【課題】通例の高清澄温度と適度の清澄剤濃度で、付加的な清澄装置を用いずに、バブルの少ないガラスセラミックグリーンガラスのガラス溶融体の製法を提供する。
【解決手段】清澄剤として酸化砒素及び酸化アンチモンを含まず、清澄剤として酸化錫を唯一の添加物として≦０．４重量％の濃度で含むリチウム・アルミニウム珪酸塩（ＬＡＳ）ガラス系に基づくガラスバッチを作製する工程と、 式： ｔ_{（ｍｉｎ）}（Ｔ，ｘ）＝２＋[０．５・（１７００−Ｔ_{（ａｖｇ）}）]＋[５０・（０．４０−ｘ）] ｈ但し、Ｔ_{（ａｖｇ）}≦１７００℃及びｘ≦０．４０％ここで、Ｔ_{（ａｖｇ）}： 平均ガラス温度 ｘ： 清澄剤濃度 ｔ_{（ｍｉｎ）}： 最小滞在時間による清澄すべきガラスの最小滞在時間（ｈ）及び平均ガラス温度を満たす溶融バットを設計する工程と、バッチを溶融し、溶融体を温度＜１７００℃で、付加的な、特殊設計高温清澄ユニットを用いずに清澄する工程とを含んで成る方法。 （もっと読む）

高歪点及び低液相線温度を示す、希土類アルミノケイ酸（ＲＥ_２Ｏ_３-Ａｌ_２Ｏ_３-ＳｉＯ_２）三元系からなるガラス族で、好ましくはＬａ_２Ｏ_３-Ａｌ_２Ｏ_３-ＳｉＯ_２三元系。このガラスはエレクトロニクス用途、特にフラットパネルディスプレイデバイスに良く適合することができ、酸化物基準のガラスバッチから計算し、モル％で表して、６０〜８８％ＳｉＯ_２，５〜２５％Ａｌ_２Ｏ_３及び２〜１５％ＲＥ_２Ｏ_３の組成を有する。
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【課題】
安価でプラズマ耐食性、特にＦ系プラズマガスに対する耐食性に優れた半導体製造用治具として用いられる石英ガラス部材を提供する。
【解決手段】
半導体製造用治具として用いられる石英ガラス部材であって、ノンドープ石英ガラス部材と、当該石英ガラス部材の所定部位にドープ石英ガラス材料を用いて形成されたドープ石英ガラス部分と、から構成されるようにした。前記ドープ石英ガラス部分が、ドライエッチング工程のプラズマガスに被曝する部分に構成されることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイ装置の前面基板等の電極被覆ガラス層を鉛、ビスマスを含有しないものとする。
【解決手段】モル％表示で、Ｐ_２Ｏ_５ ３０〜６０％、ＺｎＯ ３５〜５０％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ １〜１０％、ＢａＯ ０〜５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜１０％、ＳｉＯ_２ ０〜１０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１０％、から本質的になり、ＰｂＯおよびＢｉ_２Ｏ_３のいずれも含有しない電極被覆用ガラス。前面基板または背面基板に形成された電極が前記電極被覆用ガラスによって被覆されているプラズマディスプレイ装置。 （もっと読む）

【課題】Ｎｄ：ＹＡＧレーザ及びＭＬＢＡ法で従来方法よりも急速に加熱可能、従って切断可能な、表示目的用の薄板ガラスを提供する。
【解決手段】表示目的のための薄板ガラスであって、
板ガラスのガラス組成が、波長１．０６４μｍの放射を有効に吸収してレーザ切断ビームによるその切断性を向上させる添加ガラス成分を含んで成ることを特徴とする薄板ガラス。 （もっと読む）

【課題】テルライトガラス組成物、それを利用した光導波路及び光増幅器を提供する。
【解決手段】ＴｅＯ_２、ＭｏＯ_３またはＷＯ_３、ＺｎＯ、Ｍ_２Ｏ及びＢｉ_２Ｏ_３を主成分からなるテルライトガラス組成物である。Ｍ_２Ｏは、Ｌｉ_２ＯまたはＮａ_２Ｏであるか、またはＭ_２Ｏは、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏ、Ｒｂ_２Ｏ及びＣｓ_２Ｏのように＋１の価電子を有する金属を含む金属酸化物のうち２つ以上の金属酸化物で構成され、Ｍ_２Ｏ及びＺｎＯの添加量は、同時に「０」とならないように構成される。 （もっと読む）

