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ガラス組成物
【課題】環境負荷の大きい酸化ヒ素や酸化アンチモンの使用量が少なく、しかも残泡の少ないガラス組成物を提供する。
【解決手段】このガラス組成物は、質量%で表示して、SiO2:40〜70%,B2O3:5〜20%,Al2O3:10〜25%,MgO:0〜10%,CaO:0〜20%,SrO:0〜20%,BaO:0〜10%,Li2O:0〜0.5%,Na2O:0〜0.5%,K2O:0〜0.5%,Cl:0%を超え1.5%以下,を含み、Li2O+Na2O+K2Oが0.06%を超える範囲にある。このガラス組成物は、例えば、ガラス原料の一部として塩化物を用いることにより好適に製造できる。
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ガラス組成物
【課題】環境負荷の大きい酸化ヒ素や酸化アンチモンの使用量が少なく、しかも残泡の少ないガラス組成物を提供する。
【解決手段】このガラス組成物は、質量%で表示して、SiO2:40〜70%,B2O3:5〜20%,Al2O3:10〜25%,MgO:0〜10%,CaO:0〜20%,SrO:0〜20%,BaO:0〜10%,Li2O:0〜0.5%,Na2O:0〜0.5%,K2O:0〜0.5%,Cl:0%を超え1.5%以下,を含み、Li2O+Na2O+K2Oが0.06%を超える範囲にある。このガラス組成物は、例えば、ガラス原料の一部として塩化物を用いることにより好適に製造できる。
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強化ガラス板
【課題】圧縮応力層の圧縮応力値が高く、且つ所望の色合いを有する強化ガラス板を創案すること。
【解決手段】本発明の強化ガラス板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス板であって、ガラスの組成として、下記酸化物換算の質量%で、SiO2 50〜70%、Al2O3 5〜20%、B2O3 0〜5%、Na2O 8〜18%、K2O 2〜9%、Fe2O3 30〜1500ppmを含有し、波長400〜700nmにおける板厚1.0mm換算の分光透過率が85%以上、xy色度座標(C光源、板厚1mm換算)におけるxが0.3095〜0.3120、xy色度座標(C光源、板厚1mm換算)におけるyが0.3160〜0.3180であることを特徴とする。
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ガラスコーティング剤
【課題】200℃以下のいわゆる常温において、ステンレス鋼等の金属の表面に塗布し、耐候性、防汚性及び難燃性に優れた金属を容易に得ることのできる常温ガラスコーティング剤を提供する。
【解決手段】酸化物化に必要な触媒としてホウ素イオン及びハロゲンイオンを含み、アルコールに溶融した加水分解可能な有機金属化合物の単一組成もしくは複合組成からなる常温ガラスコーティング剤である。該ガラスコーティング剤を金属板の表面に塗布することで200℃以下のいわゆる常温で乾燥させることができ、かつ、耐候性、防汚性及び難燃性に優れたものとできる。
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化学強化用ガラスおよびディスプレイ装置用ガラス板
【課題】傷がついても破壊しにくい化学強化ガラスに用いるガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル百分率表示で、SiO2を65〜77%、Al2O3を3〜15%、Na2Oを8〜15%、K2Oを0〜2%未満、MgOを3〜15%、ZrO2を0〜1%含有し、SiO2およびAl2O3の含有量の合計SiO2+Al2O3が85%以下であり、CaOを含有する場合その含有量が1%未満であり、かつ、各成分の含有量を用いて下記式により算出されるRが0.66以上である化学強化用ガラス。
R=0.029×SiO2+0.021×Al2O3+0.016×MgO−0.004×CaO+0.016×ZrO2+0.029×Na2O+0×K2O−2.002
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低粘度押出成形および射出成形のためのカルコゲナイドガラス
【課題】押出および射出成形を含む様々なポリマー成形プロセスに使用するのに適したガラスからなる精密光学要素を提供する。
【解決手段】微細または超微細いずれかの微小構造を有するカルコゲナイドガラス体を有してなり、このカルコゲナイドガラスは、一般化学式YZを有し、ここで、YはGe,As,Sbまたはこれら2つ以上の混合物であり、ZはS,Se,Teまたはこれら2つ以上の混合物であり、原子または元素パーセントで表して、Yは15〜70%の範囲にあり、Zは30〜85%の範囲にあり、GeがAsおよびSbの内の一方または両方と混合された場合には、Geの量は、0<Ge<25%の範囲にあり、また、このカルコゲナイドガラスは、500℃以下で10,000ポアズ以下の粘度を有し、1000〜10,000s-1の範囲の剪断速度下で結晶化に耐性である。
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放射線遮蔽ガラス及びその製造方法
