【課題】
軽量であってかつ環境負荷を低減しつつ高い清澄性を有する表示装置用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】
ガラス原料バッチを溶融および清澄して、質量％表示で、ＳｉＯ_２ ５０〜７０％、Ｂ_２Ｏ_３ ５〜１８％、Ａｌ_２Ｏ_３ １０〜２５％、ＭｇＯ ０〜１０％、ＣａＯ ０〜２０％、ＳｒＯ ０〜２０％、ＢａＯ０〜１０％、ＲＯ ５〜２０％（ただしＲはＭｇ、Ｃａ、ＳｒおよびＢａから選ばれる少なくとも１種である）、Ｒ’_２Ｏ ０．２０％以上２．０％以下（ただしＲ’はＬｉ、ＮａおよびＫから選ばれる少なくとも１種である）を含むとともに、溶融ガラス中で価数変動する金属の酸化物を合計で０．０５〜１．５％含み、Ａｓ_２Ｏ_３、Ｓｂ_２Ｏ_３およびＰｂＯを実質的に含まないガラスを製造し、得られたガラスを薄板状に加工して、表示装置用ガラス基板を製造することを特徴とする表示装置用ガラス基板の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】発熱琺瑯釉薬およびここに塗布された発熱容器の提供。
【解決手段】本発明はマグネトロンを用いて食物を調理する電子レンジに用いられる発熱容器に係り、電子レンジの調理室の食物が高周波によって調理されるようにマグネトロンから発せられる高周波を一部吸収して発熱される発熱容器において、発熱琺瑯釉薬を製造し、琺瑯用金属材質（低炭素琺瑯用鋼板、アルミニウム、ステンレス鋼）の容器に前記製造された発熱琺瑯釉薬を塗布し、乾燥後にガラス化焼成して冷却して製造する電子レンジ用発熱琺瑯容器を製作することにより、既存の発熱容器製品（シリコンゴム＋フェライト）よりも高温下でも耐え、かつ高い発熱性能を持たせることにより高級化を図ることができる。
上記の発熱琺瑯釉薬の製造方法は、琺瑯処理に常用される釉薬（ガラス質のフリット）に高透磁率のフェライト（ＭｎＺｎ系、ＭｇＣｕＺｎ系、ＮｉＺｎ系）および金属軟磁性材料（Ｆｅ−Ｓｉ系、Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ系、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｂ系、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｂ−Ｃｏ系、Ｆｅ−Ｎｉ系の他）合金粉末をそれぞれ別々にまたは混合添加して製造することにより、電子レンジにおいてマイクロウェーブ（２．４５ＧＨｚ）を吸収して熱エネルギーに切り換わるような発熱特性が与えられる発熱琺瑯釉薬を製造することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】Ｌｉ_２Ｏ成分を含有していても低い平均線膨張係数を有し、熱間加工においても失透が生じず、比較的低温での溶融が可能であるガラスを提供すること。
【解決手段】 酸化物基準の質量％で、ＳｉＯ_２成分、Ｂ_２Ｏ_３成分、Ａｌ_２Ｏ_３成分およびＬｉ_２Ｏ成分を含有し、これらの成分の合量が９０％以上であり、これらの成分の質量％の比Ｌｉ_２Ｏ／Ａｌ_２Ｏ_３が０．９以上であり、０〜３００℃における平均線膨張係数が３０×１０^−７℃^−１以下であるガラス。 （もっと読む）

【課題】レーザ封着を適用するにあたって、封着層の線幅やガラス基板間の間隔を狭小化する場合においても、ガラス基板と封着層との接着強度を高めることを可能にする。
【解決手段】ガラス基板３は封止領域に形成された溝６を有し、溝６内に封着ガラスと低膨張充填材とレーザ吸収材とを含有する封着用ガラス材料の焼成層からなる封着材料層５が設けられている。封着材料層５はその上部が溝６から突出するように設けられている。このようなガラス基板３と電子素子を備える素子形成領域２ａを有するガラス基板２とを積層し、封着材料層５にガラス基板３側からレーザ光７を照射して溶融させることによって、ガラス基板２、３間を封着する。 （もっと読む）

粗く起伏がある表面をもつセラミックマトリクス複合材料からなる部品の表面を平滑化する方法。前記方法は、耐熱ガラス質コーティングに部品の表面上で堆積させること（９０）を含み、前記ガラス質コーティングはシリカ、アルミナ、バライト、および石灰を実質的に含有する。
（もっと読む）

