【課題】薄型化、軽量化が可能で、機械的強度や透明性が高く、しかも短時間で製造可能な携帯型液晶ディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法並びにこれを用いたディスプレイを提供する。
【解決手段】 ＳｉＯ₂を４０〜７０重量％、Ａｌ₂Ｏ₃を０．１〜２０重量％、Ｎａ₂Ｏを３〜２０重量％含有し、Ｌｉ₂Ｏを含有しないガラス材料で形成されたガラス基板の表面に化学強化処理により深さ５０μｍ以上の圧縮応力層を形成する。 （もっと読む）

【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２ ４０〜７１％、Ａｌ_２Ｏ_３ ３〜２１％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜３．５％、Ｎａ_２Ｏ １０〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１５％を含有すると共に、内部の引っ張り応力が１５〜２００ＭＰａであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを提供する。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する化学強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２４０〜７１％、Ａｌ_２Ｏ_３３〜２１％、Ｌｉ_２Ｏ０〜３．５％、Ｎａ_２Ｏ７〜２０％、Ｋ_２Ｏ０〜１５％、ＺｒＯ_２０．００１〜１０％、ＴｉＯ_２０〜４％を含有することを特徴とし、ＳｎＯ_２０．０１〜３％含有せしめることでイオン交換性能を向上させる。 （もっと読む）

【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２ ４０〜７１％、Ａｌ_２Ｏ_３ ３〜２１％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜３．５％、Ｎａ_２Ｏ ７〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１５％を含有すると共に、未研磨の表面を有し、端面部に面取り加工又はエッチング処理がなされていることを特徴とする。 （もっと読む）

バルク散乱特性を有するガラスセラミック、および、例えば、ＯＬＥＤまたは光起電用途における前記ガラスセラミックの使用に関する。
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本発明は、アルミノケイ酸リチウムガラス及びアルミノケイ酸リチウムガラスを製造する方法に関し、該ガラスは、（ｍｏｌ％で）以下の組成：６０〜７０ ＳｉＯ_２、１０〜１３ Ａｌ_２Ｏ_３、０．０〜０．９ Ｂ_２Ｏ_３、９．６〜１１．６ Ｌｉ_２Ｏ、８．２〜＜１０ Ｎａ_２Ｏ、０．０〜０．７ Ｋ_２Ｏ、０．０〜０．２ ＭｇＯ、０．２〜２．３ ＣａＯ、０．０〜０．４ ＺｎＯ、１．３〜２．６ ＺｒＯ_２、０．０〜０．５ Ｐ_２Ｏ_５、０．００３〜０．１００ Ｆｅ_２Ｏ_３、０．０〜０．３ ＳｎＯ_２、０．００４〜０．２００ ＣｅＯ_２を有する。以下の比率及び条件：（Ｌｉ_２Ｏ＋Ａｌ_２Ｏ_３）／（Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）＞２、０．４７＜Ｌｉ_２Ｏ／（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）＜０．７０、０．８＜ＣａＯ＋Ｆｅ_２Ｏ_３＋ＺｎＯ＋Ｐ_２Ｏ_５＋Ｂ_２Ｏ_３＋ＣｅＯ_２＜３（式中、６つの酸化物のうち少なくとも４つが含まれる）が、本発明によるガラスに適用される。このようなアルミノケイ酸リチウムガラスは、少なくとも８２ＧＰａの弾性率を有する。その上、それは、５４０℃未満のガラス転移温度Ｔ_ｇ及び／又は１１５０℃未満の加工温度を有する。ガラスは、フロートプロセスを用いた成形に好適であり、少なくとも５５０Ｎ／ｍｍ^２の曲げ強度を有し得るように化学的及び／又は熱的に強化することができる。 （もっと読む）

【課題】固体撮像素子の視感度補正用近赤外線カットフィルタガラスにおいて、特に近紫外線吸収特性をもつガラスを提供することを目的とする。また、近赤外線カットフィルタガラスを固体撮像素子の保護用カバーガラスとして用いることが可能であり、特にプラスチック製パッケージとの接合に好適である近赤外線カットフィルタガラスを提供すること。
【解決手段】Ｕの含有量が６〜２０ｐｐｂである近赤外線カットフィルタガラスである。また、α線放出量が０．００２〜０．０２ｃ／ｃｍ^２・ｈ、かつ波長５５０〜７５０ｎｍの分光透過率において５０％の透過率を示す波長が６１５ｎｍとなるように換算した場合に、波長３１５ｎｍにおける透過率が０．３％未満である近赤外線カットフィルタガラスである。 （もっと読む）

本発明は、リチウムアルミノシリケートガラスの化学強化に関し、これによって、高レベルの表面張力と深い表面張力ゾーンをもたらす、中程度の温度での速やかな強化が可能となる。 （もっと読む）