約１．６以上の高い屈折指数（ｎＤ）、スペクトルの近赤外線部分での高透過率、および広範なガラス形成域を有する、レーザー用のドープまたは共ドープされたフルオロリン酸ビスマスガラスの、新しい、改良された組成物が開示される。開示されているガラスシステムＡｌ（ＰＯ３）３‐Ｂａ（ＰＯ３）２‐Ｂｉ（ＰＯ３）３‐ＢａＦ２＋ＲＦｘ＋ドーパントは、ガラスベース組成物の１００パーセント（重量％）を超えて、ＭｎＯおよびその混合物に加え、希土類元素Ｎｄ、Ｅｒ、Ｙｂ、Ｔｍ、Ｔｂ、Ｈｏ、Ｓｍ、ＥｕおよびＰｒの酸化物およびまたはフッ化物の群からのドーパントを使用する。これらのガラスは、高い化学的耐久性、放射線抵抗、赤外線および青色スペクトルにおけるレーザー使用の効率、ならびに、改良された発光持続時間を有する。 （もっと読む）

【課題】 画像表示装置の表示パネルにおけるスペーサを固定するためのＰｂフリーの導電性接合材のための導電性ガラス組成物を提供する。
【解決手段】 ＭＶｘＯｙ（M：Ａｇ，Ｃｕ，Ｃｒ，Ｌｉ，Ｓｒ，Ｃａ）、（x：１〜１０，y：２〜３０）を含有する。ＭＶｘＯｙとして、例えば、ＡｇＶ₇Ｏ₁₈またはＡｇ₂Ｖ₄Ｏ₁₁を用いる。 （もっと読む）

【課題】パネル軽量化のために密度を低くし、かつ、耐熱衝撃性を上げるために熱膨張係数を低くしても、化学的耐久性が高い高歪点のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板を提供する。
【解決手段】歪点が５８５℃以上、密度が２．６５ｇ／ｃｍ³以下、熱膨張係数が６０×１０^-7／℃以上７５×１０^-7／℃未満であり、ＪＩＳ−Ｒ３５０２に準拠した方法で測定されるアルカリ溶出量が０．３ｍｇ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】材料分散の影響を避けることができ、且つ非線形性を利用した光信号処理などに大きな効果をもたらし、通信波長帯での広帯域な零分散を実現できる、高非線形を有するテルライトガラスからなる光ファイバを提供する。
【解決手段】２μｍ以上の零材料分散波長を持つテルライトガラスからなる光ファイバ１００であって、コア領域１０１と、コア領域１０１を包囲するように配設されて当該コア領域１０１の軸方向に沿った空孔１０２ａを当該コア領域１０１の周方向にわたって複数有する第１のクラッド部１０２と、第１のクラッド部１０２を包囲するように配設されて当該第１のクラッド部１０２の等価屈折率と等しい屈折率を有する第２のクラッド部１０３とを備える。コア領域１０１と前記第１のクラッド部１０２との比屈折率差を2％以上とすることで、零分散波長を通信波長帯である１．５５μｍ帯に制御する。 （もっと読む）

【課題】導電性マイエナイト型化合物を、安定してかつ低コストで製造することが可能な、工業化に適した製造方法を提供する。
【解決手段】前駆体を熱処理して導電性マイエナイト型化合物を製造する製造方法において、ＣａまたはＳｒと、Ａｌとを含有し、酸化物換算した、ＣａＯとＳｒＯの合計と、Ａｌ_２Ｏ_３とのモル比が１２．６：６．４〜１１．７：７．３で、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＡｌ_２Ｏ_３の合計が５０モル％以上である前駆体に対して、含有するＣａ、Ｓｒ、およびＡｌの合計原子数に対する原子数比で０．２〜１１．５％の炭素を含有させた炭素含有前駆体を、酸素分圧１０Ｐａ以下の雰囲気下で９００〜１４７０℃まで加熱して保持し次いで所定の冷却速度で冷却する熱処理を施すことにより、前記炭素含有前駆体を結晶化させて導電性マイエナイト型化合物を生成させる。 （もっと読む）

