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Fターム[4G062MM27]の内容

ガラス組成物 (224,797) | 分野・用途 (4,326) | 電気、電子用 (1,047) | 基板(IC基板以外) (439)

Fターム[4G062MM27]に分類される特許

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【課題】 酸化錫を用いて泡品位に優れた珪酸塩ガラスを製造する方法を提供するものである。
【解決手段】 珪酸塩ガラスを製造するに当たり、清澄剤としてメディアン粒径D50が2〜50μmの範囲にある酸化錫粉末を用いることを特徴とする。珪酸塩ガラスとしては、無アルカリガラスやリチウムアルミノ珪酸塩系結晶化ガラスを例示することができる。 (もっと読む)


【課題】表面品位を向上させることができ、且つ耐失透性が良好な太陽電池用ガラス基板を得ること。
【解決手段】本発明の太陽電池用ガラス基板は、ガラス組成として、質量%でSiO 30〜70%、Al 3〜20%、B 0〜10%、MgO 0〜10%、CaO 0〜10%、SrO 0〜25%、BaO 0〜25%、NaO 0〜10%、KO 0〜10%、ZrO 0〜8%を含有し、且つ30〜380℃における熱膨張係数が50〜95×10−7/℃であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明の技術的課題は、洗浄工程で保護膜が消失し難く、長期に亘って、傷が付き難いガラス板を創案することである。
【解決手段】本発明のガラス板は、少なくとも一方の表面に保護膜を有するガラス板において、ガラス組成として、質量%で、SiO 40〜70%、Al 0〜20%、B 0〜15%、NaO+KO 0〜30%、SrO+BaO 1〜40%を含有し、且つ保護膜がSr含有硫酸塩及び/又はBa含有硫酸塩を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】電子機器の筐体や装飾品用途に好適な特性、すなわち、泡品質、強度、光の透過特性に優れた、黒色の色調を有する化学強化用ガラスを提供する。
【解決手段】下記酸化物基準のモル百分率表示で、SiOを55〜80%、Alを3〜16%、Bを0〜12%、NaOを5〜16%、KOを0〜4%、MgOを0〜15%、CaOを0〜3%、ΣRO(Rは、Mg、Ca、Sr、Ba、Zn)を0〜18%、ZrOを0〜1%、着色成分(Co、Mn、Fe、Ni、Cu、Cr、V、Biの金属酸化物からなる群より選択される少なくとも1成分)を0.1〜7%含有する化学強化用ガラス。 (もっと読む)


【課題】製造中にヒ素化合物およびアンチモン化合物が清澄剤として使用されない酸化チタン含有ホウケイ酸ガラスを提供する。
【解決手段】ヒ素化合物およびアンチモン化合物を使用することなく製造された、酸化チタン含有ホウケイ酸ガラス、更に酸素含有セレン化合物を清澄剤として使用することを含む、環境に優しい精製方法とする。ガラスは、赤外範囲において良好な透過率値を有し、邪魔な変色を示さないことから、IR光導体、光センサー用カバーガラスおよびUVフィルターの製造に特に適している。 (もっと読む)


【課題】Tzcに対する許容値、CTE対温度の傾き、およびTzcの空間的均一性などの特定のパラメータに対して必要な改善がなされ、かつ25nm未満のノードのリソグラフィにシステムの素子として使用するのに適した、ドープされたシリカ・チタニアガラスを提供する。
【解決手段】選択された重量のシリカ・チタニア粉末と選択された重量のドーパント粉末とを検量して、このシリカ・チタニア粉末および選択されたドーパント粉末を混合し、さらに選択された流体を用いて、この混合された粉末のスラリーを形成する。このスラリーを噴霧乾燥して、およそ200μm以下の直径サイズを有する自由流動微粒子を含んだ粉末を形成する。この粉末を、一軸加圧成形を用いて、次いでさらに冷間静水圧加圧を用いて、成形品に成形し、この成形品をホットプレスにより固化してドープされたシリカ・チタニアガラスブランクとし、さらにガラスブランクをアニールする。 (もっと読む)


【課題】ホウケイ酸ガラス粉末を原料とするガラスセラミック誘電体用材料であって、グリーンシート成形時において、スラリーの粘度変化が生じにくく、かつ、流動性が高くレベリング性に優れたガラスセラミック誘電体用材料を提供する。
【解決手段】ホウケイ酸ガラス粉末を49.9〜89.9質量%、アルミナ粉末および/または石英粉末を10〜50質量%、ならびに、ホウ酸アルミニウム粉末および/またはホウ酸シリカ系化合物粉末を0.1〜4質量%含有することを特徴とするガラスセラミック誘電体用材料。 (もっと読む)


