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Fターム[4G062MM27]に分類される特許
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強化板ガラスとその製造方法
【課題】ガラス表面の強度を十分に強化することができ、しかも高い製造効率で安定した品位の強化板ガラスを製造するための強化板ガラスの製造方法とこの製造方法によって得られる強化板ガラスを提供する。
【解決手段】強化板ガラス10は、無機酸化物ガラスからなり、板厚保方向に対向する板表面11、12に化学強化による圧縮応力層を有している。板端面13、14、15、16は、圧縮応力が形成されている領域と圧縮応力が形成されていない領域とを有している。該板端面が、レーザー切断によって形成された面を有する。
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多孔質ガラスおよび光学部材
【課題】可視光に対して優れた反射防止性能を示す多孔質ガラスを提供する。
【解決手段】シリカを主成分とし、スピノーダル型の相分離由来の孔およびバイノーダル型の相分離由来の孔が形成された多孔質層2を有する反射防止など様々な光学機能を有する光学材料として工業的利用される多孔質ガラス1。母体ガラスを加熱処理することにより、母体ガラスを相分離し、相分離ガラスを酸溶液と接触させることにより酸可溶成分であるアルカリ金属酸化物−酸化ホウ素リッチ相を溶出除去させることにより多孔質ガラス1とする。
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カバーガラスおよびその製造方法
【課題】 ガラスのエッチング速度と耐失透性を両立させ、生産性を向上させることが可能なカバーガラスを提供する。
【解決手段】
ダウンドロー法により製造される化学強化用ガラス基板を化学強化し、表面に圧縮応力層が形成された化学強化ガラス基板からなり、該化学強化用ガラス基板は、質量%表示で、SiO2 50〜70%、Al2O3 5〜20%、Na2O 6〜20%、K2O 0〜10%、MgO 0〜10%、CaO 2%超〜20%およびZrO2 0〜4.8%を含み、かつ(1)SiO2含有率−1/2Al2O3含有率が46.5〜59%、(2)CaO/RO(ただし、RはMg、Ca、SrおよびBaの中から選ばれる少なくとも1種である。)含有量比が0.3超である、(3)SrO含有率+BaO含有率が10%未満である、(4)(ZrO2+TiO2)/SiO2含有量比が0〜0.07未満である、および(5)B2O3/R12O(ただし、R1はLi、NaおよびKの中から選ばれる少なくとも1種である。)含有量比が0〜0.1未満である、ことを特徴とするカバーガラスである。
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無アルカリガラスの製造方法
【課題】未融解珪砂の発生が少なく均質性に優れ、しかもガラス中に泡が少ない無アルカリガラスを得ることができる製造方法を提供する。
【解決手段】珪素源を含有するガラス原料を溶融し、ガラスを得る無アルカリガラスの製造方法において、無アルカリガラスは、所定の組成を含有し、ガラス原料は、SrCO3およびSrCl2を混合して、粒径D50が40〜180μm、かつ粒径D90が400〜570μmとなるように粉砕した粉砕原料と、他の原料と、を混合したガラス原料を用いる無アルカリガラスの製造方法を採用する。
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結晶化ガラスの製造方法および結晶化ガラス物品
【課題】材料内部における物性の均一性や、異なる製造ロット間での物性の再現性に優れた結晶化ガラス、および、そのような結晶化ガラスを高い歩留まりで容易に低コストで製造する方法を提供すること。
【解決手段】結晶化ガラスの製造方法であって、原ガラスの屈伏点をAt(℃)とする時、原ガラスをAt(℃)から(At+120)℃の温度範囲で熱処理する結晶化前工程と、結晶化前工程の後、前記結晶化前工程より高い温度で熱処理する結晶化工程と、を少なくとも含む結晶化ガラスの製造方法。
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無アルカリガラス基板の製造方法
【課題】清澄剤としてAs2O3を使用しなくても、表示欠陥となる泡が存在しない無アルカリガラス基板を製造することができる製造方法を提供する。
【解決手段】質量百分率でSiO2 50〜70%、Al2O3 10〜25%、B2O3 5〜20%、MgO 0〜10%、CaO 0〜15%、BaO 0〜10%、SrO 0〜10%、ZnO 0〜5%を含有し、かつSnO2及び/又はSb2O3を含むガラスとなるようにガラス原料調合物を用意し、該ガラス原料調合物を溶融し、成形して無アルカリガラス基板を製造する無アルカリ基板の製造方法であって、β−OH値が0.485/mm〜0.65/mmとなるようにガラス中の水分量を調節する。
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透明なガラスセラミックス
