【課題】
耐水性，耐湿性の良好な平面表示装置の前面基板及び背面基板接着用のガラスを提供する。
【解決手段】
低融点ガラス組成物であって、その組成が重量％でＢａＯ＋Ｓｂ₂Ｏ₃を合計で１５〜３５ｗｔ％含有する、遷移金属を含むリン酸ガラスであり、ＢａＯ／Ｓｂ₂Ｏ₃重量比あるいはＳｂ₂Ｏ₃／ＢａＯ重量比のいずれかが０.３以下であることを特徴とする封着用のガラスを用いる。特に遷移金属がバナジウムであってＶ₂Ｏ₅の酸化物換算で４５〜６０ｗｔ％、リンをＰ₂Ｏ₅の酸化物換算で１５〜３０ｗｔ％とすることがよい。 （もっと読む）

【課題】主としてソーダライムガラス基板を用いたプラズマディスプレイパネル、プラズマアドレス液晶表示パネル等の隔壁層の形成やその他の電気・電子回路の絶縁性被膜形成に関し、高精細パターン形成か可能な感光性ペースト用ガラスセラミックス材料が求められている。
【解決手段】重量％で軟化点が４８０〜５４０℃のガラス微粒子（Ａ）が３５〜８０、軟化点が５７０〜６４０℃のガラス微粒子（Ｂ）が１〜３０、シリカ微粒子が２０〜６５であるプラズマディスプレイ用隔壁材料であって、ガラス微粒子（Ａ）が重量％でＳｉＯ_２を０〜９、Ｂ_２Ｏ_３を５０〜５５、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜１１、ＺｎＯを０〜１２、Ｒ_２Ｏ（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎa_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）を２１〜２５、Ｐ_２Ｏ_５を０〜１０、ＺｒＯ_２を０〜３、さらにＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢaＯのうちから選択される、少なくとも１種を５〜１７含み、屈折率が１．５３〜１．５６であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】アルカリ金属酸化物含有量を低減できるＢ_２Ｏ_３−ＺｎＯ系隔壁形成無鉛ガラスの提供。
【解決手段】モル％で、Ｂ_２Ｏ_３ ２８〜４４％、ＺｎＯ ２６〜４３％、ＳｉＯ_２ ０〜７％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０．１〜７％、ＭｇＯ＋ＣａＯ ０〜９％、ＳｒＯ＋ＢａＯ １０〜２０％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ０．１〜６％、Ｂｉ_２Ｏ_３ ０．１〜５％、から本質的になる隔壁形成用無鉛ガラス。Ｂ_２Ｏ_３が３８〜４４％、ＺｎＯが２８〜３８％、ＳｉＯ_２が１〜７％、Ａｌ_２Ｏ_３が１〜５％、ＭｇＯ＋ＣａＯが０〜１％、ＳｒＯが０〜１％、ＢａＯが１０〜１５％、Ｌｉ_２Ｏが２〜６％、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏが０〜１％、Ｂｉ_２Ｏ_３が１〜４％である前記隔壁形成用無鉛ガラス。 （もっと読む）

【課題】主としてソーダライムガラス基板を用いたプラズマディスプレイパネル、プラズマアドレス液晶表示パネル等の隔壁層の形成やその他の電気・電子回路の絶縁性被膜形成に関し、高精細パターン形成か可能な感光性ペースト用ガラスセラミックス材料が求められている。
【解決手段】重量％で軟化点が５７０〜６４０℃のガラス微粒子（Ａ）が４０〜７０、軟化点が４８０〜５４０℃のガラス微粒子（Ｂ）が３０〜６０であるプラズマディスプレイ用ガラスセラミックス材料であって、ガラス微粒子（Ａ）が重量％でＳｉＯ_２を２〜１２、Ｂ_２Ｏ_３を５０〜５８、Ａｌ_２Ｏ_３を１０〜２０、ＺｎＯを０〜６、Ｌｉ_２Ｏを０〜２．８、さらにＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢaＯのうちから選択される、少なくとも１種を１０〜２２含み、屈折率が１．５３〜１．５６であることを特徴とするプラズマディスプレイ用ガラスセラミックス材料。 （もっと読む）

