【課題】ガラスに含有される希土類成分を還元するに際し、希ガスと水素の混合気体雰囲気、窒素と水素の混合気体雰囲気等の還元ガス雰囲気中での還元処理を必要とせず、従って、処理作業中に爆発する危険性が無く、内部まで還元処理できるガラスの製造方法または結晶化ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラスを熱処理する過程、またはガラスを熱処理して結晶化する過程において、該ガラスに０．１ｍＡ〜１０ｍＡの電流を通電する。該ガラスは希土類成分、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅの成分を少なくとも１種以上含有したガラスであり、該ガラスに電場を印加して通電しながら熱処理する、または熱処理して結晶化することで、希土類成分、Ｃｒ、Ｍｎ及びＦｅの成分が還元されたガラスまたは結晶化ガラスが製造される。 （もっと読む）

【課題】高い屈折率を有することが期待されるチタン系酸化物ガラスを、従来にはなかったバルク状の状態で提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のチタン系酸化物ガラスは、バルク状であって、実質的に、式(M1)_1-x(M2)_x(Ti_1-y1(M3)_y1)_y2O_zで表される組成を有する。M1はBa、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、NaおよびCaから選ばれる１種の元素であり、M2はMg、Ba、Ca、Sr、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Na、Sc、Y、Hf、BiおよびAgから選ばれる少なくとも１種の元素であり、M3はV、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Zr、Nb、Mo、Ru、Rh、Pd、Al、Si、P、Ga、Ge、In、Sn、SbおよびTeから選ばれる少なくとも１種の元素である。x、y1、y2およびZは、0≦x≦0.5、0≦y1＜0.31、1.4＜y2＜3.2、3.9＜z＜8.0、M1がBaの場合はx+y1≠0、かつ、M1およびM2がBaの場合はy1≠0、の関係を満たす。 （もっと読む）

本発明は、半導体製造用石英ガラスの公知の組成物を出発点とし、該組成物は少なくとも近表層領域において第１ドーパントと第２酸化ドーパントとの共ドーピングを示し、前記第２ドーパントは一種類以上の希土類金属をそれぞれ（ＳｉＯ²及びドーパントの全質量に基づいて）０．１〜３％の濃度で含有する。エッチング処理を使用する環境において半導体製造用石英ガラス組成物を供給することを出発点として、該組成物は高純度及び高いドライエッチング耐性により区別され、酸化アルミニウムとの共ドーピングにより引き起こされる公知の欠点を回避し、第１ドーパントが窒素であり、石英ガラス中の準安定ヒドロキシル基の平均含有量が３０質量ｐｐｍ未満とすることを本発明により提案するものである。 （もっと読む）

【課題】
半導体製造に用いられかつプラズマ耐食性に優れた石英ガラス、石英ガラス治具、該石英ガラスの製造方法、該石英ガラスの製造に好適に用いられる混合石英粉、並びに該混合石英粉の製造方法を提供する。
【解決手段】
２種以上のドープ元素を併せて０．１〜２０質量％含有する石英ガラスであって、前記ドープ元素が、Ｎ、Ｃ及びＦからなる群から選択される１種以上の第１の元素と、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｃ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、ランタノイド及びアクチノイドからなる群から選択される１種以上の第２の元素とを含むようにした。 （もっと読む）

本発明は、板ガラスに融着可能であり、標準粒径がΦ１．０ｍｍ〜Φ０．２ｍｍであり、加熱炉の内部温度６５０〜７１０℃で溶融可能であり、重金属が含まれていない構成成分と組成割合を持つ無鉛クリスタルアイスを具現して、加熱炉の内部温度６５０〜７１０℃温度範囲でクリスタルアイスの溶融最頂点が形成され、板ガラス上にクリスタルアイスが融着された後、クリスタルアイスの表面が大気中で変色または変形しないようにし、その無鉛クリスタルアイスを用いて装飾用板ガラスも製造可能にする。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板表面に銀電極を形成した場合に生じる黄変が抑制されたフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の提供。
【解決手段】ガラス基板表面に銀電極が形成された後のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板であって、前記銀電極が形成された側の前記ガラス基板表面から深さ１０μｍまでの表層における平均Ｋ含有量（Ｋ₂Ｏ換算での質量百分率表示）が、前記ガラス基板表面から深さ１００μｍ〜１１０μｍまでの内部層における平均Ｋ含有量（Ｋ₂Ｏ換算での質量百分率表示）よりも高いことを特徴とするフラットパネルディスプレイ用ガラス基板。 （もっと読む）

【課題】ガラスの表面または内部に対し微細なパターンを高精度で効率良く、低コストで形成する。
【解決手段】特定のガラス形成酸化物と、アルカリ金属、アルカリ土類金属、遷移元素及び希土類元素から選ばれる少なくとも１種とを含有するガラス母体に、チタン、鉄、ニッケル、コバルト、マンガン、バナジウム、銅から選ばれる少なくとも１種を添加してなるガラスの表面または内部に、局所的な異質層を形成した後、エッチング剤と接触させて前記異質層または該異質層の周囲部分を除去することを特徴とするガラス材料の加工法。 （もっと読む）