【課題】従来技術の欠点を有さない透明なガラスセラミックスを提供する。
【解決手段】少なくとも以下の組成:SiO2:60〜76;Al2O3:18〜24;Li2O:2〜5;MgO:0〜1.5;ZnO:>4〜8;ZrO2:1〜5;SnO2:>0.5〜4;Na2O:0〜1;K2O:0〜1;BaO:0〜4;Fe2O3:0〜0.1;As2O3:0〜<0.5(酸化物ベースに基づき質量%で記載)を有する透明なガラスセラミックスを提供することによって解決される。
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電極形成用ガラス及びこれを用いた電極形成材料
【課題】ブリスターやAlの凝集を発生させずに、Al−Si合金層とAlドープ層を適正に形成し得るビスマス系ガラスからなる電極形成用ガラスを創案することにより、シリコン太陽電池の外観不良を低減し、且つ光電変換効率を高めること。
【解決手段】本発明の電極形成用ガラスは、ガラス組成として、質量%で、Bi2O3 56〜76.3%、B2O3 2〜18%、ZnO 0〜11%(但し、11%は含まず)、CaO 0〜12%、BaO+CuO+Fe2O3+Sb2O3(BaO、CuO、Fe2O3、及びSb2O3の合量) 0〜25%を含有し、軟化点が462〜520℃であることを特徴とする。
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Li2O−Al2O3−SiO2系結晶化ガラス及びその製造方法
【課題】 As2O3やSb2O3を清澄剤として使用しなくても、泡品位に優れたLi2O−Al2O3−SiO2系結晶化ガラスとその製造方法を提供する。
【解決手段】 As2O3、Sb2O3を実質的に含有しないLi2O−Al2O3−SiO2系結晶化ガラスであって、Clを含有するとともに、S含有量がSO3換算で10ppm以下、β−OH値が0.2/mm以上であることを特徴とする。なおClの含有量は50〜1500ppmであることが好ましい。
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無アルカリガラス
【課題】生産性(特に耐失透性)に優れると共に、ガラス封止材の熱膨張係数に整合し、しかも歪点が高い無アルカリガラスを創案することにより、ガラス板の製造コストを低廉化しつつ、有機ELディスプレイ内部の気密性を確保し、且つp−Si・TFTの製造工程におけるガラス板の熱収縮を低減すること。
【解決手段】本発明の無アルカリガラスは、実質的にアルカリ金属酸化物を含有せず、歪点が680℃より高く、30〜380℃の温度範囲における平均熱膨張係数が40〜55×10−7/℃であり、液相温度が1200℃より低いことを特徴とする。また、本発明の無アルカリガラスは、ガラス組成として、質量%で、SiO2 55〜70%、Al2O3 10〜20%、B2O3 0.1〜4.5%、MgO 0〜1%、CaO 5〜15%、SrO 0.5〜5%、BaO 5〜15%を含有することを特徴とする。
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ガラス板
【課題】高強度と視域制御機能を両立し得るガラス板を創案することにより、3Dディスプレイの高精細化、高輝度化、低消費電力化に寄与すること。
【解決手段】本発明のガラス板は、ガラス組成として、質量%で、SiO2 40〜80%、Al2O3 0〜30%、B2O3 0〜15%、アルカリ金属酸化物(Li2O、Na2O、K2Oの一種又は二種以上) 0〜25%、アルカリ土類金属酸化物(MgO、CaO、SrO、BaOの一種又は二種以上) 0〜15%を含有し、且つ二次元ディスプレイの一部又は全部を覆う視域制御部材に用いることを特徴とする。
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珪酸塩ガラスの製造方法
【課題】 ガラス原料中のS量を制限しなくても、泡品位に優れた珪酸塩ガラス、特にLi2O−Al2O3−SiO2系結晶化ガラスの作製に用いられるLi2O−Al2O3−SiO2系結晶性ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】 S含有量をSO3換算で15ppm以上含有するガラス原料を用いて珪酸塩ガラスを製造する珪酸塩ガラスの製造方法であって、平均粒径45〜180μmのSiO2原料を使用することを特徴とする。
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強化ガラス基板の製造方法及び強化ガラス基板
【課題】 固体撮像装置に使用するカバーガラスをイオン交換するに際し、その処理時間を短縮できるため、生産性を向上することが可能な強化ガラス基板と、その製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明の強化ガラス基板の製造方法は、アルカリ金属酸化物を含有し、30〜380℃の温度範囲における熱膨張係数が30〜100×10−7/℃のガラスとなるように原料を調製する工程、該原料を溶融容器内で溶融した後、オーバーフローダウンドロー法によって板状に成形する工程、成形した板状ガラスをイオン交換することによって、その表面に圧縮応力層を形成する工程、からなることを特徴とする。