【課題】効率よくプラズマディスプレイパネルを製造することができる低融点ガラス分散ペースト、及び、該低融点ガラス分散ペーストを用いてなるプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。
【解決手段】水酸基価が４０ｍｏｌ％以上のポリビニルアセタール樹脂と、ガラス粉末と、誘電率が２５以上、比重が０．９５以上１．３５未満、かつ、沸点が１５０℃以上３００℃未満の溶剤とを含有する低融点ガラス分散ペースト。 （もっと読む）

【課題】長期間保管しても、ペースト粘度が不当に上昇することなく、平滑で均一な膜厚を形成できるガラスペーストを得ることにより、表面精度が良好な誘電体層等を形成すること。
【解決手段】本発明のガラスペーストは、ガラス粉末とビークルを含有するガラスペーストであって、ガラスペースト中の塩化物の含有量が６０ｐｐｍ以下、好ましくは４０ｐｐｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】背面誘電体乾燥膜上にサンドブラスト法で未焼成隔壁が形成でき、背面誘電体層と隔壁を同時に焼成して形成できる誘電体用ペーストの提供。
【解決手段】ガラス基板１の電極２を被覆するように誘電体用ガラスペーストを塗布、乾燥して第１の乾燥膜３とし、その上に隔壁用ガラスペーストを塗布、乾燥して第２の乾燥膜４Ａとし、それを隔壁形状に加工後焼成する隔壁付きガラス基板の製造で用いる誘電体用ガラスペーストであって、軟化点が６５０℃以下であるガラス粉末、酢酸セルロースおよび溶剤を含有し、ガラス粉末の質量を１００部としたときに、酢酸セルロースの質量が７〜１５部である誘電体用ガラスペースト。 （もっと読む）

【課題】本発明は、５００℃で一次焼成しても失透せず、しかも４５０〜５００℃の二次焼成で良好に流動するビスマス系封着材料を提供し、ＰＤＰ等の平面表示装置の製造効率向上に貢献することを技術的課題とする。
【解決手段】本発明のビスマス系ガラス組成物は、ガラス組成として、下記酸化物換算のモル％で、Ｂｉ₂Ｏ₃ ３０〜５０％、Ｂ₂Ｏ₃ １５〜３５％、ＺｎＯ １０〜４０％、ＭｇＯ ０．１〜７％、Ａｌ₂Ｏ₃ ０．１〜７％、ＳｉＯ₂ ０．１〜７％含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】前記無機成分が鉛分を含まないものであり、均一で安定した分散性及び貯蔵安定性を有する、誘電体層形成用組成物、グリーンシート、並びに誘電体層形成基板、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】無機成分、熱分解性バインダー、分散剤および溶剤を含有する誘電体層形成用組成物であって、前記無機成分が鉛分を含まないものであり、前記分散剤がポリカルボン酸系高分子化合物であり、かつ、前記熱分解性バインダーの含有量が、固形分比で、無機成分１００重量部に対し、５５〜１０５重量部であることを特徴とする誘電体層形成用組成物、この誘電体層形成用組成物をフィルム状に成形して得られるグリーンシート、基板上に、前記グリーンシートを用いて形成された誘電体層を有する誘電体層形成基板、並びにその製造方法。 （もっと読む）

