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Fターム[4G062MM27]の内容

ガラス組成物 (224,797) | 分野・用途 (4,326) | 電気、電子用 (1,047) | 基板(IC基板以外) (439)

Fターム[4G062MM27]に分類される特許

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【課題】シートガラスの表面の洗浄度を向上することができる洗浄ブラシ体およびシートガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】シートガラスの搬送中に、一方向に並んだ複数の洗浄ブラシを回転させることにより、前記シートガラスを洗浄する。前記洗浄ブラシのそれぞれは、放射状に延びる複数の羽根ブラシ部を備える。前記複数の洗浄ブラシのそれぞれの前記羽根ブラシ部のそれぞれは、接触しないように、同期して回転する。前記羽根ブラシ部の少なくとも1つの回転方向前方のエッジには、ガラス面に対して摺動して洗浄する前方摺動体要素が前記エッジに沿って連続して延在するように形成される。さらに、前記羽根ブラシ部の少なくとも1つの回転方向後方のエッジから、前記洗浄ブラシ体の放射方向内側に傾斜した方向に連続して延在するように後方摺動体要素が形成される。これにより、前記洗浄ブラシ体の回転中、前記シートガラスの表面上に洗浄液の流れが形成される。 (もっと読む)


【課題】環境負荷の大きい酸化ヒ素や酸化アンチモンの使用量が少なく、しかも残泡の少ないガラス組成物を提供する。
【解決手段】このガラス組成物は、質量%で表示して、SiO2:40〜70%,B23:5〜20%,Al23:10〜25%,MgO:0〜10%,CaO:0〜20%,SrO:0〜20%,BaO:0〜10%,Li2O:0.001〜0.5%,Na2O:0.01〜0.5%,K2O:0.002〜0.5%,Cl:0%を超え1.0%以下,を含む。 (もっと読む)


【課題】真円度に優れた磁気ディスク用板状ガラス素材、及び磁気ディスク用ガラス基板を効率よく製造方法を提供する。
【解決手段】磁気ディスク用板状ガラス素材Gであって、溶融したガラスLGの塊を落下させる落下工程と、ゴブGGの落下経路の両側から、互いに対向する一対の型121,122の面でゴブGGを挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材Gを成形するプレス工程と、を有し、一対の型121,122の少なくとも一方は、ゴブGGの落下経路側が凹形状であることを特徴とする磁気ディスク用板状ガラス素材Gの製造方法。 (もっと読む)


【課題】研削工程、及び研磨工程における加工レートを向上させることで処理時間を短縮を可能としながら、平滑性やうねりの発生を抑制し、磁気記録媒体用のガラス基板として必要な特性を確保することのできる磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ガラスに組成揺らぎを持たせることが可能であるガラス組成において、組成揺らぎを促進させる熱処理温度でガラス基板の熱処理を行う工程、及び前記熱処理により分離したSiO濃度の薄い相の少なくとも一部を除去することで表面の加工性を向上させる工程を含み、前記ガラス基板のガラス転移温度をTg(℃)としたとき、前記熱処理温度がTg〜Tg+100(℃)の範囲であることを特徴とする磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】薄膜電気回路が形成される基板に要求される品位を満たす100μm以下のガラス基板の製造方法と、この方法により得られる薄板ガラス基板を提供する。
【解決手段】板厚が10〜200μmのガラス基板を製造する方法であって、溶融ガラスをダウンドロー法にてリボン状に成形する成形工程と、ガラスリボンを徐冷する徐冷工程と、ガラスリボンを切断する切断工程とを含むガラス基板の製造方法であって、(徐冷点+200℃)〜(徐冷点+50℃)の温度範囲における平均冷却速度を300〜2500℃/分の範囲に調節することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ガラス表面の強度を十分に強化することができ、しかも高い製造効率で安定した品位の強化板ガラスを製造するための強化板ガラスの製造方法とこの製造方法によって得られる強化板ガラスを提供する。
【解決手段】アルミノシリケートガラスであって、板厚方向に相対向する板表面にそれぞれ化学強化による圧縮応力層を有し、板端面に、圧縮応力が形成されている領域と圧縮応力が形成されていない領域とを有し、前記板表面の形状が多角形であり、且つ前記多角形の角部がC面又はR面の形状を有する。 (もっと読む)


【課題】ケイ酸塩ガラス中のシードの濃度を低減するための清澄剤を提供する。
【解決手段】本清澄剤は、水源として作用する、水和物または水酸化物など、少なくとも1種類の無機化合物を含む。1つの実施の形態では、清澄剤は、さらに、少なくとも1種類の多価金属酸化物、および、随意的に酸化剤を含む。約1シード/cm3未満のシード濃度を有する、溶融形成かつイオン交換可能なケイ酸塩ガラスも提供する。ケイ酸塩ガラスのシード濃度を低減する方法、および約1シード/cm3未満のシード濃度を有するケイ酸塩ガラスを製造する方法についても記載する。 (もっと読む)