【課題】 放射線遮蔽能力を十分に確保した上で、被検体の視認性をも十分なものとするための適切な透明性を確保できる放射線遮蔽ガラスを提供する。
【解決手段】 質量%表示で、ガラス組成として、SiO2 10〜35%、PbO 55〜80%、B2O3 0〜10%、Al2O3 0〜10%、SrO 0〜10%、BaO 0〜10%、Na2O 0〜10%、K2O 0〜10%を含有し、且つ厚さ10mmについての波長400nmにおける全光線透過率が50%以上である放射線遮蔽ガラス。
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コバルト含有ガラス、青色フィルタおよび放射線画像読取装置
【課題】励起光遮断特性を高めることにより、励起光カットフィルタの厚みを従来の色ガラス材よりも薄くできる色ガラス材を提供する。
【解決手段】 陽イオンとして、陽イオン%表示で、
Si4+ 25〜60%
Al3+ 3〜19%
B3+ 18〜38%
K+ 9〜31%
Co2+ 0.1〜1.5%
を含み、陰イオンとして、O2−を主成分として含み、さらに陰イオン%表示で、
F− 1〜12%
Cl− 0.01〜2%
を含むことを特徴とするコバルト含有ガラスである。
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ガラスセラミックス及びその製造方法
【課題】有機物に対する高い吸着性と光触媒活性とを兼ね備え、かつ使用性や耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】アパタイト型結晶と、TiO2結晶、WO3結晶、RnNbO3結晶、RnTaO3結晶(RnはLi、Na及びKから選択される1種以上)、RNb2O6結晶、RTa2O6結晶(RはBe、Mg、Ca、Sr、Ba及びZnから選択される1種以上)、ZnO結晶、ナシコン型結晶、Bi2O3結晶、Bi2WO6結晶、Bi2W2O9結晶、Bi2W3O12結晶、Bi2MoO6結晶、Bi2Mo2O9結晶、Bi2Mo3O12結晶、Bi2Ti2O7結晶、Bi2Ti4O11結晶、Bi4Ti3O12結晶、Bi12TiO20結晶、BiNbO4結晶、Bi2Fe4O9結晶、BiVO4結晶、LiBiO3結晶、及びこれらの固溶体から選択される1種以上の結晶と、を含有するガラスセラミックスとする。
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無アルカリガラス
【課題】生産性(特に耐失透性)に優れると共に、フッ酸系薬液に対するエッチングレートが速く、しかも歪点が高い無アルカリガラスを創案することにより、ガラス板の製造コストを低廉化しつつ、薄型のディスプレイパネルの製造工程において、スループットを向上させ、更にp−Si・TFTの製造工程におけるガラス板の熱収縮を低減する。
【解決手段】本発明の無アルカリガラスは、ガラス組成として、質量%で、SiO2 58〜70%、Al2O3 15.5〜20%、B2O3 0〜1%、MgO 0〜5%、CaO 3.5〜16%、SrO 0.5〜6.5%、BaO 5〜15%を含有し、実質的にアルカリ金属酸化物を含有せず、歪点が725℃より高いことを特徴とする。
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ガラスセラミックス、その製造方法、それを含む光触媒、スラリー状混合物、光触媒部材、浄化装置、フィルタ、焼結体及びガラスセラミックス複合体
【課題】ガラスを原料として、可視光応答性と優れた光触媒活性を有し、使用性や耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】 酸化物換算組成の全物質量に対して、モル%で、Bi2O3成分を5〜95%の範囲内で含有するガラスセラミックスが提供される。このガラスセラミックスは、Bi2O3結晶、Bi2WO6結晶、Bi2W2O9結晶、Bi2W3O12結晶、Bi2MoO6結晶、Bi2Mo2O9結晶、Bi2Mo3O12結晶、Bi2Ti2O7結晶、Bi2Ti4O11結晶、Bi4Ti3O12結晶、Bi12TiO20結晶、BiNbO4結晶、Bi2Fe4O9結晶、BiVO4結晶、LiBiO3結晶、及びこれらの固溶体からなる群より選択される1種以上を含有していてもよい。
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硼珪酸ガラスの製造方法
【課題】泡の残存数が少ない硼珪酸ガラスを製造し得る方法を提供する。
【解決手段】ガラス原料を溶融することによりガラス融液を得、前記ガラス融液を冷却することにより硼珪酸ガラスを製造する方法において、塩化物と硝酸塩とを含み、B2O3の含有量が18質量%以下であるガラス原料を用いる。
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フツリン酸塩光学ガラスの製造方法および光学素子の製造方法
【課題】ガラス原料を熔融し、熔融したガラスを清澄、均質化してから急冷するにおいて、高温に設定された清澄槽から低温に設定された作業槽へと流しても、ガラス中に泡を生じさせないフツリン酸塩光学ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス原料に含まれるFeまたはCuの量をFe2O3に換算したFeの含有量とCuOに換算したCuの含有量の合計を20ppm以上とし、得られるフツリン酸塩光学ガラスの透過率特性が、厚さ10mmに換算したときの内部透過率が少なくとも400〜500nmの波長域で98%以上となるように前記FeおよびCuの含有量を管理する。
