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Fターム[4G062GC01]に分類される特許
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多孔質ガラスの製造方法および光学部材の製造方法
【課題】 低温での加熱処理により相分離処理を行い、孔径、空孔率の制御が可能な多孔質ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】 SiO2の濃度が50wt%以上70wt%以下、B2O3の濃度が15wt%以上40wt%以下、Li2Oの濃度が1.0wt%以上8.0wt%以下、Na2Oの濃度が2.0wt%以上8.0wt%以下、K2Oの濃度が0.3wt%以上5.0wt%以下であり、Li2OとNa2OとK2Oの濃度の合計が3.5wt%以上15wt%以下であり、K2Oの濃度がLi2OとNa2OとK2Oの濃度の合計に対して0.10以上0.30以下の比率である母体ガラスを、300℃以上500℃以下の温度、3時間以上50時間以下で加熱して相分離させて相分離ガラスを形成する工程と、相分離ガラスをエッチングして多孔質ガラスを形成する工程と、を有することを特徴とする多孔質ガラスの製造方法。
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ホウケイ酸塩ガラス、多孔質ガラスおよびその製造方法
【課題】 酸化ケイ素の含有割合が多くても相分離を起し、強度が高い多孔質ガラスを製造することができるホウケイ酸塩ガラスおよびそれを用いた多孔質ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】 酸化ケイ素60重量%以上72重量%以下、酸化ホウ素18重量%以上30重量%以下、酸化ナトリウム9.5重量%以上15重量%以下、酸化セリウム0.1重量%以上5.0重量%以下を含有するホウケイ酸塩ガラス。前記ホウケイ酸塩ガラスを加熱による分相処理をしてシリカリッチ相と非シリカリッチ相に相分離させる工程、前記非シリカリッチ相を溶液によるエッチングにより溶出させる工程を有する多孔質ガラスの製造方法。
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ガラス組成物
【課題】環境負荷の大きい酸化ヒ素や酸化アンチモンの使用量が少なく、しかも残泡の少ないガラス組成物を提供する。
【解決手段】このガラス組成物は、質量%で表示して、SiO2:40〜70%,B2O3:5〜20%,Al2O3:10〜25%,MgO:0〜10%,CaO:0〜20%,SrO:0〜20%,BaO:0〜10%,Li2O:0〜0.5%,Na2O:0〜0.5%,K2O:0〜0.5%,Cl:0%を超え1.5%以下,を含み、Li2O+Na2O+K2Oが0.06%を超える範囲にある。このガラス組成物は、例えば、ガラス原料の一部として塩化物を用いることにより好適に製造できる。
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磁気ディスク用ガラスブランク
【課題】表面の平坦度が高く、板厚が均一で、且つ表面粗さが良好な磁気ディスク用ガラスブランクを提供する。
【解決手段】一対の主表面と端面を有し、磁気ディスク用ガラス基板となる磁気ディスク用ガラスブランクであって、主表面の平坦度が4μm以下であり、厚さのばらつきが6μm以内であることを特徴とする磁気ディスク用ガラスブランクが提供される。
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両面が平滑な表面であるフレーク状ガラス体
【課題】本発明は、従来技術では作製することができなかった、両面が平滑な表面であるフレーク状ガラス体を提供することを課題とする。
【解決手段】両面が平滑な表面とするために、従来の製造方法のようにローラーや基板などの成形・加工装置表面にガラスを接触させることなく、非接触でフレーク状ガラス体を作製する。本発明により得られた両面が平滑な表面であるフレーク状ガラス体は、両面の平滑性が高いため、従来のフレーク状ガラス体に比べより高い光輝感が得られる。
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発光素子搭載基板
【課題】光反射率が高くかつ腐食による反射率の低下の少ない光反射層を備え、光の取出し効率が向上された発光素子搭載基板を提供する。
