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積層誘電体および層状誘電体の製造方法
【課題】高周波領域での比誘電率が6〜10である低誘電率誘電体層が積層された誘電体の製造。
【解決手段】層数が奇数の積層誘電体の製造方法で、偶数番目の原料層が含有するガラス粉末が、モル%で、SiO2 23〜35%、B2O3 0〜15%、Al2O3 2〜15%、MgO 30〜50%、CaO 0〜12%、SrO 0〜12%、BaO 0〜4%、ZnO 2〜12%、等からなり、奇数番目の原料層が含有するガラス粉末が、SiO2 36〜55%、B2O3 0〜5%、Al2O3 5〜20%、MgO 20〜45%、CaO+SrO 0〜20%、BaO 0〜10%、ZnO 0〜15%、等からなり、隣り合う誘電体層の線膨張係数の差が15×10−7/℃以下である。
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ビスマス系無鉛ガラス組成物
【課題】600℃以下の軟化点を有し、優れた光透過性を有するPDPの誘電体層用ガラスの形成などに好適な無鉛ガラス組成物を提供することにある。
【解決手段】酸化物換算の質量%でBi2O3:25〜45%、BaO:5〜20%含有され、且つ前記Bi2O3と前記BaOとはBaO/Bi2O3の質量比の値が0.2〜0.7となる割合で含有されており、さらにSiO2:1〜10%、B2O3:10〜35%、ZnO:21〜35%、Al2O3:0〜5%、MgO、CaO、SrOの合計:0〜20%含有されてなることを特徴とするビスマス系無鉛ガラス組成物を提供する。
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電極被覆用ガラスおよびプラズマディスプレイパネル
【課題】PbOを含有せずBi2O3を含有する電極被覆用ガラスであって銀電極を被覆したときに銀発色等を抑制できるガラスの提供。
【解決手段】Bi2O3を含有しPbOを含有しない電極被覆用ガラスであって、CeO2およびMnO2を含有する電極被覆用ガラス。モル%表示で、B2O3 25〜60%、SiO2 0〜18%、ZnO 0〜60%、MgO+CaO+SrO+BaO 7〜18%、Bi2O3 3〜15%、Al2O3 0〜10%、CeO2 0.05〜0.2%、MnO2 0.05〜0.2%、から本質的になりPbOを含有しない電極被覆用ガラス。
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電極被覆用ガラスおよびプラズマディスプレイパネル
【課題】PbOを含有しないガラスであって焼成ガラス層の透過率を高くできる電極被覆用ガラスの提供。
【解決手段】モル%表示で、B2O3 25〜32%、SiO2 0〜13%、ZnO 35〜60%(35%を除く)、BaO 7〜16%、Bi2O3 3〜7%、Al2O3 0〜5%、から本質的になりPbOを含有しない電極被覆用ガラス。質量百分率表示で、B2O3 14〜22%、SiO2 0〜7%、ZnO 25〜50%(25%を除く)、BaO 10〜24%、Bi2O3 13〜30%、Al2O3 0〜5%、から本質的になり、PbOを含有しない電極被覆用ガラス。
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酸化物ガラスおよびこれを用いたディスプレイパネル
【課題】ディスプレイパネル等に好適に採用できる酸化物ガラスを提供する。
【解決手段】酸化物ガラスは、含まれる元素のうち、酸素を除く他の元素の比率で表して、Bが55原子%以上85原子%以下、Siが0原子%以上15原子%以下、Znが0原子%以上15原子%以下、Kが0原子%以上10原子%以下、Naが0原子%以上10原子%以下、Biが1原子%以上10原子%以下、SiおよびZnの合計が5原子%以上30原子%以下、KおよびNaの合計が1原子%以上10原子%以下、K、NaおよびBiの合計が8原子%以上15原子%以下である。
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プラズマディスプレイパネル用誘電体材料
