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Fターム[4G062NN26]に分類される特許
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ガラス
【課題】15以上の高い比誘電率と、0.3%以下の低い誘電損失とを有し、また、ガラス移転点(Tg)も低くて、高周波回路素子、ディスプレイ等の電子回路用基板や誘電材料の形成に好適に適用できるガラスを提供すること。
【解決手段】酸化物基準の質量%で、Bi2O3を20〜90%含有するガラスであって、1MHzでの比誘電率が15以上で、誘電損失が0.3%以下である。また、好ましくは、ガラス転移点(Tg)が500℃以下である。
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プラズマディスプレーパネル用誘電体材料
【課題】本発明の目的は、輝度の向上に寄与し、焼成後に泡を包含しにくいプラズマディスプレイ用誘電体材料を提供することである。
【解決手段】本発明のプラズマディスプレイ用誘電体材料は、ガラス粉末を55〜95質量%、酸化チタン粉末を5〜40質量%含有するプラズマディスプレーパネル用誘電体材料であって、50%粒子径(D50)が0.5〜2.5μm、最大粒子径(Dmax)が15μm以下であることを特徴とする。
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スパークプラグ
スパークプラグは、第1のガラス材料と、第2のガラス材料とから形成されたガラスシールを有する。第1のガラス材料は、第2のガラス材料のガラス転移温度/軟化点より高いガラス転移温度/軟化点を有する。第1のガラス材料と、第2のガラス材料とは、マトリックスを形成し、フィラと組み合わされた場合、鉛入りガラスに近似する熱膨張率および特性を有する。
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誘電体、誘電体を有するディスプレイデバイス、および誘電体製造方法
【課題】ベースへの所望の接着性および非常に良好な絶縁性を有する厚膜タイプの誘電体を提供すること。
【解決手段】本発明の誘電体は、感光性組成物からなる下側誘電体層と、感光性組成物からなり、上記下側誘電体層の上に形成された上側誘電体層とを含む。上記下側誘電体層に使用される主要ガラス粉末の軟化点(T1)と、上記上側誘電体層に使用される主要ガラス粉末の軟化点(T2)と、上記主要ガラス粉末の焼成温度(T3)とが関係T1<T3<T2<T3+30℃を満たす。
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電極被覆用ガラスおよびこれを用いたディスプレイ装置
【課題】誘電体層やガラス基板の黄変を抑制することができる電極被覆用ガラスと前記電極被覆用ガラスを用いて黄変が無く、絶縁性に優れたディスプレイ装置を提供する。
【解決手段】AgまたはCuの少なくとも1種からなる電極を被覆する電極被覆用ガラスであって、前記電極被覆用ガラスがSO3を0.1〜5mol%含むことを特徴とする電極被覆用ガラスと、互いに直交する表示電極およびアドレス電極を有し、前記表示電極または前記アドレス電極がAgまたはCuの少なくとも1種からなるディスプレイ装置において、前記表示電極または前記アドレス電極が前記電極被覆用ガラスにより被覆されていることディスプレイ装置である。
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ペースト組成物及びプラズマディスプレィパネル
【課題】従来と同じ塗工方法を用いて塗布することが可能であり、かつ、薄膜状の誘電体層を形成することが可能なペースト組成物を提供する。
【解決手段】(A)質量平均分子量が150000〜300000であり、ガラス転移点が30℃〜100℃のアクリル系重合体を含有するバインダー樹脂、(B)単環式モノテルペン若しくはその水添化合物の少なくともいずれか1種を含有する溶剤、及び(C)無機粉末、を含有した。
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積層誘電体および層状誘電体の製造方法
【課題】高周波領域での比誘電率が6〜10である低誘電率誘電体層が積層された誘電体の製造。
【解決手段】層数が奇数の積層誘電体の製造方法で、奇数番目の原料層が含有するガラス粉末が、モル%で、SiO2 23〜35%、B2O3 0〜15%、Al2O3 2〜15%、MgO 30〜50%、CaO 0〜12%、SrO 0〜12%、BaO 0〜4%、ZnO 2〜12%、等からなり、偶数番目の原料層が含有するガラス粉末が、SiO2 36〜55%、B2O3 0〜5%、Al2O3 5〜20%、MgO 20〜45%、CaO+SrO 0〜20%、BaO 0〜10%、ZnO 0〜15%、等からなり、隣り合う誘電体層の線膨張係数の差が15×10−7/℃以下である。
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非結晶性ガラスタブレットおよびタブレット一体型排気管
【課題】平面表示装置用排気管等の封着時には良好に流動し、しかもその後に供される370〜420℃の排気工程で軟化変形し難く、排気管が動いて排気孔を塞いだり、穴があいて気密性が損なわれる事態が生じないビスマス系ガラスによる非結晶性ガラスタブレットを得ること。