３次元精密成形に用いられ、かつ強化処理に適する薄リチウムアルミノケイ酸ガラスが提供される。本発明ガラスは、５０ＭＰａ以下の中心引っ張り応力、６００〜１２００ＭＰａの表面圧縮応力、最大で５００ＭＰａまで達する曲げ強度、及び５５０℃以下のガラス転移温度を有する。 （もっと読む）

【課題】製品である液晶パネルの歩留まりを向上することができる無アルカリガラス基板を提供すること。
【解決手段】液晶パネル用の無アルカリガラス基板において、フッ酸（ＨＦ）：５．３質量％、フッ化アンモニウム（ＮＨ_４Ｆ）：３５．８質量％、残部：水からなるバッファードフッ酸の溶液中に２５℃、２０分間浸漬した後のヘイズ値が７．０％以下である。 （もっと読む）

本発明は、光電池、好ましくは薄膜光電池であって、アルミノケイ酸ガラスから作製される基板ガラスを有し、このアルミノケイ酸ガラスは、ＳｉＯ_２およびＡｌ_２Ｏ_３ならびにアルカリ酸化物Ｎａ_２Ｏおよびアルカリ土類酸化物ＣａＯ、ＭｇＯ、およびＢａＯ、ならびに任意にさらなる成分を有するガラス組成物を含み、このガラス組成物は、１０〜１６重量％のＮａ_２Ｏ、＞０〜＜５重量％のＣａＯ、および＞１〜１０重量％のＢａＯを含有し、かつＣａＯ：ＭｇＯの比は、０．５〜１．７の範囲にある光電池、好ましくは薄膜光電池に関する。本発明に従って使用されるアルミノケイ酸ガラスは、ＣａＯ／ＭｇＯ選択された比のため結晶化に対して安定であり、かつ５８０℃を超える転移温度Ｔｇおよび１２００℃未満の加工温度ＶＡを有する。それゆえ、本発明に従って使用されるアルミノケイ酸ガラスは、ソーダ石灰ガラスに対する熱的により安定な代替物となる。また本発明の目的は、光電池用、好ましくは薄膜光電池用、特にＣｄＴｅ、ＣＩＳ、もしくはＣＩＧＳなどの複合型半導体材料に基づく光電池用、好ましくは薄膜光電池用の基板ガラス、スーパーストレート構造ガラス、および／またはカバーガラスとしてのアルミノケイ酸ガラスの使用である。 （もっと読む）

【課題】ガラス−セラミックプレート、特に発熱体を覆うためのガラス−セラミックプレート及びその製造方法を提供する。
【解決手段】発熱体を覆うための、少なくとも１つの面上に少なくとも１つのエナメルパッチ及び／又は少なくとも１つの塗料被膜を、適切な場合には、機能及び／又は装飾領域を除いて設けたガラス−セラミックプレートに関する。該プレートを製造する方法、及び該プレートを含んで成る調理器具に関し、とりわけ、該調理器具の天板に関連する下の発熱体が、例えば、ハロゲン、放射又は誘導加熱タイプの熱源であるガラス−セラミックプレートに関する。 （もっと読む）

【課題】ガラス板の製造の際に、ガラス成形後の加工処理の効率に悪影響を与えず、化学強化する前のガラス表面に傷が付き難い程度にガラス表面が強化された強化ガラスと、この強化ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス板が化学強化された強化ガラスは、ダウンドロー法で製造される。強化ガラスには、強化ガラスの厚さ方向の中心位置におけるＳiの原子濃度（原子％）に対するＳiの原子濃度（原子％）の濃度比率が５％以上高いＳｉ高濃度領域が、ガラス表面から厚さ方向に沿って０より大きく３０ｎｍ以下の深さの範囲に形成される。前記Ｓｉ高濃度領域は、Ｓｉ原子濃度の最大ピークを有し、前記ガラス板の厚さ方向に沿ったＳｉ原子濃度は、前記最大ピーク位置からガラス板のガラス表面および前記中心位置まで連続的に減少する。さらに、ガラス板には、イオン交換により化学強化されたイオン交換処理領域が前記ガラス板の表面に形成される。 （もっと読む）

【課題】色素増感太陽電池等に代表される電子材料基板用の絶縁性被覆材料、電極保護被覆材料及び封着材料として用いられる絶縁被覆用無鉛低融点ガラスペーストを提供すること
【解決手段】質量％でＳiＯ_２を０〜７、Ｂ_２Ｏ_３を１０〜２０、ＺｎＯを７〜３０、Ｂi_２Ｏ_３を３５〜８０含有するガラスフリットが、有機成分を必須成分とするガラスペースト中に９５〜５０質量％含有されることを特徴とする絶縁被覆用無鉛低融点ガラスペースト。 （もっと読む）