【課題】 ZnO−B2O3−R2O系非鉛ガラスにおいて、Nb2O5、La2O3及びWO3を添加しなくても、誘電率が高く、しかも、ガラス基板に適合する熱膨張係数を有し、600℃以下の温度で焼成することができ、透明性に優れた誘電体層を形成することが可能なプラズマディスプレイパネル用誘電体材料を提供することである。
【解決手段】 本発明のプラズマディスプレイパネル用誘電体材料は、ZnO−B2O3−R2O系ガラス粉末を含むプラズマディスプレイパネル用誘電体材料において、該ガラス粉末が、実質的にPbO、Nb2O5、La2O3及びWO3を含有せず、BaOを6質量%以上含有し、(BaO+ZnO)/B2O3の値が、質量比で2.50〜8.00であるガラスからなることを特徴とする。
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機能性パターン形成用感光性樹脂組成物および機能性パターン形成方法
【課題】ガラス基板への結着性に優れた機能性パターンを形成することができ、しかも保存安定性の高い機能性パターン形成用感光性樹脂組成物および機能性パターン形成方法を提供する。
【解決手段】カルボキシル基含有樹脂、重合性モノマー、重合開始剤、機能性材料、およびガラスフリットとを含有してなり、前記ガラスフリットとしてカルボキシル基との反応性の低い五酸化バナジウム(V2O5)を主成分とするガラス材料を用いた感光性樹脂組成物を、ブラックマトリックスなどの機能性パターンを形成するための機能性パターン形成用感光性樹脂組成物として用いる。
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スパークプラグ及びその製造方法
【課題】 釉薬中の含有Pb量を大幅に削減でき、ひいては高まりつつある環境保護への動きにも適合したスパークプラグを提供する。
【解決手段】 スパークプラグ100の釉薬層2dにおいて、アルカリ金属成分の合計含有量範囲を12重量%以下(0重量%を含む)の範囲に留め、また、B成分の含有量範囲をB2O3に酸化物換算した重量にて20〜35重量%に留めつつ、Ti及びZrをそれぞれ酸化物換算した重量にて合計で2〜10重量%の割合で配合する。
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スピンオンガラス組成物、その製造方法、及びそれを用いた多孔性シリコン酸化膜の製造方法
【課題】接着特性が優秀な低誘電膜を形成するためのスピンオンガラス組成物、その製造方法、及びそれを用いた多孔性シリコン酸化膜の形成方法を提供する。
【解決手段】構造式1を有する3〜20質量%のシルセスキオキサンオリゴマー、3〜20質量%の気孔生成剤、及び残余の溶媒を含むスピンオンガラス組成物。そして、前記多孔性シリコン酸化膜を形成するために、前記スピンオンガラス組成物を基板上に塗布してスピンオンガラス薄膜を形成した後、前記薄膜を硬化して多孔性シリコン酸化膜を形成する。したがって、前記多孔性シリコン酸化膜は、接着特性が優秀であるのみならず、後続工程で過剰エッチングを招かない。
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無鉛低融点ガラス
【課題】プラズマディスプレイパネルに代表される電子材料基板開発で、銀反応による黄変が抑制され、かつ可視光透過率の高い無鉛低融点ガラスが望まれている。
【解決手段】重量%でSiO2を8〜20、B2O3を16〜32、ZnOを37〜52、R2O(Li2O+Na2O+K2O)を10〜15、CuOを0〜2、La2O3を0〜3、CeO2を0〜2、CoOを0〜1、MnO2を0〜1かつ(CuO+La2O3+CeO2+CoO+MnO2)を0.1〜3含むことを特徴とするSiO2−B2O3−ZnO−R2O系無鉛低融点ガラスである。30℃〜300℃における熱膨張係数が(65〜90)×10−7/℃、軟化点が500℃以上600℃以下である特徴を有す。
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低融点ガラス
【課題】プラズマディスプレイパネルに代表される電子材料基板開発で、銀反応による黄変が抑制され、かつ可視光透過率の高い低融点ガラスが望まれている。