【課題】封着工程で良好に軟化流動した後に十分な量の結晶が析出することに加えて、結晶析出後の加熱工程、例えば真空排気工程で再流動することがなく、しかも結晶化前後の熱膨張係数の不当な上昇を抑制することができる結晶性ビスマス系ガラス組成物を得ること。
【解決手段】本発明の結晶性ビスマス系ガラス組成物は、ガラス組成として、モル％で、Ｂｉ₂Ｏ₃ ３０〜５０％、Ｂ₂Ｏ₃ ５〜２５％、ＺｎＯ＋ＣｕＯ ３１．２〜５０％、ＺｎＯ １５〜４０％、ＣｕＯ ０．１〜２５％、Ｆｅ₂Ｏ₃ ０〜５％、ＳｉＯ₂＋Ａｌ₂Ｏ₃ ０〜７％、ＢａＯ＋ＳｒＯ＋ＭｇＯ＋ＣａＯ ０〜６％、Ｓｂ₂Ｏ₃ ０〜５％、ＷＯ₃ ０〜５％、Ｉｎ₂Ｏ₃＋Ｇａ₂Ｏ₃ ０〜５％を含有し、且つ実質的にＰｂＯを含有しないことに特徴付けられる。 （もっと読む）

【課題】ガラス粉末からなる封止材料をペースト状としてガラス基板に塗布して封止層を形成し、この封止層にレーザー光を照射して２枚のガラス基板を接合してガラスパネルを製造する際に、ソーダライムガラスなどからなるガラス基板においてもクラック、割れなどの破損が生じないようにする。
【解決手段】クロム、鉄、ニッケル、コバルト、マンガン、銅、炭素のいずれか１種以上の単体または化合物からなるレーザー吸収成分とガラス成分を含み、ガラスからなる被封止部材との熱膨張率の差が１０×１０^−７／℃以下である封止材料を用い、封止材料からなる封止層３を少なくとも一方のガラス基板１の封止部位に形成したのち、他方のガラス基板２を重ね合わせ、前記封止層３にレーザー光を照射して封止層を溶融して２枚のガラス基板を接合する。 （もっと読む）

【課題】５００℃で一次焼成しても失透せず、しかも４５０〜５００℃の二次焼成で良好に流動するビスマス系封着材料を提供し、ＰＤＰ等の平面表示装置の製造効率向上に貢献すること。
【解決手段】本発明のビスマス系封着材料は、ビスマス系ガラス粉末４０〜９５重量％、耐火性フィラー粉末５〜６０重量％を含有し、該ビスマス系ガラス粉末が、ガラス組成として、モル％でＢｉ₂Ｏ₃ ３０〜５０％、Ｂ₂Ｏ₃ １０〜４０％、ＺｎＯ＋ＣｕＯ ３５〜５０％含有し、且つ実質的にＰｂＯを含有しないことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】誘電率が低く、軟化点が低く、耐水性が高い、ディスプレイパネル用に適したガラス組成物を提供する。
【解決手段】少なくともＢ_２Ｏ_３と、Ｒ_２Ｏ（ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋの１種類以上）と、Ｌｎ_２Ｏ_３（Ｌｎは希土類金属とＡｌより選ばれた一種類以上）を含み、Ｂ_２Ｏ_３の含有量が５０重量％以上９５重量％以下であり、Ｌｎ_２Ｏ_３の含有量が０．２重量％以上１０重量％以下であり、実質的に鉛を含まない事を特徴とする、低軟化点ガラス組成物。 （もっと読む）