【課題】 平面表示装置用スペーサーの作製に好適な素材ガラスを提供することであり、より具体的には（１）表面に製膜しても、膜の導電性が長時間変化しない、（２）周辺材料と適合する熱膨張係数を有する、（３）高い寸法精度を有し、平面表示装置の製造工程における熱処理工程で破損や変形が起こらない、（４）機械的強度が高い、等の要求を満たす平面表示装置用スペーサーを作製することが可能な素材ガラスを提供することである。
【解決手段】 質量％でＳｉＯ₂ ２５〜８０％、ＲＯ（ＲはＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ及び／又はＢａ） ２０〜６０％、Ｒ’₂Ｏ（Ｒ’はＬｉ、Ｎａ及び／又はＫ） ０〜８％、Ｆｅ₂Ｏ₃ ０〜２０％含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】作成したガラス製品の特性のバッチ間変動がほとんどないことを特徴とするガラス組成物を提供する。
【解決手段】本ガラス組成物は４０〜９９重量％のＳｉＯ_２を含み、軟化温度は６００℃〜１６５０℃であり、かつロットから製造されたガラス品の無作為に選択した１０以上のサンプルから得られた軟化温度測定の標準偏差は、１０℃以下である。そして、ロット内で無作為に選択した１０以上のガラス品のサンプルについて測定した軟化温度の標準偏差σが５℃以下である。 （もっと読む）

【課題】１５以上の高い比誘電率と、０．３％以下の低い誘電損失とを有し、また、ガラス移転点（Ｔｇ）も低くて、高周波回路素子、ディスプレイ等の電子回路用基板や誘電材料の形成に好適に適用できるガラスを提供すること。
【解決手段】酸化物基準の質量％で、Ｂｉ_２Ｏ_３を２０〜９０％含有するガラスであって、１ＭＨｚでの比誘電率が１５以上で、誘電損失が０．３％以下である。また、好ましくは、ガラス転移点（Ｔｇ）が５００℃以下である。 （もっと読む）

【課題】
従来のリン酸塩系ガラスはガス透過率が高く、電子部品の封着に適したものがなかった。
【解決手段】
Ｐ_２Ｏ_５とＣｅＯ_２を主成分とするリン酸塩系ガラスであって、Ｐ_２Ｏ_５を３０〜７５（ｍｏｌ％）、ＣｅＯ_２を８〜６０（ｍｏｌ％）の範囲で含むリン酸塩系ガラスは、Ｈｅガス透過率が１×１０^−１０（Ｐａ・ｍ^３／Ｓ）より小さく、かつ耐水性に優れ、かつ熱膨張係数が４０〜１８０（×１０^−７／℃）の範囲であり、電子部品の封着に好適に用いることができる。 （もっと読む）

【課題】放射線変換媒体として特に有利な特性を有する、特にスペクトルの青およびＵＶ領域における励起放射線の周波数逓降変換に適しているガラスセラミックおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、偶発的な不純物を除いてアルカリを含まず、かつ少なくとも１種のガーネット形成剤と少なくとも１種のランタノイドの酸化物とを含む出発ガラスを溶融する工程と、前記出発ガラスを粉砕してガラスフリットを形成する工程と、前記ガラスフリットをプレスにより成形し、ランタノイドを含む少なくとも１種のガーネット相が形成されるまで焼結する工程とを含む、ガラスセラミックの製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】ガラスセラミック、特に低周波数変換のための光変換材料に特に適したガラスセラミックの製造方法を目的とする。
【解決手段】酸化物を基準として、５重量％〜５０重量％のＳｉＯ_２と、５重量％〜５０重量％のＡｌ_２Ｏ_３と、１０重量％〜８０重量％の、Ｙ_２Ｏ_３、Ｌｕ_２Ｏ_３、Ｓｃ_２Ｏ_３、Ｇｄ_２Ｏ_３、およびＹｂ_２Ｏ_３からなるグループから選択される少なくとも１種の酸化物と、同様に０．１重量％〜３０重量％の、ランタノイドの酸化物およびＢ_２Ｏ_３からなるグループから選択される少なくとも１種の酸化物とからなる出発ガラスを製造する。その後、上記材料を、少なくとも１００Ｋ／分の加熱速度で、好ましくは赤外線加熱を用いて、１０００℃〜１４００℃の範囲の温度に、ガーネット相を含む微結晶が形成されるまで、セラミック化のために加熱する。その後、室温まで冷却する。 （もっと読む）