【解決手段】表面に反射層としての銀導体層2が形成された無機材料基板1からなり、この銀導体層2の上に発光素子6が搭載される発光素子搭載基板であって、銀導体層2が、ペースト体の焼成により形成されており、銀導体層2を覆うように無機材料基板2に焼き付けて形成した厚み5〜20μmのオーバーコート層3を有しており、このオーバーコート層3が酸化物基準のモル%表示でSiO2を62〜84%、B2O3を10〜25%、Al2O3を0〜5%、Na2OおよびK2Oのいずれか1以上を合計で0〜5%、含有し、SiO2とAl2O3の含有量の合計が62〜84%、MgOを0〜10%、CaO、SrO、BaOのいずれか1以上を含有する場合にその含有量の合計が5%以下のホウケイ酸ガラスである。
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盗撮防止シート
【課題】簡易な構成で、盗撮防止対象物上の画像の盗撮を防止することができる盗撮防止シートを提供する。
【解決手段】赤外蛍光体粒子14Bを含む赤外発光層14を備えた盗撮防止シート10を、表示装置等の表示画面等の盗撮防止対象物上に設置すると、表示画面から放射された可視光や自然光に含まれる可視光によって赤外発光層14中の赤外蛍光体粒子14Bが赤外光を発光する。このため、表示画面上に表示された画像を、この盗撮防止シート10を介して撮像装置によって撮像すると、CCDは赤外波長領域にも感度を有するため、赤外蛍光体粒子14Bによる赤外光が撮像されることとなる。このため、赤外蛍光体粒子14Bの発光による赤外光によって、表示画面に表示された画像が撮像装置によって撮像されることが阻害され、盗撮を防止することができる。
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太陽電池用ガラス基板
【課題】表面品位を向上させることができ、且つ耐失透性が良好な太陽電池用ガラス基板を得ること。
【解決手段】本発明の太陽電池用ガラス基板は、ガラス組成として、質量%でSiO2 30〜70%、Al2O3 3〜20%、B2O3 0〜10%、MgO 0〜10%、CaO 0〜10%、SrO 0〜25%、BaO 0〜25%、Na2O 0〜10%、K2O 0〜10%、ZrO2 0〜8%を含有し、且つ30〜380℃における熱膨張係数が50〜95×10−7/℃であることを特徴とする。
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ディスプレイ装置用ガラス板
【課題】ガラスそのものの脆さを改善し加工時に発生する不可避な残存クラックの伸展を防ぎつつ、また深い表面応力層を得やすくすることにより発生した残存クラックを表面圧縮応力層に容易に取り込むことが可能で、かつ外力による傷の発生がしにくい化学強化板ガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準の質量百分率表示で、SiO2を75.5〜85.5%、MgOを1〜8%、CaOを0〜7%、Al2O3を0〜5%、Na2Oを10〜22.5%を含有し、MgOの含有量がCaOの含有量より多く、MgOおよびCaOの含有量の合計(MgO+CaO)が8%以下、MgO、CaOおよびNa2Oの含有量の合計が24.5%以下、(MgO+CaO)をNa2O含有量で除して得られた比が0.45以下である化学強化用板ガラス。
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収着材料
【課題】塩化物系の混合塩からなる電解質融液中のCs又はSr、例えば、塩化物系使用済電解質融液中に残留するFPであるCs又はSrを選択的に収着することで、電解質の再生が簡便化出来る収着材料が求められている。
【解決手段】Fe2O3を必須成分とし、モル%で表して、Fe2O3が1〜50、P2O5が50〜80、かつ、Al2O3、B2O3、TiO2、CoO、NiO、CeO2、Cr2O3、La2O3、MoO3、Nb2O5、WO3から選択される1種以上の合計が1〜40のFe2O3−P2O5系ガラスからなり、塩化物系の混合塩からなる電解質融液中のCs又はSrを選択的に収着することを特徴とする収着材料。ガラス転移点が450℃以上である特徴も持つ。
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無アルカリガラス