【課題】高い耐候性及び耐ソラリゼーション性を備えつつ、高い紫外線透過特性を有し、かつ環境に配慮された固体撮像素子パッケージ用窓ガラスを提供する。
【解決手段】質量％で、ＳｎＯ_２ ０〜０．１％、Ｎｂ_２Ｏ_５ ０〜０．２％、（ただし、ＳｎＯ_２＋Ｎｂ_２Ｏ_５ ０．００１〜０．２％）、Ｆｅ_２Ｏ_３ ０．０００１〜０．００５％を含有し、実質的にＡｓ_２Ｏ_３、Ｓｂ_２Ｏ_３、ＰｂＯ、ＴｉＯ_２、ＣｅＯ_２を含有せず、アルカリ金属酸化物を含む硼珪酸系ガラスからなる固体撮像素子パッケージ用窓ガラス。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶＬ用露光装置の光学系部材として好適な、高ＥＵＶエネルギー光の照射時の線熱膨張係数がほぼゼロとなるＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラスの提供。
【解決手段】ハロゲン含有量が１００質量ｐｐｍ以上であり、仮想温度が１１００℃以下であり、２０〜１００℃の平均線熱膨張係数が３０ｐｐｂ／℃以下であり、線熱膨張係数が０±５ｐｐｂ／℃となる温度幅ΔＴが５℃以上であり、線熱膨張係数が０ｐｐｂ／℃となる温度が３０〜１５０℃の範囲にあることを特徴とするＴｉＯ₂を含有するシリカガラス。 （もっと読む）

【課題】複数のガラス体を融着させることにより大質量ガラス体を作製することを可能とするＥＵＶリソグラフィ用ガラスの成型方法の提供。
【解決手段】２以上のガラス体を１０Ｔｏｒｒ以下の雰囲気で徐冷点〜軟化点のいずれかの温度に昇温し融着した後、１００Ｔｏｒｒを越える雰囲気で軟化点〜軟化点＋２５０℃にて成型することを特徴とするＥＵＶリソグラフィ用ガラスの成型方法。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶＬ用露光装置の光学系部材として好適な熱膨張特性を有するＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラスの提供。
【解決手段】ＴｉＯ₂含有量が３〜９質量％であり、熱膨張係数が０ｐｐｂ／℃となる温度が１５〜３５℃の範囲にあり、仮想温度が８５０℃以下であり、熱膨張係数が０±５ｐｐｂ／℃となる温度幅が７．８℃以上であることを特徴とするＴｉＯ₂を含有するシリカガラス。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶＬ用露光装置の光学系部材として使用した場合に、高ＥＵＶエネルギー光の照射時の線熱膨張係数がほぼゼロとなり、かつ超高平滑性を有するＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラスの提供。
【解決手段】ＴｉＯ₂含有量が７．５〜１２質量％であり、線熱膨張係数が０ｐｐｂ／℃となる温度が４０〜１１０℃の範囲にあり、脈理の応力レベルの標準偏差（σ）が０．０３ＭＰａ以下であることを特徴とするＴｉＯ₂を含有するシリカガラス。 （もっと読む）

【課題】未融解珪砂の発生が少なく均質性に優れ、しかもガラス中に泡が少ない無アルカリガラスを得ることができる製造方法を提供する。
【解決手段】珪素源を含有するガラス原料を溶融し、ガラスを得る無アルカリガラスの製造方法において、前記ガラス原料に、粒径Ｄ_５０が５〜１５０μｍ、かつ粒径Ｄ_９０が５０〜５００μｍのＳｒＣＯ_３及び、粒径Ｄ_５０が５０〜５００μｍ、かつ粒径Ｄ_９０が３００〜１０００μｍのＳｒＣｌ_２を用いることを特徴とする無アルカリガラスの製造方法を採用する。 （もっと読む）

【課題】ＳｎＯ−Ｐ_２Ｏ_５系ガラスからなる液滴ガラスの最大質量および質量精度を高め、金属製真空二重容器等の気密性を向上させる液滴成形用ノズを提供する。
【解決手段】液滴成形用ノズル３は、液滴ガラスの成形に用いる液滴成形用ノズル３において、ＳｎＯ−Ｐ_２Ｏ_５系ガラスからなる液滴ガラスの成形に用いるとともに、ノズル内部にノズル先端からの距離が１０ｍｍ以下の領域に形成され、棒状体を結合させた構造を有する流速制御部４を有する。 （もっと読む）

緊密に封止されたガラスパッケージを製造するためのフリットに使用するのに適した、アンチモンを含まないガラスについて記載される。ＯＬＥＤディスプレイ装置などの緊密に封止されたガラスパッケージは、第１のガラス基板プレートおよび第２のガラス基板プレートを提供し、アンチモンを含まないフリットを前記第１の基板プレート上に積層することによって製造される。ＯＬＥＤは、前記第２のガラス基板プレート上に積層されうる。次に、照射源（例えば、レーザー、赤外線）を用いて、第１のガラス基板プレートを第２のガラス基板プレートに接続し、ＯＬＥＤを保護するための緊密封止を溶融および形成するフリットを加熱する。アンチモンを含まないガラスは、優れた耐水性、良好な流れ、低いガラス転移温度および低い熱膨張率を有する。
（もっと読む）