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携帯機器用カバーガラスのガラス基材
【課題】主表面と、端面とで構成されるエッジ部が鋭利な形状とならず、しかも機械的強度が高い携帯機器用カバーガラスのガラス基材を提供する。
【解決手段】板状のガラス基板1をエッチングすることにより所望の形状に切り抜かれてなり、主表面11,12及び端面13を持つ携帯機器用カバーガラスのガラス基材1であって、前記主表面11,12と前記端面13とで構成されるエッジ部14は、UL(Underwriters Laboratories)−1439に準拠するシャープエッジテストで表面から2層が切断されないエッジであり、前記ガラス基材1は、イオン交換処理により化学強化されたガラスとする。
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ディスプレイ装置
【課題】大面積で薄いカバーガラス板の自重変形を低減することができるディスプレイ装置を提供すること。
【解決手段】表示パネル20と、該表示パネル20の前方に設置されるカバーガラス板30とを備えるディスプレイ装置10において、カバーガラス板30は、32インチ以上の対角線長さL、1.5mm以下の厚さ、および、70GPa以上のヤング率を有することを特徴とするディスプレイ装置20を提供する。
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固体撮像装置用カバーガラス
【課題】ガラスのヤング率が高く、またシリコンと広い温度範囲で熱膨張係数が近似したCSPにて製造される固体撮像装置に特に好適に使用できる固体撮像装置用カバーガラスを提供すること。
【解決手段】質量%で、SiO2 56〜66%、Al2O3 9〜26%、B2O3 1〜11%、MgO 0〜6%、CaO 0〜6%、ZnO 4〜13%、Li2O 0〜4.0%、Na2O 0〜5.0%、K2O 0〜6.0%、ただし、Li2O+Na2O+K2O 1%以上を含有し、30〜300℃の範囲における平均熱膨張係数が30〜38×10−7K−1、ヤング率が78GPa以上の固体撮像装置用カバーガラスである。
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ディスプレイ装置用のガラスおよびガラス板
【課題】低温かつ短時間で化学強化できるディスプレイ装置用ガラスを提供する。
【解決手段】下記酸化物基準のモル百分率表示で、SiO2を61〜72%、Al2O3を8〜17%、Li2Oを6〜18%、Na2Oを2〜15%、K2Oを0〜8%、MgOを0〜6%、CaOを0〜6%、TiO2を0〜4%、ZrO2を0〜2.5%含有し、Li2O、Na2OおよびK2Oの含有量の合計R2Oが15〜25%、Li2Oの含有量とR2Oの比Li2O/R2Oが0.35〜0.8、MgOおよびCaOの含有量の合計が0〜9%であるディスプレイ装置用ガラス。
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ディスプレイ基板
【課題】薄膜等が形成されていないにも関わらず、高い透過率を有するディスプレイ基板を提供する。
【解決手段】本発明のディスプレイ基板は、肉厚0.1mm以上のディスプレイ基板であって、波長400nmにおいて、基板の両表面をそれぞれ30μm除去したときの透過率と、除去前の透過率との差△T400が、0.5〜5.0%の範囲にあり、ダウンドロー法で成形されてなることを特徴とする。
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電子デバイス及びその製造方法
【課題】2枚のガラス基板間にスペーサを配置して封止する際に、レーザ封着によるスペーサやガラス基板のクラックや割れ等の発生を抑制することによって、封止性やその信頼性を高めた電子デバイスとその製造方法を提供する。
【解決手段】電子デバイスは、第1のガラス基板2と第2のガラス基板3とこれらガラス基板2、3間に設けられる電子素子部とを具備する。第1のガラス基板2と第2のガラス基板3との間は、スペーサ6と第1の封着層7と第2の封着層8とで封着される。第2の封着層8はレーザ光を吸収する第2の封着用ガラス材料のレーザ光による溶融固着層からなる。第2の封着層8はガラス基板2、3の積層方向を含む断面において、第1の封着層7と該積層方向に重ならないように配置されている。
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Li2O−Al2O3−SiO2系結晶化ガラス及びその製造方法
【課題】 As2O3やSb2O3を清澄剤として使用しなくても、泡品位に優れたLi2O−Al2O3−SiO2系結晶化ガラスとその製造方法を提供する。
【解決手段】 As2O3、Sb2O3を実質的に含有しないLi2O−Al2O3−SiO2系結晶化ガラスであって、Cl、CeO2及びSnO2の少なくとも1種を含有するとともに、S含有量がSO3換算で10ppm以下であることを特徴とする。
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