【課題】酸化性着色ガラスにおいて、カラーフィーダで着色可能で、所望の黄色系の色を安定して得られるようにする。
【解決手段】エルビウムとプラセオジムをそれぞれＥｒ_２Ｏ_３換算及びＰｒ_６Ｏ_１１換算で合計０．２５〜３２重量％含有し、かつ前記Ｅｒ_２Ｏ_３／Ｐｒ_６Ｏ_１１の重量比が０．１５〜１．７である、レドックスナンバー値がプラスで主波長λｄが５７０〜５９０ｎｍである酸化性着色ガラスとする。フリットにより着色する場合、フリットの比重は３〜３．４とし、エルビウムとプラセオジムをそれぞれＥｒ_２Ｏ_３換算及びＰｒ_６Ｏ_１１換算で合計２６〜３２重量％含有させる。 （もっと読む）

高硬度及び高インライン透過率を兼ね備えるガラスセラミック、及びその作製方法。 （もっと読む）

【課題】従来の技術の欠点を回避し、かつ照明手段、特にガス放電ランプの放出による機器の問題及び障害が生じないスクリーン若しくはディスプレイの背景照明のためのバックライトシステムの提供。
【解決手段】本発明によりカバーガラスを有する少なくとも１つの照明手段を含むディスプレイ又はスクリーンの背景照明のためのバックライトシステムにおいて、カバーガラスのガラス組成物がＩＲ放射線を吸収する１個又は複数個のドーピング酸化物でドープされており、及び／又は前記カバーガラスがＩＲ放射線吸収内部及び／又は外部コーティングを有し、及び／又は前記バックライトシステムがカバーガラス以外の素子にＩＲ放射線吸収コーティングを有するバックライトシステム。 （もっと読む）

ガラス体予備成形品を、前記ガラス体予備成形品の体積の７０〜１３０％の範囲の空隙容量を有する空洞を有する金型内に置くことにより、Ｔ_ｇ及びＴ_ｘを有するガラス体を再形成する方法。再形成されたガラス体を形成するために、その後ガラス体予備成形品に圧力を印加している間に、前記ガラス体予備成形品は（Ｔ_ｇ）と（Ｔ_ｘ＋摂氏５０度）との間の温度に加熱される。
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【課題】近赤外線範囲において急な吸収エッジをもって低い透過率を有するアルミノリン酸塩ガラスを提供する。
【解決手段】ｗｔ％において、Ｐ_２Ｏ_５ ６５−８０、Ａｌ_２Ｏ_３ ４−２０、ＳｉＯ_２ ０−５、Ｂ_２Ｏ_３ ０−＜５．５、Ｙ_２Ｏ_３ ０−２．１、Ｌａ_２Ｏ_３ ０−２．１、ＭｇＯ ０−７．９、ＣａＯ ０−２．５、ＳｒＯ ０−２．５、ＢａＯ ０−２．５、ＺｎＯ ０−８、ＳＲ’Ｏ ＜１８、Ｌｉ_２Ｏ ＞２−１２．５、Ｎａ_２Ｏ ０−６、Ｋ_２Ｏ ０−４、Ｒｂ_２Ｏ ０−２．５、Ｃｓ_２Ｏ ０−２．５、ＳＲ”_２Ｏ ＞２−１５、ＳＲ”’_２Ｏ_３ ４−２４、ＣｕＯ ５−１５、Ｖ_２Ｏ_５ ０−０．５、ＳＣｕＯ＋Ｖ_２Ｏ_５ ５−１５を含み、ここでＳＲ’ＯはＺｎＯとアルカリ土類金属酸化物の合計であり、ＳＲ”_２Ｏはアルカリ金属酸化物の合計であり、そしてＳＲ”’_２Ｏ_３はＲ”’がＡｌ，Ｂ，ＹまたはＬａであるＲ”’_２Ｏ_３化合物の合計である、Ｃｕ含有アルミノリン酸塩ガラス。 （もっと読む）

【課題】低温プロセスで、耐水性に優れた鉛フリー低融点ガラスを提供する。
【解決手段】１）強リン酸ならびに２）無機材料（但し、前記１）を除く。）の少なくとも１種を含む混合物を熱処理することにより鉛フリー低融点ガラスを製造する方法であって、（１）無機材料の少なくとも１種の含有量が混合物中１０モル％以上であり、
（２）熱処理温度が２００〜４５０℃である、ことを特徴とする鉛フリー低融点ガラスの製造方法に係る。 （もっと読む）

【課題】有害な鉛を含まず、誘電率が低く、軟化点が低く、ガラス転移点が高く、基板との熱膨張係数のマッチングが良く、耐水性の高い、信頼性の高いディスプレイパネルを作製可能とするガラス組成物を提供する。
【解決手段】酸化物ガラスであって、含まれる元素の内、酸素（Ｏ）を除く元素の比率が原子％表示で、硼素（Ｂ）が７２％を越え８８％以下、リチウム（Ｌｉ）、ナトリウム（Ｎａ）、カリウム（Ｋ）の合計量が６％以上１６％以下、マグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃａ）、ストロンチウム（Ｓｒ）、バリウム（Ｂａ）の合計が１％以上８％以下、珪素（Ｓｉ）が０％以上１２％以下、亜鉛（Ｚｎ）が２％を越え１８％以下である、ガラス組成物とする。 （もっと読む）