【課題】Ｌｉ_２Ｏを含有する場合であってもその含有量が０．５％未満である隔壁形成用無鉛ガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準の質量百分率表示で、Ｂ_２Ｏ_３ ２０〜３５％、ＺｎＯ ２５〜６０％、ＳｉＯ_２ ０〜６％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０．１〜１０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ３〜３８％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜０．３％、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ０．１〜６％、から本質的になる隔壁形成用無鉛ガラス。ＺｎＯが２８〜５８％、ＳｉＯ_２が０．３〜５％、Ａｌ_２Ｏ_３が０．５〜８％、ＢａＯが１０〜３８％、Ｎａ_２Ｏが１〜５％である前記隔壁形成用無鉛ガラス。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、例えば、焼成温度が５００℃よりも高い場合であっても、焼成時に表層がビスマス系ガラスに溶け込み難いコーディエライト粉末を作製することにより、焼成時に熱膨張係数が上昇しないとともに、流動性が損なわれない封着材料を提供することである。
【解決手段】ビスマス系ガラス粉末とコーディエライト粉末を含有する封着材料において、コーディエライト粉末が固相反応によって作製されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】従来のビスマス系封止材よりも低温で溶融し、かつ温度を上げても安定しており結晶化せずに封着可能な封着用組成物を提供する。
【解決手段】封着用組成物は、低融点ガラスの組成がモル％表示で、Ｂｉ_２Ｏ_３：３８〜４６％、Ｂ_２Ｏ_３：１５〜２８％、ＺｎＯ：２３〜３３％、ＭｇＯ：０．１〜７％、ＳｒＯ：０．１〜７％、ＣｕＯ：０．１〜６％であり、かつ、ＭｇＯ：ＳｒＯのモル％比が１：２〜１：１であってＭｇＯ＋ＳｒＯが０．２〜８モル％であり、実質的にＰｂＯおよびＳｉＯ_２を含まない。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の肉厚が薄くても、反りの発生や板厚偏差を抑えることが可能なフラットパネルディスプレイ用ガラス基板を提供することである。
【解決手段】本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板は、ガラスの肉厚が０．５〜２．４ｍｍであるフラットパネルディスプレイ用ガラス基板において、７００〜１５００ｎｍにおける分光透過率が７０〜８７％未満であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】紫外線遮断性能の高いガラスを製造可能なランプ用ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】電磁波照射装置または粒子線照射装置を用いて、酸化スズを含有するガラスに電磁波または粒子線を照射して欠陥を生じさせる工程を含むランプ用ガラスの製造方法によりガラスを製造する。特には、ガラスの２ｍｍ厚における波長２８７ｎｍの紫外線透過率が５％以下となるように前記電磁波または粒子線を照射する。 （もっと読む）

【課題】銀反応による黄変が抑制され、かつ可視光透過率の高い無鉛低融点ガラスを提供する。
【解決手段】重量％でＳiＯ_２を２５〜４０、Ｂ_２Ｏ_３を３５〜５５、ＺｎＯを５〜１２、Ｒ_２Ｏ（Ｌi_２Ｏ＋Ｎa_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）を１０〜１８、ＢaＯを０．１〜３、ＺｒＯ_２を０．１〜７、ＣｕＯを０．１〜２含み、更にＢ_２Ｏ_３／ＺｎＯの重量比が３以上７以下であることを特徴とするＳiＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−ＺｎＯ−Ｒ_２Ｏ−ＢａＯ−ＺｒＯ_２−ＣｕＯ系無鉛低融点ガラスである。３０℃〜３００℃における熱膨張係数が（６５〜９５）×10^−７／℃、軟化点が５００℃以上６３０℃以下である特徴を有す。 （もっと読む）

【課題】銀反応による黄変が抑制され、かつ可視光透過率の高い無鉛低融点ガラスを提供する。
【解決手段】 重量％でＳiＯ_２を０〜７、Ｂ_２Ｏ_３を１３〜３６、ＺｎＯを５〜９．９、Ｂi_２Ｏ_３を２０〜６３、ＢaＯを３〜２７、Ｒ_２Ｏ（Ｌi_２Ｏ＋Ｎa_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）を０〜１０、ＲＯ（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ）を０〜１０、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜８、ＣｕＯを０〜２、Ｌa_２Ｏ_３を０〜３、ＣｅＯ_２を０〜２、ＣｏＯを０〜１、ＭｎＯ_２を０〜１、ＴｉＯ_２を０〜５含むことを特徴とするＢ_２Ｏ_３−ＺｎＯ−ＢａＯ−Ｂi_２Ｏ_３系無鉛低融点ガラス。 重量％で、Ｂ_２Ｏ_３/ＺｎＯの比が、１以上であることを特徴とする無鉛低融点ガラス。３０℃〜３００℃における熱膨張係数が（６５〜９５）×10^−７／℃、軟化点が５００℃以上６００℃以下である特徴を有す。 （もっと読む）