【課題】生産性(特に耐失透性)に優れると共に、歪点とヤング率が十分に高い無アルカリガラスを創案することにより、ガラス板の製造コストを低廉化しつつ、LTPSプロセスにおいて、ガラス板の熱収縮を抑制し、且つガラス板を大型化、薄型化した場合でも、ガラス板の撓みに起因した不具合を防止する。
【解決手段】本発明の無アルカリガラスは、ガラス組成として、質量%で、SiO2 55〜80%、Al2O3 10〜25%、B2O3 2〜5.5%、MgO 3〜8%、CaO 3〜10%、SrO 0.5〜5%、BaO 0.5〜7%を含有し、モル比MgO/CaOが0.5〜1.5であり、実質的にアルカリ金属酸化物を含有せず、ヤング率が80GPaより高いことを特徴とする。
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ガラスコーティング剤
【課題】200℃以下のいわゆる常温において、ステンレス鋼等の金属の表面に塗布し、耐候性、防汚性及び難燃性に優れた金属を容易に得ることのできる常温ガラスコーティング剤を提供する。
【解決手段】酸化物化に必要な触媒としてホウ素イオン及びハロゲンイオンを含み、アルコールに溶融した加水分解可能な有機金属化合物の単一組成もしくは複合組成からなる常温ガラスコーティング剤である。該ガラスコーティング剤を金属板の表面に塗布することで200℃以下のいわゆる常温で乾燥させることができ、かつ、耐候性、防汚性及び難燃性に優れたものとできる。
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光学ガラス、ガラス成形体、光学素子およびそれらの製造方法
【課題】 耐失透性の優れた高屈折率低分散光学ガラスおよび該光学ガラスからなるガラス成形体と光学素子を提供する
【解決手段】 質量%表示で、B2O3とSiO2を合計量で12〜30%、La2O3、Gd2O3、Y2O3、Yb2O3、ZrO2、Nb2O5およびWO3を合計量で55〜80%、ZrO2を2〜10%、Nb2O5を0〜15%、ZnOを0〜15%、Ta2O5を0%以上13%未満含み、La2O3、Gd2O3、Y2O3、Yb2O3、ZrO2、Nb2O5およびWO3の合計含有量に対するTa2O5含有量の比が0.23以下、B2O3とSiO2の合計含有量に対するLa2O3、Gd2O3、Y2O3およびYb2O3の合計含有量の比が2〜4であり、かつ屈折率ndが1.86以上で、アッベ数νdが38以上である光学ガラス、および該光学ガラスからなる棒状のガラス成形体と光学素子である。
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強化ガラス板
【課題】圧縮応力層の圧縮応力値が高く、且つ所望の色合いを有する強化ガラス板を創案すること。
【解決手段】本発明の強化ガラス板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス板であって、ガラスの組成として、下記酸化物換算の質量%で、SiO2 50〜70%、Al2O3 5〜20%、B2O3 0〜5%、Na2O 8〜18%、K2O 2〜9%、Fe2O3 30〜1500ppmを含有し、波長400〜700nmにおける板厚1.0mm換算の分光透過率が85%以上、xy色度座標(C光源、板厚1mm換算)におけるxが0.3095〜0.3120、xy色度座標(C光源、板厚1mm換算)におけるyが0.3160〜0.3180であることを特徴とする。
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ArFリソグラフィ用ミラー、およびArFリソグラフィ用光学部材
【課題】ArFリソグラフィ用ミラーに適した特性を有する光学部材、および、該光学部材を用いたArFリソグラフィ用ミラーの提供。
【解決手段】光学面が下記(1)〜(5)を満たし、22℃における熱膨張係数(CTE)が0±200ppb/℃であるArFリソグラフィ用光学部材。
1mm≦λ(空間波長)≦10mmにおけるRMSが0.1nm以上3.0nm以下 (1)
10μm≦λ(空間波長)≦1mmにおけるRMSが0.1nm以上3.0nm以下 (2)
250nm≦λ(空間波長)≦10μmにおけるRMSが0.05nm以上1.0nm以下 (3)
100nm≦λ(空間波長)≦1μmにおけるRMSが0.01nm以上1.0nm以下 (4)
50nm≦λ(空間波長)≦250nmにおけるRMSが0.01nm以上1.0nm以下 (5)