【解決手段】本発明の非結晶性ガラスタブレットは、低融点ガラスと耐火性フィラーを含有する非結晶性ガラスタブレットであって、低融点ガラスが、ガラス組成として、下記酸化物換算のモル%表示でBi2O3 30〜60%、B2O3 10〜40%、ZnO 10〜50%を含有し、且つ耐火性フィラーが、組成として、下記酸化物換算の重量%表示でSiO2 30〜100%、Al2O3 0〜45%、ZnO 0〜35%、ZrO2 0〜20%、TiO2 0〜20%、Li2O 0〜10%、MgO 0〜25%を含有することを特徴とする。
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感光性ペースト組成物およびそれを用いたフラットパネルディスプレイ部材
【課題】本発明はフラットパネルディスプレイの隔壁などの各種部材に用いる感光性ペースト組成物に関して、その感光性ペースト組成物の膜のタック性を制御し、露光時のフォトマスクの汚れなどの問題を生じないことによって、高精細なパターン形成が可能とする感光性ペースト組成物を提供する。
【課題手段】少なくともガラス粉末を含む無機粒子と感光性有機成分を有する感光性ペースト組成物であって、感光性有機成分に含まれるバインダーポリマーのガラス転移温度が30〜100℃であり、酸化物換算表記で70〜95重量%のBi2O3、3〜15重量%のSiO2、5〜20重量%のB2O3、1〜10重量%のZnO、0〜3重量%のZrO2の組成範囲のガラス粉末を含有する感光性ペースト組成物。
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ガラス繊維織物のヒートクリーニング方法
【課題】ガラス繊維からなるガラス繊維織物において、効率的なヒートクリーニング方法を提供する。
【解決手段】特定の金属酸化物で構成された低誘電率ガラス組成(但しCaOを5重量%以下に含有)のガラス繊維を用いた織物を、550〜700℃の雰囲気温度の加熱炉に通して連続的に加熱処理してヒートクリーニングする。この加熱処理に先立ち、350〜550℃の加熱炉に連続的に通して予備ヒートクリーニングしたり、過酸化水素水などの酸化剤水溶液に接触させれば、より好ましい。
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プラズマディスプレイパネル
【課題】高品質の画面を実現することができるプラズマディスプレイパネル。
【解決手段】プラズマディスプレイパネルを提供する。このプラズマディスプレイパネルのガラス材質の前面基板または第2誘電層の少なくとも1つの部材は、コバルト(Co)、ニッケル(Ni)、セレニウム(Se)、鉄(Fe)、マンガン(Mn)、クロム(Cr)、バナジウム(V)、及びスカンジウム(Sc)からなる群より選択された1つ以上の遷移金属を含む遷移金属酸化物と、プラセオジミウム(Pr)、ネオジミウム(Nd)、サマリウム(Sm)、ティプロシウム(Dy)、及びホルミウム(Ho)からなる群より選択された1つ以上の稀土類元素を含む稀土類元素酸化物と、を含む。
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無機材料ペースト、平面ディスプレイ用部材の製造方法および平面ディスプレイ
【課題】高精細かつ高アスペクト比の平面ディスプレイ用隔壁を形成する際に、隔壁頂部の凹凸による頂部欠けや焼結不良といった問題が発生しない平面ディスプレイ用隔壁を提供する。
【解決手段】無機成分および有機成分を含有する無機材料ペーストであって、無機成分として軟化温度がTsL1(℃)、平均粒子径がDL1であるガラスフリットL1、軟化温度がTsL2(℃)、平均粒子径がDL2であるガラスフリットL2および平均粒子径がDHであり、600℃以下に軟化温度を有しない無機粉末Hを含み、前記ガラスフリットL1の無機材料ペースト中の全無機成分に対する体積濃度がVL1(%)、前記無機粉末Hの無機材料ペースト中の全無機成分に対する体積濃度がVH(%)であり、上記無機成分の軟化温度、平均粒子径および体積濃度が下式(1)〜(3)を満たすことを特徴とする無機材料ペーストとする。
TsL1≦TsL2≦600 (1)
DL1≦DH<DL2 (2)
VH≦VL1 (3)
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隔壁形成用ガラスペースト
【課題】ガラス基板上に塗布したペーストを短時間で乾燥するために、高温で乾燥しても、基板やドライフィルムレジストとの密着性や膜強度を維持しながらサンドブラスト性の低下を防止できる乾燥膜を得ることが可能な隔壁形成用ガラスペーストを提供することである。
【解決手段】本発明の隔壁形成用ペーストは、セルロース系樹脂とブチラール樹脂を合量で1〜5質量%含有する有機樹脂を用いたプラズマディスプレイの隔壁の形成に使用される隔壁形成用ガラスペーストであって、酸化防止剤を含有することを特徴とする。
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電極被覆用ガラスおよびプラズマディスプレイ装置
【課題】プラズマディスプレイ装置の前面基板等の電極被覆ガラス層を鉛を含有しないものとし、かつその透明性を高くし、銀発色を抑制する。
【解決手段】モル%で、B2O3 25〜45%、SiO2 13〜40%、Li2O+Na2O+K2O 7〜20%、ZnO 0〜30%、CuO+CeO2+CoO 0〜5%、MgO+CaO+SrO+BaO 0〜12%、から本質的になり、PbOおよびAl2O3のいずれも含有しない電極被覆用ガラス。表示面として使用される前面基板、背面基板および隔壁によりセルが区画形成されており、前面基板を構成するガラス基板上の透明電極が前記電極被覆用ガラスにより被覆されているプラズマディスプレイ装置。