【課題】線熱膨張係数が高く且つアルカリ成分の溶出が少なく、さらに低コストであるガラス基板を提供する。
【解決手段】重量％で、ＳｉＯ₂：６０．１〜７０％、Ａｌ₂Ｏ₃：１〜１０％、Ｂ₂Ｏ₃：０．５〜８％、Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ：７〜２０％、ＭｇＯ：０．１〜１０％、ＣａＯ：０．１〜１０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ：１〜１５％、ＴｉＯ₂：０．５〜１０％、ＺｒＯ₂：０．５〜１０％、ＺｎＯ：０〜５％、Ｌａ₂Ｏ₃：０〜８％の各ガラス成分を有する構成とした。 （もっと読む）

【課題】線熱膨張係数が高く且つアルカリ成分の溶出が少なく、さらに低コストであるガラス基板を提供する。
【解決手段】重量％で、ＳｉＯ₂：４５〜７０％、Ａｌ₂Ｏ₃：１〜５．０％、Ｂ₂Ｏ₃：１．０〜８％、Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ：７〜２０％、ＭｇＯ：０．１〜１０％、ＣａＯ：０．１〜１０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ：１〜１５％、ＴｉＯ₂：０．５〜１０％、ＺｒＯ₂：０．５〜１０％、ＺｎＯ：０〜５％、Ｌａ₂Ｏ₃：０〜８％の各ガラス成分を有する構成とした。 （もっと読む）

【課題】 耐失透性に優れる高屈折率高分散特性を有する光学ガラス、この光学ガラスからなるプレス成形用ガラス素材および光学素子を提供する。
【解決手段】 重量％表示で、ＳｉＯ_２ １８％以上３０％未満、ＢａＯ １２％以上２３％未満、ＴｉＯ_２ ２２〜３７％、Ｎｂ_２Ｏ_５ ７％以上１６％未満、Ｎａ_２Ｏ ５〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜６％、ＣａＯ ０〜５％、ＳｒＯ ０〜５％、ＺｒＯ_２ ０〜４％、Ｔａ_２Ｏ_５ ０〜３％、Ｓｂ_２Ｏ_５ ０〜１％およびＰ_２Ｏ_５ ０％以上０．５％未満を含み、かつＰｂＯ、Ａｓ_２Ｏ_３およびＦを実質上含まない光学ガラス、あるいは、必須成分として、ＳｉＯ_２、ＢａＯおよびＴｉＯ_２を含み、屈折率（ｎd）が１．８０以上で、アッベ数（νd）が３０以下であると共に、ガラス転移温度より２０℃高い温度で５時間、さらに９００℃で５分間保持した後に析出する結晶粒子の数密度が１２個／ｍｍ^３以下である耐失透性を有する光学ガラス、並びにこれらの光学ガラスからなるプレス成形用ガラス素材および光学素子である。 （もっと読む）

本発明は、基板の表面上に希土類ドーパントがドーピングされたガラスを含む光導波路を提供する。このガラスは、（ａ）Ａｌ₂Ｏ₃と、ＲＥＯもしくはＹ₂Ｏ₃の少なくとも一方と、ＺｒＯ₂もしくはＨｆＯ₂の少なくとも一方とを含み、該ガラスの全重量を基準にして、該ガラスの少なくとも８０重量パーセントが、全体として、Ａｌ₂Ｏ₃と、ＲＥＯもしくはＹ₂Ｏ₃の少なくとも一方と、ＺｒＯ₂もしくはＨｆＯ₂の少なくとも一方とを含むか；（ｂ）Ａｌ₂Ｏ₃と、ＲＥＯもしくはＹ₂Ｏ₃の少なくとも一方と、ＺｒＯ₂もしくはＨｆＯ₂の少なくとも一方とを含み、該ガラスの全重量を基準にして、該ガラスの少なくとも７０重量パーセントが、全体として、Ａｌ₂Ｏ₃と、ＲＥＯもしくはＹ₂Ｏ₃の少なくとも一方と、ＺｒＯ₂もしくはＨｆＯ₂の少なくとも一方とを含み、かつ該ガラスが、２０重量パーセント以下のＳｉＯ₂と２０重量パーセント以下のＢ₂Ｏ₃とを含有するか；または（ｃ）該ガラスの全重量を基準にして、少なくとも４０重量パーセントのＡｌ₂Ｏ₃と、Ａｌ₂Ｏ₃以外の第１の金属酸化物とを含み、Ａｌ₂Ｏ₃と第１の金属酸化物とが、全体として、該ガラスの少なくとも８０重量パーセントを含むことを特徴とする。
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【課題】 薄型化、軽量化を実現する高強度ガラス材を用いた平面型画像表示装置を提供する。
【解決手段】 二枚の基板ＳＵＢ１とＳＵＢ２、該二枚の基板の間に設けられた発光部ＰＭＧを有し、少なくとも一枚の基板がＳｉＯ₂を主成分とし、Ｌａ、Ｓｃ、Ｙ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕより選ばれた少なくとも一種を１〜２０重量％含有するガラス材で構成した。 （もっと読む）

