Fターム[4G062NN26]の内容
Fターム[4G062NN26]に分類される特許
21 - 40 / 194
パワーモジュール用基板、冷却器付パワーモジュール用基板、パワーモジュール及びパワーモジュール用基板の製造方法
【課題】回路層上に半導体素子をはんだ材を介して、容易に、かつ、確実に接合することが可能なパワーモジュール用基板、冷却器付パワーモジュール用基板、パワーモジュール及びこのパワーモジュール用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁層11の一方の面に、アルミニウム又はアルミニウム合金からなる回路層12が配設され、この回路層12上にはんだ層2を介して半導体素子3が配設されるパワーモジュール用基板10であって、回路層12の一方の面には、ZnO含有の無鉛ガラスを含有するAgペーストの焼成体からなるAg焼成層30が形成されていることを特徴とする。
(もっと読む)
強化ガラス及びその製造方法
【課題】成形時のガラスの耐失透性を維持した上で、イオン交換性能が高く機械的強度が向上した強化ガラスを提供する。
【解決手段】圧縮応力層を有する強化ガラスにおいて、ガラス組成として、質量%で、SiO245〜75%、Al2O35〜25%、Li2O+Na2O+K2O8〜30%、Na2O8〜20%、K2O0〜10%含有し、β−OH値が0.01〜0.5/mmであることを特徴とする。ガラス中のβ−OH値を制御するために、使用する原料の含水量を選択する等の処理を行う。
(もっと読む)
半導体パッケージ用カバーガラス及びその製造方法
【課題】 プラスチックパッケージに適合する熱膨張係数を有し、また画像検査で異物や塵等の有無を正確に検知することができ、またα線放出量が常に少ない半導体パッケージ用カバーガラスとその製造方法を提供する。
【解決手段】 質量%で、SiO2 〜75%、Al2O3 1.1〜20%、B2O3 0〜10%、Na2O 0.1〜20%、K2O 0〜11%、アルカリ土類金属酸化物 0〜20%含有し、30〜380℃の温度範囲における平均熱膨張係数が90〜180×10−7/℃、ヤング率が68GPa以上、ガラスからのα線放出量が、0.05c/cm2・hr以下であることを特徴とする。
(もっと読む)
カバーガラスおよびその製造方法
【課題】 ガラスのエッチング速度と耐失透性を両立させ、生産性を向上させることが可能なカバーガラスを提供する。
【解決手段】
ダウンドロー法により製造される化学強化用ガラス基板を化学強化し、表面に圧縮応力層が形成された化学強化ガラス基板からなり、該化学強化用ガラス基板は、質量%表示で、SiO2 50〜70%、Al2O3 5〜20%、Na2O 6〜20%、K2O 0〜10%、MgO 0〜10%、CaO 2%超〜20%およびZrO2 0〜4.8%を含み、かつ(1)SiO2含有率−1/2Al2O3含有率が46.5〜59%、(2)CaO/RO(ただし、RはMg、Ca、SrおよびBaの中から選ばれる少なくとも1種である。)含有量比が0.3超である、(3)SrO含有率+BaO含有率が10%未満である、(4)(ZrO2+TiO2)/SiO2含有量比が0〜0.07未満である、および(5)B2O3/R12O(ただし、R1はLi、NaおよびKの中から選ばれる少なくとも1種である。)含有量比が0〜0.1未満である、ことを特徴とするカバーガラスである。
(もっと読む)
硫化物固体電解質ガラス、リチウム固体電池および硫化物固体電解質ガラスの製造方法
【課題】Liイオン伝導性が高い硫化物固体電解質ガラスを提供する。
【解決手段】GaS33−構造を主成分とするイオン伝導体と、LiIとを有することを特徴とする硫化物固体電解質ガラス。LiI(LiI成分)を有するため、Liリッチとなり、Liイオン伝導性が高い硫化物固体電解質ガラスとすることができる。また、GaS33−構造は、水(水分を含む)と接触しても、その構造が変化しないため、水に対する安定性が高い。
(もっと読む)
無アルカリガラス基板の製造方法
【課題】清澄剤としてAs2O3を使用しなくても、表示欠陥となる泡が存在しない無アルカリガラス基板を製造することができる製造方法を提供する。
【解決手段】質量百分率でSiO2 50〜70%、Al2O3 10〜25%、B2O3 5〜20%、MgO 0〜10%、CaO 0〜15%、BaO 0〜10%、SrO 0〜10%、ZnO 0〜5%を含有し、かつSnO2及び/又はSb2O3を含むガラスとなるようにガラス原料調合物を用意し、該ガラス原料調合物を溶融し、成形して無アルカリガラス基板を製造する無アルカリ基板の製造方法であって、β−OH値が0.485/mm〜0.65/mmとなるようにガラス中の水分量を調節する。