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外部電極蛍光ランプ用外套容器
【課題】 外部電極ランプの外套容器として要求される諸特性、具体的には熱膨張係数α、液相粘度logη、誘電率ε、誘電正接tanδ、体積抵抗率logρを全て満足する外部電極ランプ用外套容器を提供する。
【解決手段】 外面に電極が設けられた構造を有する外部電極蛍光ランプの作製に用いられる外套容器であって、質量%で、SiO2 45〜60%、B2O3 0〜10%、Al2O3 0〜10%、MgO 0〜10%、CaO 0〜10%、SrO 0〜9%、BaO 5〜25%、ZnO 0〜13%、TiO2 0〜5%、CeO2 0〜3%、ΣRO(=MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO) 20〜40%、ΣR2O(=Li2O+Na2O+K2O) 5〜9.8%含有するガラスからなることを特徴とする。
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鉛フリーのガラス、厚膜ペースト、テープの組成物およびそれから作製した低温共焼成したセラミックデバイス
【課題】多層LTCC回路の製造に適用するのに適したガラス、ペーストおよびテープの組成物を提供すること。
【解決手段】モル%ベースで、46〜56%のB2O3、0.5〜8.5%のP2O5、SiO2およびそれらの混合物、20〜50%のCaO、2〜15%のLn2O3(Lnは希土類元素およびそれらの混合物からなる群から選択される)、0〜6%のM’2O(M’はアルカリ元素からなる群から選択される)ならびに0〜10%のAl2O3からなるガラス組成物であって、但し、その組成物は水系で粉砕可能である。
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オーバーコート用ガラスペースト及び厚膜抵抗素子
【課題】鉛を実質的に含まず、低温、特に700℃以下の温度で焼成可能な、気密性及び化学的耐久性、特に耐酸性が優れたオーバーコート用ガラスペーストであって、厚膜抵抗素子のプリコートガラスとして用いたときには、抵抗体の安定性を損なうことなくレーザートリミングを容易に行うことができるオーバーコート用ガラスペーストを提供する。
【解決手段】低融点ガラス粉末と有機ビヒクルとを含むガラスペーストであって、前記低融点ガラスが、実質的にPbを含有せず、酸化物換算のモル%表示で、SiO2 20〜50%、Al2O3 0.5〜10%、BaO及びSrOからなる群から選択された少なくとも1種を5〜35%、ZnO 5〜35%、TiO2 1〜10%、Li2O、Na2O及びK2Oからなる群から選択された少なくとも1種を1〜13%、B2O3 0〜20%、及びWO3及びMoO3からなる群から選択された少なくとも1種を0〜5%で含有することを特徴とするオーバーコート用ガラスペースト。
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プラズマディスプレイパネルの製造方法
【課題】エネルギー効率が良好で、温度分布が生じ難く、誘電体前駆層を均一に焼成することが可能なプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板2と、該ガラス基板2上に配設された誘電体層とを備えるプラズマディスプレイパネルの製造方法において、(i)前記ガラス基板2上にガラスフリット及び有機樹脂バインダーを含む誘電体前駆層1を形成する工程と、(ii)前記ガラス基板上に形成された前記誘電体前駆層に300MHz〜300GHzのマイクロ波を照射して、該誘電体前駆層から誘電体層を生成させる工程とを含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法である。
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ビスマス系ガラス組成物およびビスマス系材料
【課題】500℃以下の温度で焼成が可能であるとともに、PbOを含有しないために環境問題が生じたり、電気絶縁性が低下する恐れがないガラス組成物を提供する。
【解決手段】本発明のビスマス系ガラス組成物は、モル分率で、Bi2O3 30〜50%、B2O3 10〜40%、BaO+SrO 1〜10%、ZnO 0〜30%、CuO 0〜20%、Fe2O3 0〜5%、SiO2+Al2O3 0〜5%、Cs2O 0〜5%、F2 0〜20%の組成を有し、かつ、Bi2O3/(BaO+SrO)が3.5〜35.0の関係を満たし、本質的にPbOを含まないことを特徴とする。
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ガラスセラミック
【課題】主としてBPO4 からなる結晶相を持ったガラスセラミックであって、充分な化学的安定性と熱安定性とを持ち、その熱膨張係数が、半導体材料の熱膨張係数の広い範囲内にあるように適合させることが可能なガラスセラミックを提供する。
【解決手段】重量%でSiO2 が10−50、B2 O3 が5−40、P2 O5 が25−75、清澄剤が≦5、不純物が≦1、M32 O3 、M52 O5 及びM4O2 から選ばれた少なくとも1成分が0.1−10からなる組成物を溶融してガラスセラミックとする。ここで、M3はランタノイド、イットリウム、鉄、アルミニウム、ガリウム、インジウム又はタリウムであり、M5はバナジウム、ニオブ又はタンタルであり、M4はチタン、ジルコニウム、ハフニウム又はセリウムである。
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