【課題】透光面を研磨することなく平滑にすることによって、研磨に伴う各種問題を解消する半導体パッケージ用カバーガラスを提供する。
【解決手段】半導体パッケージ用カバーガラス１０は、板厚方向に相対向する第１透光面１０ａ及び第２透光面１０ｂと、周縁を構成する側面１０ｃとを備えた板状ガラスである。このカバーガラス１０の寸法は、１４×１６×０．５ｍｍであり、第１透光面１０ａ及び第２透光面１０ｂは無研磨面であり、その表面粗さ（Ｒａ）は、いずれも０．５ｎｍ以下である。 （もっと読む）

本発明は、高温石英混合結晶を主な結晶相として有し、避けることのできない極微量を除いては、清澄剤用の酸化ヒ素及び／又は酸化アンチモンを含まないガラスセラミックからなる、カラー表示能力が改善された透明な有色クックトップ又はハブであって、４５０ｎｍより大きい可視光の全波長範囲における０．１％を超える透過率、０．８％〜２．５％の可視光透過率、及び４５％〜８５％の１６００ｎｍの赤外線における透過率を特徴とする、クックトップ又はハブに関する。 （もっと読む）

【課題】鉛及びビスマスを含有しない組成を有し、比較的低い熱膨張係数及び軟化点を有するとともに耐薬品性に優れたガラス組成物を提供する。
【解決手段】無鉛無ビスマスガラス組成物であって、（１）ａ）ＳｉＯ_２：０．１重量％以上５重量％以下、ｂ）Ｂ_２Ｏ_３：２６重量％以上６０重量％以下、ｃ）ＺｎＯ：３０重量％以上６０重量％以下、ｄ）Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ及びＫ_２Ｏの少なくとも１種：総和で０．１重量％以上５重量％以下、ｅ）Ａｌ_２Ｏ_３：０．１重量％以上３重量％未満を含有し、（２）前記ＺｎＯ／Ｂ_２Ｏ_３の比が０．５〜２であり、（３）５０〜３５０℃における熱膨張係数が６５×１０^−７／℃以下である、無鉛無ビスマスガラス組成物に係る。 （もっと読む）

【課題】Ａｓ成分、Ｓｂ成分を含有しなくとも良好な清澄効果と高い生産性を両立する低熱膨張性ガラスを提供すること。
【解決手段】酸化物基準でＳｉＯ_２成分、Ａｌ_２Ｏ_３成分、Ｂ_２Ｏ_３成分、ＣｅＯ_２および／またはＳｎＯ_２成分を含有し、
ＣｅＯ_２成分または／もしくはＳｎＯ_２成分の合計量γが
γ≧０．００５α＋０．０１８９β^２＋０．０１１β−５．５ （α；液相温度 β；Ｂ_２Ｏ_３成分の含有量）の関係を満足することを特徴とするガラス。 （もっと読む）

【課題】フロート法により成形する際に生じるガラス表層の失透を抑制し、表面着色や表面欠陥を低減したＬＡＳ系フロートガラス、およびＬＡＳ系フロートガラスを結晶化させてなるＬＡＳ系結晶化ガラスを提供する。
【解決手段】Ａｓ_２Ｏ_３および／またはＳｂ_２Ｏ_３を実質的に含有せず、かつ熱処理によりβ−石英固溶体またはβ−スポジュメン固溶体が主結晶として析出するＬＡＳ系フロートガラスであって、
ガラス表面のＳｎＯ_２含有量をＣ_１〔質量％〕、ガラス表面から０．５ｍｍ内部におけるＳｎＯ_２含有量をＣ_０〔質量％〕、およびＳｎＯ_２濃度勾配ｋ＝（Ｃ_１−Ｃ_０）／０．５〔質量％／ｍｍ〕としたとき、少なくとも一方の面において、
ｋ≦２ かつ Ｃ_０≦０．８
の関係を満たすことを特徴とするＬＡＳ系フロートガラス。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶＬ用露光装置の光学系部材として好適な熱膨張特性を有するＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラスの提供。
【解決手段】熱膨張係数が０ｐｐｂ／℃となる温度が２３±４℃の範囲内にあり、熱膨張係数が０±５ｐｐｂ／℃となる温度幅が５℃以上であることを特徴とするＴｉＯ₂を含有するシリカガラス。 （もっと読む）

【課題】Ａｓ成分、Ｓｂ成分を含有しなくとも良好な清澄効果を示し、化学的耐久性に優れた低熱膨張性ガラスを提供すること。
【解決手段】酸化物基準でＳｉＯ_２成分、Ａｌ_２Ｏ_３成分、ＣｅＯ_２および／またはＳｎＯ_２成分を含有し、Ｂ_２Ｏ_３成分の含有量が０．１％未満であり、
ＣｅＯ_２成分または／もしくはＳｎＯ_２成分の合計量γが
γ≧０．００５α−５．２５ （α；液相温度）の関係を満足することを特徴とするガラス。さらに好ましくは酸化物基準の質量％でＳｉＯ_２成分を４５〜６８％、Ａｌ_２Ｏ_３成分を１６〜３５％含有する。 （もっと読む）