(もっと読む)
プラズマディスプレイパネル用誘電体材料
【課題】 600℃以下の温度で焼成することができ、焼成時に分相せず、Ag電極との反応による黄変が少なく、高い透過率と低い誘電率を有する誘電体層を得ることが可能なプラズマディスプレイパネル用誘電体材料及びそれを用いて形成された誘電体層を備えてなるプラズマディスプレイパネル用ガラス板を提供することである。
【解決手段】 本発明のプラズマディスプレイパネル用誘電体材料は、B2O3−SiO2系ガラス粉末からなるプラズマディスプレイパネル用誘電体材料であって、該ガラス粉末が、実質的にPbOを含まず、モル百分率で、B2O3 26〜45%、SiO2 42超〜57%、Al2O3 1〜8%、Na2O 0〜10%、K2O 1〜15%、Na2O+K2O 4〜20%、ZnO 0〜5%、CuO+MoO3+CeO2+MnO2+CoO 0〜6%含有するガラスからなることを特徴とする。
(もっと読む)
携帯機器用カバーガラスのガラス基材
【課題】主表面と、端面とで構成されるエッジ部が鋭利な形状とならず、しかも機械的強度が高い携帯機器用カバーガラスのガラス基材を提供する。
【解決手段】板状のガラス基板1をエッチングすることにより所望の形状に切り抜かれてなり、主表面11,12及び端面13を持つ携帯機器用カバーガラスのガラス基材1であって、前記主表面11,12と前記端面13とで構成されるエッジ部14は、UL(Underwriters Laboratories)−1439に準拠するシャープエッジテストで表面から2層が切断されないエッジであり、前記ガラス基材1は、イオン交換処理により化学強化されたガラスとする。
(もっと読む)
酸化防止剤、酸化防止剤の製造方法及び金属材の製造方法
【課題】加熱される金属素材の表面にスケールが生成されるのを従来よりも抑制できる酸化防止剤を提供する。
【解決手段】軟化点の異なる複数のガラスフリットと、600℃以下の融点を有する無機化合物とを含有する酸化防止剤。無機化合物は、主として600℃前後の低温域で軟化する。複数のガラスフリットは、主として600℃〜1300℃の温度域で軟化する。そのため、酸化防止剤は、広い温度域で金属素材表面を覆い、金属素材表面が酸化してスケールを生成するのを抑制する。
(もっと読む)
ディスプレイ装置用のガラスおよびガラス板
【課題】低温かつ短時間で化学強化できるディスプレイ装置用ガラスを提供する。
【解決手段】下記酸化物基準のモル百分率表示で、SiO2を61〜72%、Al2O3を8〜17%、Li2Oを6〜18%、Na2Oを2〜15%、K2Oを0〜8%、MgOを0〜6%、CaOを0〜6%、TiO2を0〜4%、ZrO2を0〜2.5%含有し、Li2O、Na2OおよびK2Oの含有量の合計R2Oが15〜25%、Li2Oの含有量とR2Oの比Li2O/R2Oが0.35〜0.8、MgOおよびCaOの含有量の合計が0〜9%であるディスプレイ装置用ガラス。
(もっと読む)
電子デバイス及びその製造方法
【課題】2枚のガラス基板間にスペーサを配置して封止する際に、レーザ封着によるスペーサやガラス基板のクラックや割れ等の発生を抑制することによって、封止性やその信頼性を高めた電子デバイスとその製造方法を提供する。
【解決手段】電子デバイスは、第1のガラス基板2と第2のガラス基板3とこれらガラス基板2、3間に設けられる電子素子部とを具備する。第1のガラス基板2と第2のガラス基板3との間は、スペーサ6と第1の封着層7と第2の封着層8とで封着される。第2の封着層8はレーザ光を吸収する第2の封着用ガラス材料のレーザ光による溶融固着層からなる。第2の封着層8はガラス基板2、3の積層方向を含む断面において、第1の封着層7と該積層方向に重ならないように配置されている。
(もっと読む)
プラズマディスプレイパネル
【課題】本発明は、高信頼性を確保し、さらに環境問題に配慮したプラズマディスプレイパネルを実現することを目的としている。
【解決手段】上記の課題を解決するために、本発明のプラズマディスプレイパネルは、一方の基板上に表示電極と誘電体層とが形成されたプラズマディスプレイパネルであって、誘電体層が、ビスマス成分、鉛成分を含まず、CuOとCoOのモル%で表現される含有量の合計が0.3%より大きく0.6%以下であることを特徴とする。
(もっと読む)
強化ガラス基板及びその製造方法