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強化ガラス及びその製造方法
【課題】成形時のガラスの耐失透性を維持した上で、イオン交換性能が高く機械的強度が向上した強化ガラスを提供する。
【解決手段】圧縮応力層を有する強化ガラスにおいて、ガラス組成として、質量%で、SiO245〜75%、Al2O35〜25%、Li2O+Na2O+K2O8〜30%、Na2O8〜20%、K2O0〜10%含有し、β−OH値が0.01〜0.5/mmであることを特徴とする。ガラス中のβ−OH値を制御するために、使用する原料の含水量を選択する等の処理を行う。
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光ファイバ及び光ファイバ用ガラス母材の製造方法
【課題】光学クラッド部に含まれる塩素濃度を多くして光ファイバの伝送損失を低く抑えることができる光ファイバ及び光ファイバ用ガラス母材の製造方法を提供する。
【解決手段】光ファイバ1はコア2とクラッド5を含み、コア2はゲルマニウムを含まない石英ガラスからなり、クラッド5は、コア2の外周に位置する光学クラッド部3と、光学クラッド部3の外周に位置するジャケット部4を有し、光学クラッド部3は、フッ素を0.45質量%以上1.50質量%以下含有するとともに、塩素を平均濃度270ppm以上2000ppm以下含有する。
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高熱および化学安定性を有する無アルカリガラス組成物
【課題】
活性マトリクス液晶ディスプレイ(AMLCD)などのフラットパネル・ディスプレイ装置における基板としての用途に望ましい物理的および化学的性質を示す、アルカリを含まないホウアルミノケイ酸ガラス。
【解決手段】
本明細書には、歪み点を有し、それによって良好な寸法安定性を有する無アルカリガラスおよびその製造方法が記載される。歪み点が高いガラスは、熱処理およびそれに続くガラス製造の間の圧縮/収縮に起因するパネルの歪みを妨げることができる。
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Li2O−Al2O3−SiO2系結晶化ガラスの製造方法
【課題】 As2O3、Sb2O3を含まないにも関わらず、電気リボイルによる泡不良を抑制することが可能なLi2O−Al2O3−SiO2系結晶化ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】 白金又は白金合金装置を含む溶融設備を使用するとともに、電気による加熱を用いてLi2O−Al2O3−SiO2系結晶化ガラスを製造するLi2O−Al2O3−SiO2系結晶化ガラスの製造方法において、得られる結晶化ガラス中のCl含有量が50ppm以上となるようにガラス原料にCl化合物を添加することを特徴とする。
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無アルカリガラスの製造方法
【課題】未融解珪砂の発生が少なく均質性に優れ、しかもガラス中に泡が少ない無アルカリガラスを得ることができる製造方法を提供する。
【解決手段】珪素源を含有するガラス原料を溶融し、ガラスを得る無アルカリガラスの製造方法において、無アルカリガラスは、所定の組成を含有し、ガラス原料は、SrCO3およびSrCl2を混合して、粒径D50が40〜180μm、かつ粒径D90が400〜570μmとなるように粉砕した粉砕原料と、他の原料と、を混合したガラス原料を用いる無アルカリガラスの製造方法を採用する。
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表面損傷に対して優れた耐性を有するガラスおよびその製造方法
【課題】表面に点スクラッチおよび穴のような損傷が発生することに対して優れた耐性を有するガラスを提供する。
【解決手段】組成中に0.3%以上のアルカリ土類酸化物と0.1〜4%の燐酸を有するアルミノシリケートグラスであって、フロート法により成形され、該成形時にフロートバス上に1000℃以上の温度で少なくとも10分間維持することにより、その表面に特有の配置でアルカリ土類リン酸塩の析出物を持つガラスとする。
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無アルカリガラス基板の製造方法
【課題】清澄剤としてAs2O3を使用しなくても、表示欠陥となる泡が存在しない無アルカリガラス基板を製造することができる製造方法を提供する。
【解決手段】質量百分率でSiO2 50〜70%、Al2O3 10〜25%、B2O3 5〜20%、MgO 0〜10%、CaO 0〜15%、BaO 0〜10%、SrO 0〜10%、ZnO 0〜5%を含有し、かつSnO2及び/又はSb2O3を含むガラスとなるようにガラス原料調合物を用意し、該ガラス原料調合物を溶融し、成形して無アルカリガラス基板を製造する無アルカリ基板の製造方法であって、β−OH値が0.485/mm〜0.65/mmとなるようにガラス中の水分量を調節する。
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