【課題】光反射率が高くかつ腐食による反射率の低下の少ない光反射層を備え、光の取出し効率が向上された発光素子搭載基板を提供する。
【解決手段】表面に反射層としての銀導体層2が形成された無機材料基板1からなり、この銀導体層2の上に発光素子6が搭載される発光素子搭載基板であって、銀導体層2が、ペースト体の焼成により形成されており、銀導体層2を覆うように無機材料基板2に焼き付けて形成した厚み5〜20μmのオーバーコート層3を有しており、このオーバーコート層3が酸化物基準のモル%表示でSiOを62〜84%、Bを10〜25%、Alを0〜5%、NaOおよびKOのいずれか1以上を合計で0〜5%、含有し、SiOとAlの含有量の合計が62〜84%、MgOを0〜10%、CaO、SrO、BaOのいずれか1以上を含有する場合にその含有量の合計が5%以下のホウケイ酸ガラスである。 (もっと読む)


【課題】環境負荷の大きい酸化ヒ素や酸化アンチモンの使用量が少なく、しかも残泡の少ないガラス組成物を提供する。
【解決手段】このガラス組成物は、質量%で表示して、SiO2:40〜70%,B23:5〜20%,Al23:10〜25%,MgO:0〜10%,CaO:0〜20%,SrO:0〜20%,BaO:0〜10%,Li2O:0〜0.5%,Na2O:0〜0.5%,K2O:0〜0.5%,Cl:0%を超え1.5%以下,を含み、Li2O+Na2O+K2Oが0.06%を超える範囲にある。このガラス組成物は、例えば、ガラス原料の一部として塩化物を用いることにより好適に製造できる。 (もっと読む)


【課題】簡易な構成で、盗撮防止対象物上の画像の盗撮を防止することができる盗撮防止シートを提供する。
【解決手段】赤外蛍光体粒子14Bを含む赤外発光層14を備えた盗撮防止シート10を、表示装置等の表示画面等の盗撮防止対象物上に設置すると、表示画面から放射された可視光や自然光に含まれる可視光によって赤外発光層14中の赤外蛍光体粒子14Bが赤外光を発光する。このため、表示画面上に表示された画像を、この盗撮防止シート10を介して撮像装置によって撮像すると、CCDは赤外波長領域にも感度を有するため、赤外蛍光体粒子14Bによる赤外光が撮像されることとなる。このため、赤外蛍光体粒子14Bの発光による赤外光によって、表示画面に表示された画像が撮像装置によって撮像されることが阻害され、盗撮を防止することができる。 (もっと読む)


【課題】ガラスそのものの脆さを改善し加工時に発生する不可避な残存クラックの伸展を防ぎつつ、また深い表面応力層を得やすくすることにより発生した残存クラックを表面圧縮応力層に容易に取り込むことが可能で、かつ外力による傷の発生がしにくい化学強化板ガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準の質量百分率表示で、SiOを75.5〜85.5%、MgOを1〜8%、CaOを0〜7%、Alを0〜5%、NaOを10〜22.5%を含有し、MgOの含有量がCaOの含有量より多く、MgOおよびCaOの含有量の合計(MgO+CaO)が8%以下、MgO、CaOおよびNaOの含有量の合計が24.5%以下、(MgO+CaO)をNaO含有量で除して得られた比が0.45以下である化学強化用板ガラス。 (もっと読む)


【課題】傷がついても破壊しにくい化学強化ガラスに用いるガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル百分率表示で、SiOを65〜77%、Alを3〜15%、NaOを8〜15%、KOを0〜2%未満、MgOを3〜15%、ZrOを0〜1%含有し、SiOおよびAlの含有量の合計SiO+Alが85%以下であり、CaOを含有する場合その含有量が1%未満であり、かつ、各成分の含有量を用いて下記式により算出されるRが0.66以上である化学強化用ガラス。
R=0.029×SiO+0.021×Al+0.016×MgO−0.004×CaO+0.016×ZrO+0.029×NaO+0×KO−2.002 (もっと読む)


