Ｃｓ₂Ｏを指す）、Ｌｉ₂Ｏ ０〜１０％、Ｎａ₂Ｏ ０〜１０％、Ｋ₂Ｏ ０〜１０％、Ｒ’Ｏ ０〜４０％（但し、Ｒ’Ｏは、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯを指す）、ＳｒＯ ０〜２５％、ＢａＯ ０〜２５％含有するとともに、（３）一方のガラス基板と支持枠が融着されており、（４）他方のガラス基板と支持枠が低融点封着材料で封着されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、平面表示装置の支持枠の形成に好適なガラス組成物を提案し、平面表示装置の信頼性向上およびコストの低廉化に資することである。
【解決手段】本発明の支持枠形成用ガラス組成物は、下記酸化物換算の質量％表示で、ガラス組成として、Ｂｉ₂Ｏ₃ ２０〜７５％、Ｂ₂Ｏ₃ ８〜３５％、ＺｎＯ ０〜２０％、ＳｉＯ₂ ０〜１５％、Ｒ₂Ｏ ０〜２０％（但し、Ｒ₂Ｏは、Ｌｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、Ｋ₂Ｏ、Ｃｓ₂Ｏを指す）、Ｌｉ₂Ｏ ０〜１０％、Ｎａ₂Ｏ ０〜１０％、Ｋ₂Ｏ ０〜１０％、Ｒ’Ｏ ０〜４０％（但し、Ｒ’Ｏは、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯを指す）、ＳｒＯ ０〜２５％、ＢａＯ ０〜２５％を含有し、且つ実質的にＰｂＯを含有しないことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】化学耐久性に優れる無鉛ガラスを用いた隔壁付きガラス基板の製造方法の提供。
【解決手段】ガラス基板上に形成された電極を、下記酸化物基準のモル百分率表示で、ＳｉＯ_２を９〜４０％、Ｂ_２Ｏ_３を１３〜４０％、ＺｎＯを５〜３５％、Ａｌ_２Ｏ_３を４〜１５％、Ｂｉ_２Ｏ_３を１６〜２８％含有し、ＺｎＯ含有量が（Ｂ_２Ｏ_３含有量＋１０モル％）以下である無鉛ガラスの粉末と、その粉末１００質量部に対して０．１〜４０質量部の割合の無機酸化物粉末とを含有するガラスセラミックス組成物を含有するグリーンシートまたは同ガラスセラミックス組成物を含有するガラスペーストによって被覆して焼成し、そのグリーンシートまたはガラスペーストの焼成体の上にエッチング法によって隔壁を形成する隔壁付きガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】少なくとも１．７の屈折率をもつ高屈折率ガラスの製造において、ガラスに含まれる還元感受性成分の還元が減じられ、さらに好ましくは防止される製造方法を提供する。
【解決手段】清澄槽及び／又は溶融るつぼ・均質化装置へ酸化剤を導入することによって、ガラスの還元感受性成分が清澄処理中に還元されることが減じられ、さらに好ましくは回避されるようにする。酸化剤として、酸素及び／又はオゾンが好ましく用いられる。 （もっと読む）

【課題】従来技術の問題を回避し、所望の光学特性を得るのを容易にする光学ガラスを提供する。これ等ガラスは好ましくは、精密プレス法で加工可能であり、遷移温度が低くあるべきである。更に、溶融可能、加工可能であり、且つ二次成形工程及び／又は連続生産工場での製造において結晶化安定性が十分であるべきである。更に、粘性範囲１０^７．６〜１０^１３ｄＰａｓにおいてできるだけ短いガラスが望ましい。
【解決手段】次の組成（酸化物に基づく重量％で）、即ち
Ｐ_２Ｏ_５ １２〜３５
Ｎｂ_２Ｏ_５ ３０〜５０
Ｂｉ_２Ｏ_３ ２〜１３
ＧｅＯ_２ ０．１〜７
Ｌｉ_２Ｏ ≦６
Ｎａ_２Ｏ ≦６
Ｋ_２Ｏ ≦６
Ｃｓ_２Ｏ ≦６
ＭｇＯ ≦６
ＣａＯ ≦６
ＳｒＯ ≦６
ＢａＯ ７〜＜１７
ＺｎＯ ≦６
ＴｉＯ_２ ≦７
ＺｒＯ_２ ≦７
ＷＯ_３ ２〜１４
Ｆ ≦６
を含んで成る無鉛光学ガラス。 （もっと読む）