【解決手段】重量%でSiO2を0〜6、B2O3を20〜40、ZnOを15〜28、PbOを20〜34、BaOを10〜25、RO(MgO+CaO+SrO)を0〜10、Al2O3を0〜8、CuOを0〜2、La2O3を0〜3、CeO2を0〜2、CoOを0〜1、MnO2を0〜1含むことを特徴とするSiO2−B2O3−ZnO−BaO−PbO系低融点ガラス。
重量%で、B2O3/ZnOの比が、1以上であり、30℃〜300℃における熱膨張係数が(65〜95)×10−7/℃、軟化点が480℃以上580℃以下である特徴も有す。
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プラズマディスプレイパネル用誘電体前駆層転写フィルム及びその製造方法並びにプラズマディスプレイパネル
【課題】
当該誘電体前駆層転写用フィルム自体及びこのフィルムから得られるプラズマディスプレイパネルが環境を汚染する恐れが無いプラズマディスプレイパネル用誘電体前駆層転写フィルムの製造方法を提供すること。
【解決手段】
透明支持フィルム、及びその表面上に設けられたガラスフリット及びバインダ樹脂を含むプラズマディスプレイパネル用誘電体層の前駆層を含むプラズマディスプレイパネル用誘電体前駆層転写用フィルムであって、ガラスフリットがその骨格成分中に鉛及び/又は鉛化合物を含まず、且つバインダ樹脂のガラス転移温度(Tg)が45℃以下であること特徴とするプラズマディスプレイパネル用誘電体前駆層転写用フィルム。
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電極被覆用ガラス
【課題】プラズマディスプレイ装置の前面基板電極を被覆したときにその電極近傍に大きな泡が残存しにくくなるもの、または結晶が析出しにくいものの提供。
【解決手段】軟化点が650℃以下かつ150℃における比抵抗が1012Ω・cm以上でありPbOおよびBi2O3のいずれも含有しない酸化物ガラスからなり、ZnOを含有しない、またはZnOを含有する場合その含有量が10モル%以下である電極被覆用ガラス。前記電極被覆用ガラスであって、そのガラスの質量平均粒径が5μm以下である粉末について(軟化点−50℃)以上(軟化点+30℃)以下の温度に30分間保持する焼成を行ったときに結晶析出が認められない電極被覆用ガラス。50〜350℃における平均線膨張係数が70×10−7〜90×10−7/℃である前記電極被覆用ガラス。1MHzにおける比誘電率が9以下である前記電極被覆用ガラス。
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リン酸亜鉛系無鉛ガラス組成物
【課題】 600℃以下の低い軟化点を有するリン酸亜鉛系無鉛ガラス組成物を提供することにある。
【解決手段】 酸化物換算の質量%で、P2O5が1〜25%、ZnOが30〜50%、B2O3が20〜45%、BaOが5〜30%含有され、さらに、K2O、Na2O、Li2Oの一種類以上が合計0.05〜15%含有されてなることを特徴とするリン酸亜鉛系無鉛ガラス組成物を提供する。
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ビスマス系無鉛ガラス組成物
【課題】非結晶性であるものの、適当な耐火性フィラーを添加すれば結晶性ガラスとして機能するビスマス系無鉛ガラス組成物を提案する。
【解決手段】モル%で、Bi2O3 40〜50%、B2O3 15〜25%、ZnO 20〜35%、BaO+SrO+MgO+CaO 0.5〜10%、CuO 0〜10%、Fe2O3 0〜5%、SiO2+Al2O3 0〜5%、WO3 0〜5%、Sb2O3 0〜5%、In2O3+Ga2O3 0〜5%含有することを特徴とする。
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感光性厚膜誘電体ペースト組成物、およびそれを使用して絶縁層を作製するための方法
【課題】化学線で露光すると湿式現像できる感光性厚膜誘電体ペースト組成物を提供する。
【解決手段】450℃を超えて600℃までの焼成温度より0°から40℃低いガラス軟化点を有するガラスフリット;有機ポリマー結合剤;光開始剤;光硬化性モノマー;および有機溶媒を含み、組成物が化学線で露光すると湿式現像できる感光性厚膜誘電体ペースト組成物を開示する。この組成物を使用した絶縁層の形成方法も提供する。