【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを提供する。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する科学的に強化されたガラス基板であって、ガラス組成として、質量%でSiO240〜71%、Al2O33〜21%、Li2O0〜3.5%、Na2O7〜20%、K2O0〜15%、SnO20.01〜3%、Sb2O30〜0.1%未満、F0〜0.1%未満を含有するガラス基板であることを特徴とする。
(もっと読む)
光学材料
【課題】光学材料の応答特性をより高速にする。
【解決手段】光学材料は、母体101と、母体101に分散された半導体からなる複数の微結晶102とを備える。母体101は、微結晶102を構成する半導体より大きなバンドギャップエネルギーを有する材料から構成されている。また、複数の微結晶102の粒径分布の平均値は、微結晶102の内部の原子数に対する微結晶102の表面の原子数の割合が、1より大きくなる値とされている。
(もっと読む)
結晶性封着材料
【課題】二次焼成工程で良好に軟化流動した後に、結晶が十分に析出する結晶性封着材料を提供する。
【解決手段】ビスマス系ガラス粉末と耐火性フィラーを含む結晶性封着材料において、ビスマス系ガラス粉末が、ガラス組成として、モル%で、Bi2O330〜40%、B2O315〜25%、ZnO30〜40%、CuO0〜25%、Fe2O30〜5%を含有し、且つ耐火性フィラーとして、ZnO含有耐火性フィラー及びコーディエライトを含むことを特徴とする結晶性封着材料。
(もっと読む)
ガラスセラミックス、その製造方法、及び誘電体ガラスセラミックス成形体
【課題】高周波電子部品の回路基板材料等の用途に利用可能な、誘電率εが高く、温度特性τεの絶対値が小さい誘電体材料を提供する。
【解決手段】ガラスセラミックスは、酸化物換算組成の全物質量に対して、モル%でTiO2を5〜50%、SrOを3〜50%、及び、SiO2を15〜85%を含有し、SrTiO3結晶及び/又はその固溶体を含有する。ガラスセラミックスは、好ましくは誘電率εが20以上であり、Q値が1000より大きく、誘電率εの温度特性τεの絶対値が300未満である。
(もっと読む)
プラズマディスプレイパネル用誘電体形成ガラスペースト
【課題】600℃以下の温度で十分に焼成でき、より低い誘電率と高い透過率を有する誘電体層を得ることが可能なプラズマディスプレイパネル用誘電体形成ガラスペーストを提供することである。
【解決手段】本発明のプラズマディスプレイパネル用誘電体形成ガラスペーストは、B2O3−SiO2系ガラス粉末、シロキサン樹脂及び溶剤を含むプラズマディスプレイパネル用誘電体形成ガラスペーストであって、D線(波長587.6nm)におけるB2O3−SiO2系ガラス粉末とシロキサン樹脂との屈折率差が絶対値で0.1未満であることを特徴とする。
(もっと読む)
結晶性ガラス
【課題】内部の気泡が少ないため薄型化しても配線の断線を引き起こしにくく、かつ高性能な高周波回路に十分対応可能な低誘電損失特性を有するガラスセラミック誘電体に好適な結晶性ガラスを提供する。
【解決手段】組成として質量%で、SiO2 50〜65%、CaO 20超〜27%(ただし、モル比でCaO/SiO2が0.5未満または0.55以上)、MgO 12〜25%、Al2O3 0.01〜0.5%未満を含有し、主結晶としてディオプサイド結晶を析出することを特徴とする結晶性ガラス。
(もっと読む)
高周波領域における誘電体としてのガラスセラミック
【課題】高周波領域で使用するための誘電体、特に誘電体共振器、電子周波数フィルタ素子、またはアンテナ素子として特に適するガラスセラミックを提供する。
【解決手段】ガラスセラミックは、酸化物基準のモル%で、少なくとも、5〜50%のSiO2と、0〜20%のAl2O3と、0〜25%のB2O3と、0〜25%のBaOと、10〜60%のTiO2と、5〜35%のRE2O3とを構成成分として有する。ここで、Baは部分的にSr、Ca、Mgで置換でき、REはランタニドまたはイットリウムであり、Tiは部分的にZr、Hf、Y、Nb、V、Taで置換できる。
(もっと読む)
組成物およびこれを用いた焼成物
【課題】ディスプレイ部材や回路部材において、パターンに用いられる組成物で、塗布可能で、かつ低温で有機成分を熱分解でき、焼成後に高強度な材料を得ることができる焼成用組成物およびこれを用いた焼成物をより安全に提供する。
【解決手段】リオトロピック液晶と、低軟化点ガラスを含む塗布に適したレオロジー特性を有する組成物であり、リオトロピック液晶の熱分解温度が300℃以下で、低軟化点ガラスの軟化点よりも40℃以上低いものである。
(もっと読む)
21 - 40 / 194
[ Back to top ]