【課題】板厚が薄い状態で高い強度を示し、機器に装着した際に機器の薄型化を図ることが可能である携帯端末用カバーガラスを提供すること。
【解決手段】本発明の携帯端末用カバーガラス1は、板状のガラス基板の主表面にレジストパターンを形成した後、前記レジストパターンをマスクとして、エッチャントで前記ガラス基板をエッチングすることにより所望の形状に切り抜かれてなる、携帯端末の表示画面を保護するカバーガラス1であって、前記カバーガラス1の端面は、溶解ガラス面で構成されてなり、且つ、前記端面の表面粗さは、算術平均粗さRaが10nm以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】低出力のレーザでレーザ封着が可能な封着材料層付きガラス基板の製造方法を提案する。
【解決手段】ガラス基板11を用意する工程と、第一の封着材料ペーストを前記ガラス基板11上に塗布した後、第一の封着材料膜12を形成する工程と、第二の封着材料ペーストを前記第一の封着材料膜12上に塗布した後、第二の封着材料膜13を形成する工程と、得られた積層膜を焼成して、前記ガラス基板11上に封着材料層14を形成する工程とを有すると共に、前記第一の封着材料ペーストが第一の封着材料を含み、且つ前記第二の封着材料ペーストが第二の封着材料を含み、前記第二の封着材料中の耐火性フィラーの含有量が、前記第一の封着材料中の耐火性フィラーの含有量より少ないことを特徴とする封着材料層付きガラス基板1の製造方法。 (もっと読む)


【課題】有機ELディスプレイ等の信頼性を高めたレーザー封着に好適な封着材料層付きガラス基板を提供する。
【解決手段】封着材料を焼結させた封着材料層を備える封着材料層付きガラス基板において、封着材料が少なくとも無機粉末を含み、無機粉末がガラス粉末と耐火性フィラーを含み、無機粉末中の耐火性フィラーの含有量が10〜35体積%であり、封着材料層の表面粗さRaが0.5μm未満であることを特徴とする封着材料層付きガラス基板。 (もっと読む)


【課題】従来の要求特性を満たすと共に、エッチングにより複数の強化ガラス片に分断し易い強化ガラスを提供する。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する強化ガラスであって、ガラス組成として、モル%で、SiO45〜75%、Al3〜15%、LiO0〜12%、NaO0.3〜20%、KO0〜10%、MgO+CaO1〜15%を含有し、モル比(Al+NaO+P)/SiOが0.1〜1、モル比(B+NaO)/SiOが0.1〜1、モル比P/SiOが0〜1、モル比Al/SiOが0.01〜1、モル比NaO/Alが0.1〜5であると共に、強化処理後にエッチングにより切断され、表面又は端面はエッチングされてなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高い機械的強度を有しつつ、軟化点が低い強化ガラスを創案することにより、特定形状、例えば曲面形状を有する化学強化ガラスおよび化学強化用ガラスを提供する。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する強化ガラスであって、ガラス組成として、質量%で、SiO 45〜75%、Al 0〜30%、LiO+NaO+KO 0.1〜30%含有し、且つβ−OH値が0.3〜1/mmであり、平板形状以外の形状を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、ガラスの軟化点温度が低く、その後の化学強化法によりガラスの強化が可能なディスプレイ用カバーガラスを提供することを目的とする。
【解決手段】ディスプレイ用カバーガラスであり、該カバーガラスは、熱軟化状態のガラス体をプレス成形加工され、かつ該ガラス体の表層部にイオン交換によって圧縮層が形成されたものであり、該圧縮層が形成されていない部位が、質量%表示で、SiO:50〜70、Al:1〜22、ZrO:0〜8、B:0〜8、RO:10〜30(RはLi、Na及びKからなる群から選ばれる少なくとも1つ)、MO:0〜20、(MはMg、Ca、Sr及びBaからなる群から選ばれる少なくとも1つ)、のガラス組成物からなり、該ガラス組成物はROとしてLiOを少なくとも1質量%有し、AlとZrOとを少なくとも合計で6質量%有し、軟化点温度が650℃以下であること。 (もっと読む)