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低融点ガラス組成物
【課題】 低融点無鉛のガラス組成物であって、PDP等のFPDの背面基板に形成される誘電体層及び隔壁の形成素材として有用なガラス組成物を提供する。
【解決手段】 無鉛低融点ガラス組成物であって、その組成が重量%で、P2O5 5%以上〜20%未満、Al2O35〜15%、B2O3 15〜25%、SiO2 0〜10%、ZnO 10〜40%、MgO、CaO、SrO及びBaOからなる群から選ばれる少なくとも1種0〜40%、Li2O、Na2O及びK2Oからなる群から選ばれる少なくとも1種0〜5%、F2 0〜3%、La2O30〜5%及びV2O5 0〜5%であることを特徴とするP2O5-ZnO-B2O3系低融点ガラス組成物。
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無鉛低融点ガラス
【課題】プラズマディスプレイパネルに代表される電子材料基板開発で、銀反応による黄変が抑制され、かつ可視光透過率の高い無鉛低融点ガラスが望まれている。
【解決手段】重量%でSiO2を0〜5、B2O3を15〜35、ZnOを10〜25、Bi2O3を20〜60、BaOを5〜20、R2O(Li2O+Na2O+K2O)を0〜10、RO(MgO+CaO+SrO)を0〜10、Al2O3を0〜8、CuOを0〜2、La2O3を0〜3、CeO2を0〜2、CoOを0〜1、MnO2を0〜1かつ(CuO+La2O3+CeO2+CoO+MnO2)を0.1〜3含むことを特徴とするSiO2−B2O3−ZnO−BaO−Bi2O3系無鉛低融点ガラス。
重量%で、B2O3/ZnOの比が、1以上であり、30℃〜300℃における熱膨張係数が(65〜95)×10−7/℃、軟化点が500℃以上600℃以下である特徴も有す。
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誘電体膜、及びその製造方法
【課題】ディスプレイパネル用のガラス基板に反りを生じることなく積層される緻密な誘電体膜、及び鉛などの有害物を含有しない環境負荷が小さいガラス組成物を用いて形成される誘電体膜の製造方法を提供。
【解決手段】ガラス基板の反りを抑制することのできる、2以上の誘電体層を有する誘電体膜であって、ガラス基板上に設けられる最下層の誘電体層(A)は、酸化物換算で、SiO2を1〜15mol%、B2O3を10〜50mol%、ZnOを30〜50mol%、及び一般式:R2O(式中、Rは、K、Na又はLiから選ばれる少なくとも1種のアルカリ金属元素を示す。)で表されるアルカリ金属の酸化物を0〜12mol%含むガラス組成物から形成され、かつそのガラス転移点は、480℃〜540℃であり、一方、最下層の上に設けられる誘電体層(B)を形成するガラス組成物のガラス転移点は、430℃〜480℃である誘電体膜などにより提供。
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無鉛シーリングガラス粉末及び製造方法
【課題】 環境に汚染を容易に招く成分を含まず、貴重金属の酸化物も含まず、シーリングされようとする真空ガラス製品に対して、無毒、無汚染のシーリングを行うことができる無鉛シーリングガラス粉末を提供する。
【解決手段】 少なくとも酸化バナジウム(V2O5)、酸化りん(P2O5)及び酸化アンチモン(Sb2O3)を相互に混合した後、溶融冷却及び粉砕を経て形成したガラス粉体であり、酸化バナジウム(V2O5)の重量パーセントは30%-70%であり、酸化りん(P2O5)の重量パーセントは10%-30%であり、酸化アンチモン(Sb2O3)の重量パーセントは0.5%-30%である。その製造方法には、重量パーセントに応じて、酸化バナジウム(V2O5)、酸化りん(P2O5)、及び酸化アンチモン(Sb2O3)を秤量した後、充分に混合し;前記混合料を800℃〜1200℃において2-3時間融合させて、粉末になるように冷却硬化且つグラインドさせる。
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