【課題】耐候性に優れた情報記録媒体用ガラス基板の提供。
【解決手段】アルカリアルミノシリケート系ガラスからなり、β‐ＯＨ値が０．２０ｍｍ^−１以上である情報記録媒体用ガラス基板。アルカリアルミノシリケート系ガラスが下記酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ_２を６４〜６７％、Ａｌ_２Ｏ_３を８〜１０％、Ｌｉ_２Ｏを１０〜１３％、Ｎａ_２Ｏを９〜１２％、Ｋ_２Ｏを０〜２％、ＺｒＯ_２を２〜４％含有し、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏの含有量の合計が２１〜２５％である前記情報記録媒体用ガラス基板。 （もっと読む）

固体酸化物セラミックは、イットリア安定化ジルコニア（ＹＳＺ）、チタン酸ランタンストロンチウム（ＬＳＴ）、マンガン酸ランタンストロンチウム（ＬＳＭ）および酸化ニッケル−ＹＳＺ複合材料からなる群から選択される少なくとも１つの材料を含む、１つの表面を画定する基板を含む。固体酸化物セラミックはさらに、表面の少なくとも一部分をコーティングし、サンボルナイト（ＢａＯ・２ＳｉＯ_２）結晶相、ヘキサセルシアン（ＢａＯ・Ａｌ_２Ｏ_３・２ＳｉＯ_２）結晶相および残留ガラス相を含み、前記表面において基板の熱膨張係数以下の熱膨張係数を有するシールを含む。ガラス組成物のガラス結晶化温度とガラス転移温度の差は、約２０℃／分の加熱速度で約２００℃〜約４００℃の範囲内であり得る。
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【課題】実質的にＰｂＯを含有せず、Ｐ_２Ｏ_５系ガラスの問題点である耐湿性を向上させ、さらに高温で処理した場合でも結晶化せず安定な無鉛低融点ガラスを提供すること
【解決手段】実質的にＰｂＯを含有せず、モル％で表して、Ｐ_２Ｏ_５を２５〜４０、ＺｎＯを１５〜５０、Ｎａ_２Ｏを１５〜４５、（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）を０〜３０、Ａｌ_２Ｏ_３を０.１〜１０、含むことを特徴とするＰ_２Ｏ_５−ＺｎＯ−Ｎａ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３系無鉛低融点ガラス。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置などのフラットパネルディスプレイに用いるガラス基板に好適であるとともに、高い熱安定性を保つとともにＢａＯを実質的に含まないながらも失透温度が低く、ダウンドロー法によりガラス基板の製造に適したガラス組成物を提供する。
【解決手段】質量％で表示して、ＳｉＯ₂ ５４〜６２％、Ｂ₂Ｏ₃ ４〜１１％、Ａｌ₂Ｏ₃１５〜２０％、ＭｇＯ ２〜５％、ＣａＯ ０〜７％、ＳｒＯ ０〜１３．５％、Ｋ₂Ｏ ０〜１％、ＳｎＯ₂ ０〜１％、Ｆｅ₂Ｏ₃ ０〜０．２％を含み、ＢａＯを実質的に含まず、アルカリ土類金属酸化物の含有率の合計（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ）が１０〜１８．５質量％であり、失透温度が１２００℃以下であるガラス組成物とする。 （もっと読む）

【課題】耐衝撃性に優れ、かつディスク形状の安定化を両立するデータ記憶媒体用ガラス基板及びその製造方法の提供。
【解決手段】酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ_２を５８〜６６％、Ａｌ_２Ｏ_３を９〜１５％、Ｌｉ_２Ｏを７〜１５％、Ｎａ_２Ｏを２〜９％含有し、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏが１３〜２１％であるガラスからなる基板用ガラスを混合溶融塩に浸漬し、該基板用ガラスの表面及び裏面に圧縮層を形成する化学強化処理工程を含むデータ記憶媒体用ガラス基板の製造方法であって、前記混合溶融塩が質量百分率表示で、硝酸リチウムを１〜７．５％、硝酸ナトリウムを２８〜５５％、硝酸カリウムを４０〜６９％含有するデータ記憶媒体用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

タッチパネル用アルミノケイ酸ガラスを提供する。本ガラスは、シリカ５５〜６５重量％、酸化ナトリウム１５＜〜２０重量％、酸化カリ２〜６重量％、マグネシア３．９〜１０重量％、ジルコニア０〜５重量％、酸化亜鉛０〜４重量％、酸化カルシウム０〜４重量％、酸化ナトリウム＋酸化カリ＋マグネシア＋酸化亜鉛＋酸化カルシウムが総計で１５〜２８重量％、酸化錫０〜１重量％、及び二酸化チタン＋酸化セリウム１重量％未満から成る。また、ガラスを１００％ＫＮＯ_３の塩浴中に浸漬してイオン交換強化処理する工程と、ガラスを温度３７０〜４３０℃で０．５〜１６時間予備加熱する工程から構成される化学的強化方法も提供する。本発明ガラスはタッチパネル用の基板及びカバーシートとして利用可能である。 （もっと読む）