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ガラス組成物
【課題】環境負荷の大きい酸化ヒ素や酸化アンチモンの使用量が少なく、しかも残泡の少ないガラス組成物を提供する。
【解決手段】このガラス組成物は、質量%で表示して、SiO2:40〜70%,B2O3:5〜20%,Al2O3:10〜25%,MgO:0〜10%,CaO:0〜20%,SrO:0〜20%,BaO:0〜10%,Li2O:0〜0.5%,Na2O:0〜0.5%,K2O:0〜0.5%,Cl:0%を超え1.5%以下,を含み、Li2O+Na2O+K2Oが0.06%を超える範囲にある。このガラス組成物は、例えば、ガラス原料の一部として塩化物を用いることにより好適に製造できる。
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化学強化用ガラスおよびディスプレイ装置用ガラス板
【課題】傷がついても破壊しにくい化学強化ガラスに用いるガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル百分率表示で、SiO2を65〜77%、Al2O3を3〜15%、Na2Oを8〜15%、K2Oを0〜2%未満、MgOを3〜15%、ZrO2を0〜1%含有し、SiO2およびAl2O3の含有量の合計SiO2+Al2O3が85%以下であり、CaOを含有する場合その含有量が1%未満であり、かつ、各成分の含有量を用いて下記式により算出されるRが0.66以上である化学強化用ガラス。
R=0.029×SiO2+0.021×Al2O3+0.016×MgO−0.004×CaO+0.016×ZrO2+0.029×Na2O+0×K2O−2.002
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導電性ペースト及び該導電性ペーストを用いた太陽電池素子
【課題】
半導体シリコン太陽電池に形成される電極として使用可能な鉛を含まない導電性ペーストを得ることを目的とした。
【解決手段】
半導体シリコン基板を用いる太陽電池用の導電性ペーストであって、該導電性ペーストに含まれるガラスフリットの組成は、実質的に鉛成分を含まず、質量%で
SiO2を1〜20、B2O3を5〜30、Al2O3を0〜10、ZnOを5〜35、RO(MgO、CaO、SrO、及びBaOからなる群から選ばれる少なくとも1種の合計)を5〜30、R2O(Li2O、Na2O、及びK2Oからなる群から選ばれる少なくとも1種の合計)を0.1〜6、Bi2O3を10〜60、を含むことを特徴とする導電性ペースト。
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蓄電デバイス用負極活物質の製造方法
【課題】良好な初回充放電特性を有する蓄電デバイス用負極活物質の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくともSとPを含む化合物からなる酸化物材料とリチウム含有物質を、有機溶媒中で接触させることにより、酸化物材料にリチウムを挿入することを特徴とする蓄電デバイス用負極活物質の製造方法。酸化物材料とリチウム含有物質を有機溶媒中で混合すること、または、酸化物材料とリチウム含有物質を圧着させた状態で、有機溶媒中に浸漬させることが好ましい。
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硫化物系固体電解質ガラスの製造方法
【課題】特殊な設備を必要としないで、硫化リチウムの粉砕及び精製を実施しなくても、イオン伝導度が高い硫化物系固体電解質を製造できる方法を提供する。
【解決手段】LiR(Rは、炭素数1〜20の直鎖又は分岐アルキル基、炭素数3〜20のシクロアルキル基、炭素数4〜20のシクロアルキルアルキル基、炭素数4〜20のアルキルシクロアルキル基、炭素数1〜20の直鎖又は分岐アルコキシ基、炭素数3〜20のシクロアルコキシ基、炭素数4〜20のシクロアルキルアルコキシ基、又は炭素数4〜20のアルコキシシクロアルキル基である)と硫化水素を反応させて硫化リチウムを製造する工程と、硫化りん、硫化ゲルマニウム、硫化ケイ素及び硫化ほう素から選択される1以上の化合物と、前記硫化リチウムとを反応させて、硫化物系固体電解質ガラスを製造する工程とを含む硫化物系固体電解質ガラスの製造方法。
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