【課題】圧縮応力層の圧縮応力値が高く、且つ所望の色合いを有する強化ガラス板を創案すること。
【解決手段】本発明の強化ガラス板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス板であって、ガラスの組成として、下記酸化物換算の質量%で、SiO 50〜70%、Al 5〜20%、B 0〜5%、NaO 8〜18%、KO 2〜9%、Fe 30〜1500ppmを含有し、波長400〜700nmにおける板厚1.0mm換算の分光透過率が85%以上、xy色度座標(C光源、板厚1mm換算)におけるxが0.3095〜0.3120、xy色度座標(C光源、板厚1mm換算)におけるyが0.3160〜0.3180であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】固体酸化物形燃料電池セル用無アルカリガラス系シール材を提供する。
【解決手段】700〜1200℃程度のSOFC12の作動温度域で軟化或いは溶融し難い高融点或いは高軟化点とするようにバリウムシリケート結晶BaSi、BaSi、およびBaSi13の少なくとも1つをガラスマトリックス中に有し、且つ、アルカリ成分を含まないで9〜13×10−6/Kの熱膨張係数を有し且つ700〜900℃程度の接合温度でSOFC12とその周辺部材であるガス管24などとを接合可能な接合可能となるように、無アルカリガラス系シール材10は、50〜85wt%のBaOと4〜20wt%のSiOと1〜15wt%のAlとを必須構成要素として含み、且つ、0〜20wt%のBと0〜30wt%のTiOとの少なくとも一方を含むガラス組成物を備えている。 (もっと読む)


【課題】板厚のばらつきが小さい板状ガラス素材を製造する方法を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラスブランクの製造方法であって、溶融したガラスの塊を落下させる落下工程と、前記塊の落下経路の両側から、互いに対向する一対の型の面で前記塊を同じタイミングで挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材を成形するプレス工程と、前記プレス工程時における前記塊の全体における位置による粘度差を低減すべく、前記プレス工程前に、前記塊の温度を調整する温度調整工程と、を有することを特徴とする磁気ディスク用ガラスブランクの製造方法。 (もっと読む)


【課題】隔壁前駆体と同時焼成に際し、昇温速度を大きくした場合であっても誘電体層の剥離や隔壁の断線を生じない誘電体ペースト、および生産性が高く、高品位なプラズマディスプレイの製造方法を提供する。
【解決手段】 軟加点ガラス(A)、熱重合開始剤(B)、下記一般式(1)で表される化合物(C)を含むことを特徴とするガラスペーストであること、である。
【化1】


(式中、R〜Rのうち1〜3個がアルキロイル基であり、残りの5〜3個がアクリル基またはメタクリル基である。)とする。 (もっと読む)


【課題】真円度に優れた磁気ディスク用ガラス基板を効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラス基板Gの製造方法であって、溶融したガラスの塊GGを落下させる落下工程と、前記塊の落下経路の両側から、互いに対向する一対の型121,122の面121a,122aで前記塊GGを同じタイミングで挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材Gを成形するプレス工程と、前記板状ガラス素材Gを加工する加工工程と、を有し、前記塊GGの落下方向の速度成分について、前記一対の型121,122に対する前記塊GGの相対速度を0に近づけるべく、前記プレス工程は、前記塊GGが落下する方向に前記一対の型121,122が移動しながら、前記塊GGを挟み込むことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板Gの製造方法。 (もっと読む)


【課題】多数回の重ね塗りを行っても厚膜高精細パターンが実現可能な絶縁パターンを形成する方法を提供すること。
【解決手段】絶縁ペーストを基板上にパターン印刷して露光する工程を2回以上繰り返した後、焼成する工程を含む絶縁パターンの形成方法であって、絶縁ペーストが絶縁性の無機粉末および感光性有機成分を含み、該絶縁ペースト中の有機溶剤の含有量が5質量%以下であることを特徴とする絶縁パターンの形成方法とする。 (もっと読む)


【課題】携帯電話の表示部に要求される表面品位を達成可能であると共に、エッチングレートを高めることが可能であり、しかも機械的強度が高い強化ガラスを創案する。
【解決手段】本発明の強化ガラスは、表面に圧縮応力層を有する強化ガラスであって、ガラス組成として、モル%で、SiO 45〜75%、Al 3〜15%、LiO 0〜12%、NaO 0.3〜20%、KO 0〜10%、MgO+CaO 1〜15%を含有し、モル比(Al+NaO+P)/SiOが0.1〜1、モル比(B+NaO)/SiOが0.1〜1、モル比P/SiOが0〜1、モル比Al/SiOが0.01〜1、モル比NaO/Alが0.1〜5であると共に、強化処理前に表面の一部又は全部がエッチングされてなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】エッチングレートを向上させることによりカバーガラスの生産効率を向上し、さらには、複雑な形状であっても、形状精度の高いカバーガラスを形成することができるカバーガラスの製造方法およびカバーガラスを提供する。
【解決手段】カバーガラスは、ダウンドロー法により成形されたガラス基板をエッチング加工し、かつ、ガラス主表面に圧縮応力層を有するように化学強化したカバーガラスである。前記ガラス基板は、成分としてSiOを50〜70質量%、Alを5〜20質量%、NaOを6〜30質量%、および、LiOを0〜8質量%未満含む。必要に応じて、CaOを0〜2.6質量%含む。前記ガラス基板は、濃度10質量%のフッ化水素を含む22℃のエッチング環境で、3.7μm/分以上のエッチングレートのエッチング特性を有する。 (もっと読む)


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