【課題】押出および射出成形を含む様々なポリマー成形プロセスに使用するのに適したガラスを提供する。
【解決手段】一般化学式ＹＺを有するカルコゲナイドガラスであって、ここで、ＹはＧｅ，Ａｓ，Ｓｂまたはこれら２つ以上の混合物であり、ＺはＳ，Ｓｅ，Ｔｅまたはこれら２つ以上の混合物であり、原子または元素パーセントで表して、Ｙは１５〜７０％の範囲にあり、Ｚは３０〜８５％の範囲にあり、ＧｅがＡｓおよびＳｂの内の一方または両方と混合された場合には、Ｇｅの量は、０＜Ｇｅ＜２５％の範囲にあるカルコゲナイドガラス。 （もっと読む）

零材料分散波長が２μｍ以上であり、非線形感受率χ^３が１ｘ１０^−１２ｅｓｕ以上と高く、低損失ファイバに加工するのに十分な熱安定性を有するテルライトガラスを用いた光ファイバにおいて、コア領域への閉じ込めの強いＰＣＦ構造またはＨＦ構造を採用した。これにより光が低損失で導波しうる。コア領域に設けた空孔の大きさおよび形状、ならびに隣接した空孔同士の間隔により、零分散波長を通信波長帯（１．２〜１．７μｍ）内に制御すると共に、非線形定数γが５００Ｗ^−１ｋｍ^−１以上の大きな非線形性を持つ。
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【課題】従来の技術の欠点を回避し、所望の要求を高い程度に満たす背面照明付きディスプレーを提供すること。
【解決手段】携帯電話、自動車、テレビ、コンピュータ、家庭およびカメラ用の背面照明付きディスプレー、特にフラット・ディスプレー（１）であって、ガラス中空体を有しかつ外部電極を持つ少なくとも１つの発光手段（３）を具備するディスプレーにおいて、発光手段（３）のガラス中空体のためのガラス組成は、損失角（ｔａｎδ）および誘電率（ε’）から算出される商に、ｔａｎδ／ε’＜５×１０^−４が適用されるように、選択されることを特徴とするディスプレー。 （もっと読む）

【課題】 赤外線照射加熱効率の高い情報記録媒体用基板、この基板上に情報記録層を含む多層膜を設けてなる情報記録媒体、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 ガラスまたは結晶化ガラスからなり、（１）２７５０〜３７００ｎｍの波長域に分光透過率が５０％以下となる領域が存在する、（２）波長２７５０〜３７００ｎｍにわたり、分光透過率が７０％以下となる、（３）特定の金属酸化物からなる赤外線吸収剤を含み、垂直磁気記録媒体用に供される、（４）赤外線照射加熱用に供され、２００ｐｐｍ超の水分を含む、あるいは（５）特定の金属酸化物からなる赤外線吸収剤を含み、赤外線照射加熱後にスパッタリングによって形成される情報記録層を含む多層膜の支持用に供されることを特徴とする情報記録媒体用基板、および前記基板上に情報記録層を含む多層膜を設けてなる情報記録媒体、並びに情報記録媒体の製造方法である。 （もっと読む）