【課題】次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、きわめて低い比重を有する結晶化ガラスおよび情報記録媒体用結晶化ガラス基板を提供する。
【解決手段】結晶相としてRAl、RTiO、(ただしRはZn、Mg、Feから選択される1種類以上)から選ばれる一種以上を含有する結晶化ガラスであって、酸化物基準の質量%で、SiO40%〜60%、Al7%〜23%、TiO1〜15%、MgO1%〜20%、CaO0%〜10%、SrO0%〜5%、BaO0%〜5%、ZnO0%〜15%、FeO0%〜8%、P0%〜7%、B0%以上8%未満、の各成分を含有し、(MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO+FeO)/(SiO+Al)の値が0.25以下、(ZnO+FeO)/MgOの値が0以上0.9以下、比重が2.67以下であることを特徴とする結晶化ガラス。 (もっと読む)


【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量%でSiO 40〜70%、Al 12〜21%、B 0〜6%、LiO 0〜1%、NaO 7〜20%、KO 0〜4%を含有し、質量比KO/NaOが0〜0.2であり、且つ圧縮応力層の厚みが10μm以上であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ガラス表面の強度を十分に強化することができ、しかも高い製造効率で安定した品位の強化板ガラスを製造するための強化板ガラスの製造方法とこの製造方法によって得られる強化板ガラスを提供する。
【解決手段】本発明の強化板ガラスは、アルミノシリケートガラスであって、板厚方向に相対向する板表面にそれぞれ化学強化による圧縮応力層を有し、板端面に、圧縮応力が形成されている領域と圧縮応力が形成されていない領域とを有し、前記アルミノシリケートガラスが、ガラス組成として、質量%で、SiO 50〜80%、Al 5〜25%、LiO+NaO 3〜25%、CaO+MgO+ZnO+SrO+BaO 0〜10%を含有し、圧縮応力層の厚さが100μm以下であり、且つ前記板端面が、スクライブ割断によって形成された面であると共に、折割工程を経ずに形成された面であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高い機械的強度を有しつつ、軟化点が低い強化ガラスを創案することにより、特定形状、例えば曲面形状を有する強化ガラスを得ること。
【解決手段】本発明の強化ガラスは、表面に圧縮応力層を有する強化ガラスであって、ガラス組成として、質量%で、SiO 45〜75%、Al 0〜30%、LiO+NaO+KO 8〜30%、NaO 8〜20%含有し、ガラスバッチの一部に水酸化物原料を用いて作製されてなり、且つβ−OH値が0.3〜1/mmであることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ディスプレイ用の基板ガラスとしての特性に優れており、かつ耐還元性に優れており、フロート法による成形に適した無アルカリガラス基板の提供。
【解決手段】モル%表示で実質的に、
モル%表示で実質的に、
SiO2 60〜64%
Al23 0〜12%、
23 5〜10%
MgO 1〜18%、
CaO 0〜18%、
SrO 0〜18%、
BaO 0〜2%、
CaO+SrO 12〜25%、
MgO+CaO+SrO+BaO 15.5〜30%
よりなり、アルカリ金属酸化物を実質的に含有せず、ガラス粘度がlogη=2となる温度T2 が1580℃ 以下である無アルカリガラス基板。 (もっと読む)


【課題】 磁気ヘッドと磁気ディスクとのトラックずれを防止することにより、少なくとも面記録密度が100ギガビット/平方インチを達成し得る磁気ディスク、あるいはハードディスクドライブに確実に固定できるモバイル用途のハードディスクに特に好適な磁気ディスクを与えることのできる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 中心部に円孔が形成されたディスク状ガラス基板を化学強化処理液に浸漬し、前記ガラス基板表面に含まれる相対的に小さなイオンを、化学強化処理液に含まれる相対的に大きなイオンとイオン交換することにより、当該ガラス基板表面に圧縮応力層を創生する化学強化処理工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、当該ディスク状ガラス基板中心部に形成された前記円孔の変形量が、円孔直径の0.05%以内になり、かつ当該ディスク状ガラス基板の抗折強度が98N以上になるように化学強化処理する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】清澄槽を構成する白金族金属で構成された容器の変形の防止に適したガラス板製造装置を提供する。
【解決手段】熔融ガラス5の気泡を除去するための清澄槽30は、白金族金属からなり、熔融ガラス5を収容する容器1と、容器1を支持する耐火物支持体7と、容器1と耐火物支持体7との間において容器1の外周面および耐火物支持体7に接するように配置された耐火物繊維層2とを備えている。耐火物繊維層2は、耐火物支持体7に対する容器1の膨張を、層2の界面による滑りおよび変形、ならびに層2の収縮により許容する。その結果、容器1に加わる応力が緩和され、容器1の変形が防止される。耐火物支持体7は、その厚み方向についての酸素の透過を遮蔽する気密性を有する耐火物保護層3を備えていてもよい。耐火物保護層3は、容器1を構成する白金族金属の酸化および揮発を抑制する。 (もっと読む)


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